JPH05166709A - 電子ビーム露光用乾板及びその製造方法 - Google Patents
電子ビーム露光用乾板及びその製造方法Info
- Publication number
- JPH05166709A JPH05166709A JP33467391A JP33467391A JPH05166709A JP H05166709 A JPH05166709 A JP H05166709A JP 33467391 A JP33467391 A JP 33467391A JP 33467391 A JP33467391 A JP 33467391A JP H05166709 A JPH05166709 A JP H05166709A
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- Japan
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- electron beam
- beam exposure
- dry plate
- film
- metal oxide
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 電子ビーム露光用乾板の改良及びその製造方
法の改良に関し、電子ビーム露光中に発生するチャージ
アップを簡単且つ容易に完全に除去することが可能とな
る電子ビーム露光用乾板及びその製造方法の提供を目的
とする。 【構成】 ガラス基板１の表面に純金属膜２、酸化金属
膜３及びレジスト膜４を積層して形成した電子ビーム露
光用乾板において、この電子ビーム露光用乾板の周辺部
のこのレジスト膜４及びこの酸化金属膜の一部を除去す
るように構成する。
法の改良に関し、電子ビーム露光中に発生するチャージ
アップを簡単且つ容易に完全に除去することが可能とな
る電子ビーム露光用乾板及びその製造方法の提供を目的
とする。 【構成】 ガラス基板１の表面に純金属膜２、酸化金属
膜３及びレジスト膜４を積層して形成した電子ビーム露
光用乾板において、この電子ビーム露光用乾板の周辺部
のこのレジスト膜４及びこの酸化金属膜の一部を除去す
るように構成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、電子ビーム露光用乾板
の改良及びその製造方法の改良に関するものである。
の改良及びその製造方法の改良に関するものである。
【０００２】近年の半導体装置の高集積化に伴う微細化
により、レチクル或いはマスクのパターンの寸法のみな
らず、パターンの配置精度やパターンのつなぎ部の形状
に対しても高い精度が要求されており、電子ビームの露
光によりパターンを描画する際に乾板に発生するチャー
ジアップのためにマスクのパターンの寸法不良やパター
ンの配置精度不良やパターンのつなぎ部の形状不良が発
生している。
により、レチクル或いはマスクのパターンの寸法のみな
らず、パターンの配置精度やパターンのつなぎ部の形状
に対しても高い精度が要求されており、電子ビームの露
光によりパターンを描画する際に乾板に発生するチャー
ジアップのためにマスクのパターンの寸法不良やパター
ンの配置精度不良やパターンのつなぎ部の形状不良が発
生している。
【０００３】以上のような状況から、電子ビームの露光
によりパターンを描画する際にチャージアップが乾板に
発生するのを防止することが可能な電子ビーム露光用乾
板及び製造方法が要望されている。
によりパターンを描画する際にチャージアップが乾板に
発生するのを防止することが可能な電子ビーム露光用乾
板及び製造方法が要望されている。
【０００４】
【従来の技術】従来の電子ビーム露光用乾板について図
４により、電子ビーム露光用乾板の製造方法について図
５〜図６により詳細に説明する。
４により、電子ビーム露光用乾板の製造方法について図
５〜図６により詳細に説明する。
【０００５】図４は従来の電子ビーム露光用乾板を示す
図、図５は従来の電子ビーム露光用乾板の製造に用いる
マスクを示す図、図６は従来の電子ビーム露光用乾板の
製造方法を工程順に示す図である。
図、図５は従来の電子ビーム露光用乾板の製造に用いる
マスクを示す図、図６は従来の電子ビーム露光用乾板の
製造方法を工程順に示す図である。
【０００６】従来の電子ビーム露光用乾板は、図４に示
すようにガラス基板21の表面に純金属膜22、酸化金属膜
23及びレジスト膜24を形成し、電子ビーム露光用乾板の
周辺部の前記レジスト膜24の一部を除去して酸化金属膜
23を露出させたものである。
すようにガラス基板21の表面に純金属膜22、酸化金属膜
23及びレジスト膜24を形成し、電子ビーム露光用乾板の
周辺部の前記レジスト膜24の一部を除去して酸化金属膜
23を露出させたものである。
【０００７】このような電子ビーム露光用乾板を製造す
るには、レジスト膜24がネガレジストからなる場合に
は、図５(a) に示すようなネガレジストを除去する部分
に遮光部10a を有し、他の部分が透過部10b となってい
るマスク10を用い、レジスト膜24がポジレジストからな
る場合には、図５(b) に示すようなポジレジストを除去
する部分に透過部11b を有し、他の部分が遮光部11a と
なっているマスク11を用いる。
るには、レジスト膜24がネガレジストからなる場合に
は、図５(a) に示すようなネガレジストを除去する部分
に遮光部10a を有し、他の部分が透過部10b となってい
るマスク10を用い、レジスト膜24がポジレジストからな
る場合には、図５(b) に示すようなポジレジストを除去
する部分に透過部11b を有し、他の部分が遮光部11a と
なっているマスク11を用いる。
【０００８】このようなマスクを用いて電子ビーム露光
用乾板を製造する場合には図６(a)に示すように、レジ
スト膜の材料に応じてこのマスク10或いはマスク11を用
い、除去すべきレジスト膜24を露光して現像すると、こ
の部分のレジスト膜24を除去してその下層の酸化金属膜
23を露出させることができる。
用乾板を製造する場合には図６(a)に示すように、レジ
スト膜の材料に応じてこのマスク10或いはマスク11を用
い、除去すべきレジスト膜24を露光して現像すると、こ
の部分のレジスト膜24を除去してその下層の酸化金属膜
23を露出させることができる。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】以上説明した従来の製
造方法により製造した電子ビーム露光用乾板を用いて電
子ビームによりパターンを描画する場合には、チャージ
アップを防止するために図７に示すように導通針12をレ
ジスト膜24を除去した部分の酸化金属膜23の表面に接触
させているが、充分な導通をとることができないので、
電子ビーム露光中に発生するチャージアップを完全に取
り除くことができないという問題点があった。
造方法により製造した電子ビーム露光用乾板を用いて電
子ビームによりパターンを描画する場合には、チャージ
アップを防止するために図７に示すように導通針12をレ
ジスト膜24を除去した部分の酸化金属膜23の表面に接触
させているが、充分な導通をとることができないので、
電子ビーム露光中に発生するチャージアップを完全に取
り除くことができないという問題点があった。
【００１０】本発明は以上のような状況から、電子ビー
ム露光中に発生するチャージアップを簡単且つ容易に完
全に除去することが可能となる電子ビーム露光用乾板及
びその製造方法の提供を目的としたものである。
ム露光中に発生するチャージアップを簡単且つ容易に完
全に除去することが可能となる電子ビーム露光用乾板及
びその製造方法の提供を目的としたものである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明の電子ビーム露光
用乾板は、ガラス基板の表面に純金属膜、酸化金属膜及
びレジスト膜を積層して形成した電子ビーム露光用乾板
において、この電子ビーム露光用乾板の周辺部のこのレ
ジスト膜及びこの酸化金属膜の一部を除去するように構
成する。
用乾板は、ガラス基板の表面に純金属膜、酸化金属膜及
びレジスト膜を積層して形成した電子ビーム露光用乾板
において、この電子ビーム露光用乾板の周辺部のこのレ
ジスト膜及びこの酸化金属膜の一部を除去するように構
成する。
【００１２】本発明の電子ビーム露光用乾板の製造方法
は、上記の電子ビーム露光用乾板の製造方法において、
レーザ発振装置から出されたレーザ光を減衰器により減
衰し、集光レンズにより集光してこのレジスト膜に照射
し、このレジスト膜を除去する工程と、このレジスト膜
を除去した後、この酸化金属膜にこのレーザ光を照射
し、この酸化金属膜を除去する工程とを含むように構成
する。
は、上記の電子ビーム露光用乾板の製造方法において、
レーザ発振装置から出されたレーザ光を減衰器により減
衰し、集光レンズにより集光してこのレジスト膜に照射
し、このレジスト膜を除去する工程と、このレジスト膜
を除去した後、この酸化金属膜にこのレーザ光を照射
し、この酸化金属膜を除去する工程とを含むように構成
する。
【００１３】
【作用】即ち本発明の電子ビーム露光用乾板において
は、レーザ光を用いてレジスト膜及び酸化金属膜を溶融
して蒸発させて除去するから、純金属膜２を露出させる
ことが可能であり、電子ビームを用いてパターンを描画
する場合に、導通針をこの純金属膜に接触させることに
より、チャージアップが発生しなくなり、マスクのパタ
ーンの寸法不良やパターンの配置精度不良やパターンの
つなぎ部の形状不良が発生するのを防止することが可能
となる。
は、レーザ光を用いてレジスト膜及び酸化金属膜を溶融
して蒸発させて除去するから、純金属膜２を露出させる
ことが可能であり、電子ビームを用いてパターンを描画
する場合に、導通針をこの純金属膜に接触させることに
より、チャージアップが発生しなくなり、マスクのパタ
ーンの寸法不良やパターンの配置精度不良やパターンの
つなぎ部の形状不良が発生するのを防止することが可能
となる。
【００１４】
【実施例】以下図１〜図３により本発明の一実施例につ
いて詳細に説明する。図１は本発明による一実施例の電
子ビーム露光用乾板を示す図、図２は本発明による一実
施例の電子ビーム露光用乾板の製造方法を工程順に示す
図、図３は本発明による一実施例の電子ビーム露光用乾
板の製造に用いるレーザ照射装置を示す図である。
いて詳細に説明する。図１は本発明による一実施例の電
子ビーム露光用乾板を示す図、図２は本発明による一実
施例の電子ビーム露光用乾板の製造方法を工程順に示す
図、図３は本発明による一実施例の電子ビーム露光用乾
板の製造に用いるレーザ照射装置を示す図である。
【００１５】本発明による一実施例の電子ビーム露光用
乾板は、図１に示すようにガラス基板１の表面に純金属
膜２、酸化金属膜３及びレジスト膜４を形成し、電子ビ
ーム露光用乾板の周辺部の前記レジスト膜４及び酸化金
属膜３の一部を除去して純金属膜２を露出させたもので
ある。
乾板は、図１に示すようにガラス基板１の表面に純金属
膜２、酸化金属膜３及びレジスト膜４を形成し、電子ビ
ーム露光用乾板の周辺部の前記レジスト膜４及び酸化金
属膜３の一部を除去して純金属膜２を露出させたもので
ある。
【００１６】このような電子ビーム露光用乾板を製造す
るには、まず図３に示すように乾板ホルダー５にガラス
基板１，純金属膜２，酸化金属膜３，レジスト膜４から
なる電子ビーム露光用乾板を載置し、レーザ発振装置６
から出されたレーザ光７を減衰器８により処理する材料
に適した強度に減衰し、集光レンズ９により集光してこ
のレジスト膜４に照射し、図２(a) に示すようにこのレ
ジスト膜４を溶融して蒸発させて除去する。
るには、まず図３に示すように乾板ホルダー５にガラス
基板１，純金属膜２，酸化金属膜３，レジスト膜４から
なる電子ビーム露光用乾板を載置し、レーザ発振装置６
から出されたレーザ光７を減衰器８により処理する材料
に適した強度に減衰し、集光レンズ９により集光してこ
のレジスト膜４に照射し、図２(a) に示すようにこのレ
ジスト膜４を溶融して蒸発させて除去する。
【００１７】ついでこの酸化金属膜３にこのレーザ光７
を照射し、図２(b) に示すようにこの酸化金属膜３を溶
融して蒸発させて除去する。この酸化金属膜３を除去し
て純金属膜２の表面を露出させる場合には、両者のレー
ザ光７により受けるダメージの度合いが似ているので、
レーザ光７を微小角度傾斜させて照射して酸化金属膜３
を除去してゆき、この微小角度傾斜した純金属膜２の表
面を電子ビーム露光用乾板の端部に露出させることがで
きる。
を照射し、図２(b) に示すようにこの酸化金属膜３を溶
融して蒸発させて除去する。この酸化金属膜３を除去し
て純金属膜２の表面を露出させる場合には、両者のレー
ザ光７により受けるダメージの度合いが似ているので、
レーザ光７を微小角度傾斜させて照射して酸化金属膜３
を除去してゆき、この微小角度傾斜した純金属膜２の表
面を電子ビーム露光用乾板の端部に露出させることがで
きる。
【００１８】このようにしてレジスト膜４と酸化金属膜
３とを除去して純金属膜２を露出させた電子ビーム露光
用乾板の電気抵抗は約 100Ωになり、酸化金属膜３が残
存している従来の電子ビーム露光用乾板の電気抵抗が約
500Ωであるのに比して著しく電気抵抗を減少させるこ
とが可能となる。
３とを除去して純金属膜２を露出させた電子ビーム露光
用乾板の電気抵抗は約 100Ωになり、酸化金属膜３が残
存している従来の電子ビーム露光用乾板の電気抵抗が約
500Ωであるのに比して著しく電気抵抗を減少させるこ
とが可能となる。
【００１９】電子ビーム露光時のチャージアップによる
電子ビームのズレ量は0.25μm 以下が良品であるが、本
発明の製造方法により製造した乾板のずれ量と従来の製
造方法により製造した乾板のずれ量を比較すると、次の
表１に示すようにずれ量をほぼ半分に減少することが可
能である。
電子ビームのズレ量は0.25μm 以下が良品であるが、本
発明の製造方法により製造した乾板のずれ量と従来の製
造方法により製造した乾板のずれ量を比較すると、次の
表１に示すようにずれ量をほぼ半分に減少することが可
能である。
【００２０】
【表１】
【００２１】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば極めて簡単な製造方法の変更により、電子ビー
ム露光用乾板の電気抵抗を著しく減少させることが可能
となり、電子ビーム露光時のチャージアップを減少させ
ることにより電子ビーム描画精度を向上させることが可
能となる等の利点があり、著しい経済的及び、信頼性向
上の効果が期待できる電子ビーム露光用乾板及びその製
造方法の提供が可能である。
によれば極めて簡単な製造方法の変更により、電子ビー
ム露光用乾板の電気抵抗を著しく減少させることが可能
となり、電子ビーム露光時のチャージアップを減少させ
ることにより電子ビーム描画精度を向上させることが可
能となる等の利点があり、著しい経済的及び、信頼性向
上の効果が期待できる電子ビーム露光用乾板及びその製
造方法の提供が可能である。
【図１】 本発明による一実施例の電子ビーム露光用乾
板を示す図、
板を示す図、
【図２】 本発明による一実施例の電子ビーム露光用乾
板の製造方法を工程順に示す図、
板の製造方法を工程順に示す図、
【図３】 本発明による一実施例の電子ビーム露光用乾
板の製造に用いるレーザ照射装置を示す図、
板の製造に用いるレーザ照射装置を示す図、
【図４】 従来の電子ビーム露光用乾板を示す図、
【図５】 従来の電子ビーム露光用乾板の製造に用いる
マスクを示す図、
マスクを示す図、
【図６】 従来の電子ビーム露光用乾板の製造方法を工
程順に示す図、
程順に示す図、
【図７】 従来の電子ビーム露光用乾板の問題点を示す
図、
図、
１はガラス基板、 ２は純金属膜、 ３は酸化金属膜、 ４はレジスト膜、 ５は乾板ホルダー、 ６はレーザ発振装置、 ７はレーザ光、 ８は減衰器、 ９は集光レンズ、 10はマスク、 10aは遮光部、 10bは透過部、 11はマスク、 11aは遮光部、 11bは透過部、 12は導通針、
Claims (2)
- 【請求項１】 ガラス基板(1) の表面に純金属膜(2) 、
酸化金属膜(3) 及びレジスト膜(4) を積層して形成した
電子ビーム露光用乾板において、 該電子ビーム露光用乾板の周辺部の前記レジスト膜(4)
及び前記酸化金属膜(3)の一部を除去したことを特徴と
する電子ビーム露光用乾板。 - 【請求項２】 ガラス基板(1) の表面に純金属膜(2) 、
酸化金属膜(3) 及びレジスト膜(4) を積層して形成した
電子ビーム露光用乾板の製造方法において、 レーザ発振装置(6) から出されたレーザ光(7) を減衰器
(8) により減衰し、集光レンズ(9) により集光して前記
レジスト膜(4) に照射し、前記レジスト膜(4)を除去す
る工程と、 前記レジスト膜(4) を除去した後、前記酸化金属膜(3)
に前記レーザ光(7) を照射し、前記酸化金属膜(3) を除
去する工程と、 を含むことを特徴とする電子ビーム露光用乾板の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33467391A JPH05166709A (ja) | 1991-12-18 | 1991-12-18 | 電子ビーム露光用乾板及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33467391A JPH05166709A (ja) | 1991-12-18 | 1991-12-18 | 電子ビーム露光用乾板及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05166709A true JPH05166709A (ja) | 1993-07-02 |
Family
ID=18279972
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33467391A Withdrawn JPH05166709A (ja) | 1991-12-18 | 1991-12-18 | 電子ビーム露光用乾板及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05166709A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7226705B2 (en) | 2001-09-28 | 2007-06-05 | Hoya Corporation | Method of manufacturing a mask blank and a mask, the mask blank and the mask, and useless film removing method and apparatus |
-
1991
- 1991-12-18 JP JP33467391A patent/JPH05166709A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7226705B2 (en) | 2001-09-28 | 2007-06-05 | Hoya Corporation | Method of manufacturing a mask blank and a mask, the mask blank and the mask, and useless film removing method and apparatus |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990311 |