JPH05165142A

JPH05165142A - 感光体

Info

Publication number: JPH05165142A
Application number: JP33724791A
Authority: JP
Inventors: Masamitsu Uehara; 正光上原; Makoto Taniguchi; 谷口　　誠; Kazuhiko Kitamura; 和彦北村; Isao Mizuma; 功水間
Original assignee: Seiko Epson Corp
Current assignee: Seiko Epson Corp
Priority date: 1991-12-19
Filing date: 1991-12-19
Publication date: 1993-06-29

Abstract

(57)【要約】（修正有）【目的】複数種類の感光基を高分子の側鎖あるいは主鎖
に導入した感光体を画像形成装置の像形成体に用いるこ
とにより、感光基の光異性化による像形成体表面の濡れ
性の変化を段階的に調節し、使用インクに対する最適な
濡れ性を実現する。【構成】高分子の一般構造が下記の化合物１であるよう
な感光体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、感光体に関する。更に
詳細には、特定波長の光照射によって、双極子モーメン
ト、濡れ性、吸収スペクトル等の物性変化が制御可能な
感光体に関する。

【０００２】

【従来の技術】特開平１ー２５５８５７号公報には、光
照射に伴う可逆的な異性化によって濡れ性を変化させる
物質（以下、「光可逆性異性化物質」という）を含んで
構成された像形成体に、露光と現像を行い、像形成体の
表面にインクを選択的に付着させ、このインク画像を記
録媒体に転写、定着して印刷物を作成する画像形成装置
が記載されている。該画像形成体に用いるには、アゾベ
ンゼン系、スピロピラン系、スピロオキサジン系等の光
可逆性異性化物質をポリアクリレート、ポリメチルメタ
クリレート、ポリスチレンのような高分子中に分散させ
ていた。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の画像形
成装置では像形成体のインクに対する濡れ性の微調節が
難しく、広範囲のインクを画像形成装置に用いることが
できなかった。また、光可逆性異性化物質の光異性化状
態が不安定で、印刷物が不鮮明であるという技術課題が
あった。よって、以上のような技術課題を解決するため
に、本発明の目的とするところは、複数種類の感光基の
光異性化を制御することにより、光異性化により生じる
濡れ性を段階的に調節し、使用インクに対して最適の濡
れ性を実現させるもので、従来よりも広範囲のインクの
使用を可能にする。さらに、感光基を高分子構造中に導
入することにより光異性化状態を安定化させることにも
ある。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明の感光体は、下記
（１）、（２）、（３）または（４）であることを特徴
とする。即ち、（１）高分子の一般構造が化合物１

【０００５】

【化５】

【０００６】（構造中の符号２，３は、異なる感光基を
示す。構造に示した感光基は２種類であるが、２種類以
上の感光基がある場合も本発明に含有される。）のよう
な、複数種類の感光基を高分子側鎖に含むことを特徴と
する。

【０００７】（２）高分子の一般構造が化合物２

【０００８】

【化６】

【０００９】（構造中の符号２，３は、異なる感光基を
示す。構造に示した感光基は２種類であるが、２種類以
上の感光基がある場合も本発明に含有される。）のよう
な、複数種類の感光基を高分子主鎖に含むことを特徴と
する。

【００１０】（３）高分子の一般構造が化合物３

【００１１】

【化７】

【００１２】（構造中の符号２，３は、異なる感光基を
示す。構造に示した感光基は２種類であるが、２種類以
上の感光基がある場合も本発明に含有される。）のよう
な、複数種類の感光基を含む化合物を、高分子側鎖に含
むことを特徴とする。

【００１３】（４）高分子の一般構造が化合物４

【００１４】

【化８】

【００１５】（構造中の符号２，３，７は、異なる感光
基を示す。構造に示した感光基は３種類であるが、３種
類以上の感光基がある場合も本発明に含有される。）の
ような、複数種類の、感光基を含むモノマーのブロック
共重合体で表されることを特徴とする。

【００１６】

【作用】本発明の上記構成によれば、特定波長の光照射
にともなう感光基の可逆的な異性化によって、双極子モ
ーメント、濡れ性、吸収スペクトル等の物性変化の微調
節が可能になる。また、本発明の感光体を画像形成装置
に応用すると、複数種類の感光基の光異性化を制御する
ことにより、光異性化により生じる濡れ性を段階的に調
節し、使用インクに対して最適の濡れ性を実現させ、広
範囲のインクの使用を可能にする。さらに、感光基を高
分子構造中に導入することにより光異性化状態を安定化
させることができる。

【００１７】

【実施例】

実施例−１図１は、本発明における感光体を示す第１の基本構成図
である。該感光体１は感光基２及び３を側鎖に含んでい
る。ここでは、２種類の感光基を高分子側鎖に導入して
いるが、２種類以上の更に他の種類の感光基を側鎖に導
入してもよい。また、感光基２と３の配列は交互あるい
はランダムであってもよい。

【００１８】感光基２、３としては、濡れ性変化を伴う
光異性化が可能であれば特に制限はないが例えば、シス
ートランス異性化分子であるアゾベンゼン系、スチルベ
ン系化合物誘導体、開ー閉環異性化分子であるスピロピ
ラン系、スピロオキサジン系、フルギド系化合物誘導
体、あるいはニトロベンジル、トリフェニルメタノー
ル、インジゴ、ジヒドロプレン、アニル化合物等が適宜
用いられる。また、高分子主鎖としては、側鎖の感光基
の光異性化が可能であれば特に制限はないが例えば、ポ
リメタクリレートとその誘導体、ポリスチレン、ポリセ
ルロースとその誘導体、ポリビニルブチラール、ポリエ
ステル、フェノキシ樹脂、ポリウレタン等の高分子を適
宜用いればよい。

【００１９】感光体１の合成方法としては第１に、感光
基とビニル基とを含むモノマーの共重合がある。水酸基
あるいはアミノ基をもつ感光基と、アクリル酸クロリド
のような酸クロリド系のビニル基をもつモノマーとの反
応で感光基とビニル基とを構造中にもつモノマーを合成
する。次に、適当な溶媒中で重合開始剤を加えてモノマ
ーの共重合反応により合成する。また、複数種類の感光
基を含む高分子が本発明の感光体の条件であるから、モ
ノマーの重合時には、感光基を含まないモノマーを混合
して共重合してもよく、該高分子を合成した場合も本発
明に含有される。

【００２０】第２の方法としては、高分子と感光基との
反応により感光基を高分子側鎖に導入する方法である。
例えば、ポリアクリル酸クロリドあるいはポリメタクリ
ル酸クロリドのように酸クロリド基を側鎖に有するポリ
マーと水酸基あるいはアミノ基を有する感光基との反応
により、エステル結合あるいは酸アミド結合を生成させ
て、感光基を側鎖に導入する方法がある。また、ポリア
クリル酸、ポリメタクリル酸のようにカルボキシル基を
側鎖に有するポリマーと水酸基有する感光基との脱水反
応によりエステル結合生成させる方法、ポリメタクリル
酸メチルと水酸基を有する感光基とのエステル交換反応
により感光基を側鎖に導入する方法がある。本実施例
の高分子の具体的な一構造が化合物５である。

【００２１】

【化９】

【００２２】化合物５は、アミノアゾベンゼン（化合物
６）と１、３、３ートリメチルインドリノー６’ーニト
ロースピロベンゾピラン（化合物７）を高分子側鎖に導
入した。化合物６，化合物７の構造を次に示す。

【００２３】

【化１０】

【００２４】

【化１１】

【００２５】化合物５は、ｐ−フェニルアゾアクリルア
ニリド（化合物８）と１、３、３ートリメチルインドリ
ノー６’ーニトロー８’ーアクリロイルオキシメチルス
ピロベンゾピラン（化合物９）の共重合で合成した。化
合物８，化合物９の構造を次に示す。

【００２６】

【化１２】

【００２７】

【化１３】

【００２８】化合物８、９及び５の合成法を示す。化合
物８は、４７．３４ｇ（０．２４ｍｏｌ）のｐ−アミノ
アゾベンゼンと２９．１４ｇ（０．２８８ｍｏｌ）のト
リエチルアミンを２４０ｍｌの酢酸エチルに溶解し、こ
こに２６．０７ｇ（０．２８８ｍｏｌ）のアクリル酸ク
ロリドを滴下することにより合成した。反応液を濃縮、
濾過、水洗することにより、約４０ｇの粗製物を得た。
粗製物をエタノールー水の１：１混合溶媒で２回再結晶
し、約２１ｇの化合物８の精製物を得た。前記精製物の
赤外吸収スペクトルにおいて、第２級酸アミドの吸収ピ
ークが１６５０ｃｍ^-1及び１５５０ｃｍ^-1付近に確認で
きることで、精製物が化合物８であることは明らかであ
る。また、化合物８は通常トランス体構造で安定化し３
５０ｎｍ付近の光照射により光異性化しシス体構造をと
る。シス体構造に対して、４５０ｎｍ以上の光を照射す
ることにより、トランス体に異性化した。

【００２９】化合物９の合成は、まず１、３、３ートリ
メチルインドリノー６’ーニトロー８’ークロロメチル
スピロベンゾピランの合成を行なった。７９．７７ｇ
（０．３７ｍｏｌ）の３ークロロメチルー５ーニトロサ
リチルアルデヒドと６４．１２ｇ（０．３７ｍｏｌ）の
１、３、３ートリメチルー２ーメチレンインドリンをベ
ンゼン中で還流温度で約５時間反応させた。その間に生
成する水は共沸により除いた。反応液を水酸化ナトリウ
ム水溶液で洗い、さらに水で洗った後、減圧下でベンゼ
ンを留去した。得られた生成物をシクロヘキサンから再
結晶することにより７８．７ｇの１，３，３−トリメチ
ルインドリノー６’ーニトロー８’ークロロメチルスピ
ロベンゾピランの灰色粉末を得た。次に、７４．１７ｇ
（０．２０ｍｏｌ）の１，３，３−トリメチルインドリ
ノー６’ーニトロー８’ークロロメチルスピロベンゾピ
ランと３１．９７ｇ（０．３４ｍｏｌ）のアクリル酸ナ
トリウムとアセトンと水との混合溶媒溶媒中で還流下に
４時間反応させた。反応液から減圧で低沸点物を留去
し、残留物を５００ｍｌのベンゼンで２回抽出した。ベ
ンゼン溶液を５％の炭酸ナトリウム水溶液で洗浄し、さ
らに水で２回洗浄してから無水硫酸ナトリウムで乾燥し
た。乾燥したベンゼン溶液から減圧でベンゼンを留去
し、残留物をジエチルエーテルで抽出した。エーテル溶
液を減圧で乾固することにより約６８ｇの化合物９を得
た。赤外吸収スペクトルにより第２級酸アミドの吸収ピ
ークを１６５０ｃｍ^-1及び１５５０ｃｍ^-1を確認し、前
記抽出物が化合物９であることを確認した。化合物９は
通常閉環体で安定化し、３００ｎｍ付近の光で異性化し
開環体構造をとり、開環体に６００ｎｍ付近の光を照射
することにより閉環体に異性化した。

【００３０】前記のように合成された化合物８と化合物
９の共重合により化合物５を合成した。１２．５６ｇ
（０．０５ｍｏｌ）の化合物８と２０．３２ｇ（０．０
５ｍｏｌ）の化合物９、これに対し１ｍｏｌ％のＡＩＢ
ＮをＤＭＦ溶媒に溶かし、冷却脱気と窒素置換を５回繰
り返してから、６０℃で２０時間重合した。反応液をメ
タノールに注ぎポリマー沈澱を濾取し、ＤＭＦに溶解し
メタノールで再沈澱という操作を３回繰り返して約５ｇ
のポリマー（化合物５）を得た。化合物５の分子量は、
約３万。

【００３１】実施例−２図２は、本発明の感光体の第２の基本構造である。感光
体４は、感光基２、３を主鎖中に含む高分子である。こ
こでは、２種類の感光基を高分子主鎖に導入している
が、２種類以上の更に他の種類の感光基を主鎖に導入し
て効果を上げてもよい。感光基２と３の配列は、交互あ
るいはランダムであってもよい。

【００３２】感光体４の合成法は、例えば２つのビニル
基を構造中にもつ感光基の共重合で合成される。本実施
例の感光体の具体的な一構造が化合物１０である。化合
物１０は、化合物１１と化合物１２の共重合体として得
られた。化合物１１は、４、４’ージビニルアゾベンゼ
ンでアゾベンゼンの両パラ位にビニル基を有している。
化合物１２は１、２ージ（２、５ジメチルフリル）ーエ
テンで、ビニル基を有するフリルエテン系の化合物であ
る。

【００３３】

【化１４】

【００３４】

【化１５】

【００３５】

【化１６】

【００３６】化合物１１の合成法を示す。パラーニトロ
スチレン７ｇ（０．０４７ｍｏｌ）、１２Ｍ水酸化ナト
リウム水溶液１５ｍｌおよびエタノール９０ｍｌの混合
物を加え、還流しながら亜鉛粉末２５ｇ（０．３９ｍｏ
ｌ）をゆっくり加えた。加え終わったら３０分間還流を
続けた。還流の後、熱い反応混合物を濾別し、このとき
濾液を大量の冷水中に落とした。冷水中には、ゴム状の
沈澱が生成した。この沈澱を濾別、乾燥、さらに１２０
℃／２ｍｍＨｇで昇華させ、生成物をエタノールで再結
晶して、約１ｇの化合物１１を得た。前記再結晶物のエ
タノール溶液の紫外可視吸収スペクトルにおいて、アゾ
結合の存在を示す吸収ピークが３５０ｎｍ付近に確認出
来た。さらに、前記再結晶物のガスクロマトグラフィー
のマススペクトル分析において分子量２３４を確認した
ことにより、前記抽出物は明らかに化合物１１である。
化合物１１は通常トランス体で安定化し、３５０ｎｍ付
近の光照射によりシス体に異性化した。シス体は４５０
ｎｍ以上の光照射でトランス体に異性化した。

【００３７】化合物１２（２、３ージ（２，５ジメチル
フリル）ーブタジエン）の合成法を示す。窒素雰囲気
下、２，５ージメチルフラン８５ｇ（０．８８ｍｏｌ）
及び無水酢酸１０５ｇ（１．０ｍｏｌ）のベンゼン１０
００ｍｌの溶液に、０℃で５時間かけて塩化スズ（無
水）２２６ｇ（０．８７ｍｏｌ）を滴下した。その後、
２〜３時間０℃で撹拌した後、反応溶液を１Ｎ希塩酸５
００ｍｌと大量の氷中に入れ撹拌した。ベンゼン層を分
けとり、水３００ｍｌで洗い、無水硫酸マグネシウムで
脱水した。ベンゼンを留去して得られた黄色の液体をさ
らに、６０℃／２ｍｍＨｇで減圧蒸留して無色の液体
（３ーアセチルー２、５ージメチルフラン）９５ｇ、収
率８０％を得た。

【００３８】次に、窒素雰囲気下、亜鉛粉末４３．１ｇ
（０．６６ｍｏｌ）をＴＨＦ３００ｍｌに加え−１０℃
以下で撹拌し、前記３ーアセチルー２、５ージメチルフ
ラン３１ｇ（ｏ．２２ｍｏｌ）のＴＨＦ溶液１５０ｍｌ
を滴下し、さらに四塩化チタン３６．３ｇ（０．３３ｍ
ｏｌ）をゆっくり加えた。滴下終了後０℃で２時間撹拌
した。反応溶液を１０％炭酸カリウム水溶液１０００ｍ
ｌに注ぎ、エーテル２００ｍｌで４回抽出を行なった。
有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水し、エーテルを留去
した。得られた淡黄色オイル状生成物をベンゼンでカラ
ム処理し、第２留分を分取し、濃縮した。この成分をベ
ンゼン溶媒でＴＬＣに展開しＲｆ値０．５以下の成分を
分取し、２、３ージ（２、５ージメチルフリル）ー２、
３ーブタジオールが得られた。

【００３９】前記２、３ージ（２、５ージメチルフリ
ル）ー２、３ーブタジオール５００ｍｇに硫酸水素カリ
ウム１０ｍｇを入れ、減圧下で撹拌しながら１００℃に
加熱した。１００℃で１時間保った後、残留の生成物を
エーテル３０ｍｌに溶かし、濾過して硫酸水素カリウム
を除去する。有機層を水４０ｍｌで洗浄後、無水硫酸ナ
トリウムで脱水する。エーテルを留去し得られた油状生
成物を、ヘキサンによりシリカゲルカラム処理して無色
油状の化合物１２（２、３ージ（２，５ジメチルフリ
ル）ーブタジエン）を得た。収率５％。ガスクロマトグ
ラフィーのマススペクトル分析において分子量２４２を
確認し、化合物１２を同定した。化合物１２は、通常は
開環状態で安定化し、３１３ｎｍ付近の光照射により閉
環体に光異性化する。閉環体は４５０ｎｍ付近の光照射
により開環体に可逆的に光異性化する。

【００４０】以上合成された化合物１１と、化合物１２
の共重合で化合物１０を得た。４、４’ージビニルアゾ
ベンゼン２．３４ｇ（０．０１ｍｏｌ）（化合物１１）
と、２、３ージ（２，５ジメチルフリル）ーブタジエン
２．４２ｇ（０．０１ｍｏｌ）（化合物１２）、さらに
重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢ
Ｎ）０．０９８ｇ（０．０００５ｍｏｌ）を脱気管に仕
込み、真空ラインで脱気した後、６０℃で２４時間共重
合させた。生成した高分子を少量のベンゼンに溶解さ
せ、メタノールに滴下して再沈澱させ、化合物１０を得
た。収量１．２ｇ。収率２５％。分子量、約２万。

【００４１】実施例−３図３は、本発明の感光体の第３の基本構造である。感光
体５は、感光基２と感光基３を含む化合物を側鎖に含む
高分子８である。ここでは、２種類の感光基を高分子側
鎖に導入しているが、２種類以上の更に他の種類の感光
基を側鎖に導入して効果を上げてもよい。

【００４２】感光体８の合成法としては、感光基２と３
を構造中に含みさらにビニル基を有する構造のモノマー
の重合によって得られる。重合の際には、感光基２と３
を含むモノマーの他に、感光基を含まないモノマーを混
合させ共重合させてもよく、共重合によって合成された
感光性高分子も本発明に含有される。

【００４３】本実施例の感光体の具体的な一構造が、化
合物１３である。化合物１３は、化合物１４の重合によ
って合成した。分子量、約２万。

【００４４】

【化１７】

【００４５】

【化１８】

【００４６】化合物１４の合成方法を簡単に説明する。
まず、エタノール等の溶媒中、０〜５℃でｐ−アミノ安
息香酸のアミノ基をジアゾ化し、ジアゾニウム塩を合成
した。該ジアゾニウム塩とアニリンとのジアゾカップリ
ング反応を行い、化合物１５を合成した。ガスクロマト
グラフィーのマススペクトル分析において分子量２４１
を確認し化合物１５を同定した。ここで、前記化合物９
の合成段階で得られた１、３、３ートリメチルインドリ
ノー６’ーニトロー８’ークロロメチルスピロベンゾピ
ラン（化合物１６）と化合物１５とを１，４−ジオキサ
ン等の適当な溶媒中で加熱還流し脱塩酸反応をさせる。
約１時間以上還流させると、化合物１７を生成した。化
合物１７は、赤外吸収スペクトルにおけるエステル結合
のピーク（１７２０ｃｍ^-1）の確認及び元素分析によっ
て同定した。元素分析結果を以下に示す。

【００４７】

【００４８】

【化１９】

【００４９】

【化２０】

【００５０】

【化２１】

【００５１】ここで、前記化合物８の合成方法と同様
に、アクリル酸クロリドと化合物１７のアミノ基との酸
アミド縮合反応により、化合物１４を合成した。化合物
１４の同定は赤外吸収スペクトルの酸アミド結合のピー
クである１６５０ｃｍ^-1及び１５５０ｃｍ^-1の確認によ
り行った。

【００５２】実施例−４図４は、本発明の感光体の第４の基本構造である。感光
体６は、感光基２を含むモノマー、感光基３を含むモノ
マーと感光基７を含むモノマーのブロック共重合体で構
成されている。ここでは、３種類の感光基を高分子側鎖
に導入しているが、３種類以上であれば何種類の感光基
を含むモノマーを共重合させて感光体を合成してもよ
い。また、共重合の際に感光基を含まないモノマーをブ
ロック配列に組み込んでもよく、感光基を含まないモノ
マーを取り入れた高分子も本発明に含有される。本実施
例の感光体の合成方法として、２種類のモノマーを用い
た場合を簡単に説明する。前記、化合物８と化合物９を
用いることにより、本実施例の化合物１８を合成するこ
とが出来た。化合物１８の構造を示す。

【００５３】

【化２２】

【００５４】始めに、ｎ−ブチルリチウム等を重合開始
剤として、化合物８をＴＨＦあるいは１，４−ジオキサ
ン等の溶媒中で数時間重合させた。前記重合反応溶液
に、化合物９の１，４−ジオキサン溶液を加え、再び数
時間重合させた。重合の終了は、メタノール等の沈澱剤
に流し込むことで行ない、化合物８と化合物９のブロッ
ク共重合体を合成した。前記ブロック共重合体を乾燥
後、ＴＨＦに溶かしメタノールに流し込み沈澱させる操
作を３回繰り返して精製を行なった。分子量、約２万〜
３万。また、化合物８と化合物９の重合反応の後に、更
に他の種類の感光基を含むモノマーの溶液を加えて重合
反応を行うことにより、３種類以上の感光基を含むブロ
ック共重合体を合成することが可能である。

【００５５】ここで、本発明の感光体の光異性化の可逆
的な制御の方法を、実施例−１の感光体を例に説明す
る。この説明は、実施例１，２，３及び４の感光体に適
用され、感光基の配列には関係しない。本発明の感光体
１は、特定波長の光照射により可逆的に異性化し、高分
子の物性を可逆的に制御するものである。制御の方法と
しては照射波長、強度、照射時間、さらには感光基の種
類、感光基のモル比の選択によって行う。

【００５６】光異性化の波長の制御による塗れ性の制御
の方法を簡単に説明する。ここでは、感光基２と感光基
３は１：１の比率で感光体１中に含まれている場合で、
感光基２による塗れ性の変化は感光基３による変化より
も大きい場合を説明する。ただし、ここで取り上げる感
光基２、３と感光体１の性質が本発明で使用可能な感光
基および感光体を限定するものではない。感光基２は、
λ１波長の光照射により通常安定なＡ構造からＢ構造に
異性化し、塗れ性が大きくなり、さらにλ２波長の光照
射によりＢ構造からＡ構造に可逆的に異性化する性質
で、具体的には例えばアゾベンゼン系化合物などが対応
する。感光基３は、λ３波長の光照射により通常安定な
Ｃ構造からＤ構造に異性化し塗れ性が大きくなり、さら
にλ４波長の光照射によりＢ構造からＣ構造に可逆的に
異性化する。

【００５７】

【数１】

【００５８】以上ような性質の感光基２、３を側鎖に含
む感光体１を用いた場合は、λ１、λ３の波長の光照射
により感光基２、３をそれぞれＢ，Ｄ構造に光異性化さ
せ、塗れ性の変化が感光基２による変化よりも小さく、
感光基３による変化よりも大きいような、感光基２と感
光基３の中間的な塗れ性の変化を実現できる。光異性化
した感光基２、３はλ２、λ４波長の光照射により可逆
的にＡ，Ｂ構造に戻り、塗れ性を小さくする。ここでλ
１、λ２、λ３及びλ４の波長は同じあるいは異なって
いてもよい。

【００５９】例えば、本実施例１における化合物５にお
いては、λ１が３５０ｎｍ付近の紫外光であれば高分子
側鎖のアゾベンゼンがトランス体からシス体に光異性化
し、λ３が３００ｎｍであればスピロベンゾピランが閉
環体から開環体に光異性化した。次に４５０ｎｍのλ２
によりアゾベンゼンはシス体からトランス体に光異性化
し、６００ｎｍのλ４によりスピロベンゾピランは開環
体から閉環体に光異性化した。

【００６０】また、感光基２、３の含有比率の変化、λ
１、λ２波長の光照射時間、強度の変化で更に段階的な
塗れ性変化が実現できる。以上のような性質から、本発
明の感光体は特開平１ー２５５８５７号記載の画像形成
装置の像形成体として利用することが出来た。

【００６１】ここで、特開平１ー２５５５８７号記載の
画像形成装置を図５を用いて簡単に説明する。基体８上
に本発明の感光体を塗布してなる像形成体９は、円筒形
をなすドラムであり、矢印１０の方向へ回転駆動され
る。像形成体９は、露光器１１による選択的露光によっ
て感光基が光異性化し、像形成体９上に潜像が形成され
る。形成された潜像は、現像装置１２を通過するときに
インク１３によって顕像化された。この場合は、選択的
露光により光異性化された潜像１４部分の塗れ性が、非
露光部分よりも大きくなるような感光体を用いたため、
選択的な露光部分１４のみに選択的に極性のインクが付
着した。しかし、これは本発明を限定するものではなく
選択的露光により光の照射部分の塗れ性が小さくなるよ
うな感光体を光可逆異性化層に用いてもよい。

【００６２】したがって、露光器１１の選択的露光によ
って、ネガ像を得る場合はインクを極性溶媒とし、ポジ
像を得る場合にはインクを非極性溶媒にすればよい。こ
こで、現像装置１２は、インク供給器１５とインクカー
トリッジ１６とから構成されており、インク１３は複数
のローラおよびローラ面の粗さによってインク厚を調整
て像形成体９の表面に供給される。そしてこの像形成体
９は、像形成体９と同期して移動している記録媒体１７
と接触し、圧力定着機１８によって、インク画像が像形
成体９から記録媒体１７に転写、定着され、非常に鮮明
な印刷物得た。転写を終えた像形成体９は、表面の未転
写インクをクリーニング装置１９によって除去された。
その後、像形成体９は、イレーズランプ２０の光照射に
よって可逆的に光異性化し、露光器１１による光照射前
の状態に戻された。

【００６３】本発明の感光体を前記のような画像形成体
装置に利用する際には、感光体を適当な溶媒に分散させ
たものを基体８上に塗布、吹き付けるなどの処理を行な
うことにより用いることができた。さらに、像形成体９
中に有機ニッケル錯体、ヒンダートアミン系、ビスセバ
ケート系等の分光増感剤や、可逆的または不可逆的の連
鎖反応のトリガ−材料を混入させてもよい。あるいは、
感光体の構造中に、分光増感剤のような光異性化を起こ
さないさらに他の種類の感光基を導入して、照射光のエ
ネルギー吸収率を大きくして、その効果で、感光基の光
異性化を効果的に行なってもよい。

【００６４】また、感光基の光異性化波長を個々に制御
することにより、メモリー等に応用することもできる。

【００６５】

【発明の効果】以上説明したように、複数の感光基を側
鎖あるいは主鎖に含む感光体は、特定波長の光照射にと
もなう感光基の可逆的な異性化によって、１種類の感光
基では出し得なかった物性値、例えば濡れ性、表面張力
等を段階的に制御することが可能になる。また、感光基
を高分子の構造中に導入したことにより光異性化状態
が、格段に向上した。よって、このような利点を生かし
て画像形成装置の像形成体に応用したところ、像形成体
表面の濡れ性がインクに対して最適値を取ることが可能
になり、非常に美しい印刷物が得られた。さらに、像形
成体表面の濡れ性の制御によって、これまでは使用でき
なかったインクに対しても最適な濡れ性を実現し、画像
形成装置での使用を可能にするものである。

【００６６】以上の画像形成装置への応用の他に、感光
基の光異性化を感光基の種類毎に制御することにより、
光メモリーでの多重記録を可能にするものである。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の請求項１記載の感光体の基本構造を示
した図。

【図２】本発明の請求項２記載の感光体の基本構造を示
した図。

【図３】本発明の請求項３記載の感光体の基本構造を示
した図。

【図４】本発明の請求項４記載の感光体の基本構造を示
した図。

【図５】本発明による実施例で、画像形成装置を示した
図。

【符号の説明】

９像形成体１１露光器１２現像装置器１７記録媒体１９クリーニング装置２０イレーズランプ

フロントページの続き (72)発明者水間功長野県諏訪市大和３丁目３番５号セイコーエプソン株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】高分子の一般構造が化合物１【化１】（構造中の符号２，３は、異なる感光基を示す。構造に
示した感光基は２種類であるが、２種類以上の感光基が
ある場合も本発明に含有される。）のような、複数種類
の感光基を高分子側鎖に含むことを特徴とする感光体。
【請求項２】高分子の一般構造が化合物２【化２】（構造中の符号２，３は、異なる感光基を示す。構造に
示した感光基は２種類であるが、２種類以上の感光基が
ある場合も本発明に含有される。）のような、複数種類
の感光基を高分子主鎖に含むことを特徴とする感光体。
【請求項３】高分子の一般構造が化合物３【化３】（構造中の符号２，３は、異なる感光基を示す。構造に
示した感光基は２種類であるが、２種類以上の感光基が
ある場合も本発明に含有される。）のような、複数種類
の感光基を含む化合物を、高分子側鎖に含むことを特徴
とする感光体。
【請求項４】高分子の一般構造が化合物４【化４】（構造中の符号２，３，７は、異なる感光基を示す。構
造に示した感光基は３種類であるが、３種類以上の感光
基がある場合も本発明に含有される。）のような、感光
基を含むモノマーのブロック共重合体で表されることを
特徴とする感光体。