JPH05165030A - ラビング装置およびラビング方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】液晶電気光学装置作製時のラビング処理時に発
生する静電気による配向膜への悪影響を減らしたラビン
グ装置を提案する。 【構成】ラビング用の布が巻かれた回転円筒部には複数
の穴が設けられていて、該円筒部は加湿機と接続されて
いることを特徴とする。さらに、円筒部に設けられた複
数の穴を通じてラビング用の布を加湿しながら基板表面
を擦ることを特徴とするラビング方法を提供するもので
ある。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の利用分野】本発明は液晶電気光学装置等に用い
られる液晶の配向制御技術に関する。

【０００２】

【従来の技術】現在、広い分野で用いられている液晶電
気光学装置を作製する際に欠かせない技術として液晶配
向技術がある。これはＴＮ型、ＳＴＮ型あるいはＦＬＣ
型の液晶電気光学装置の場合、液晶の細長い分子をー方
向に制御するための技術であるが、最も広く行われてい
るのは量産性に最も適しているラビング法による配向制
御である。この配向制御法は基板表面あるいは配向膜表
面を綿、或いは化学繊維等のラビング用の布で所定の方
向に擦ることによって液晶分子を同一方向に整列させる
技術である。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】従来のラビング工程に
おいては布で基板表面を擦るために静電気が発生する。
液晶電気光学装置、例えば液晶ディスプレイ、特にその
電極構成がドットマトリックスの場合には、多数の細長
い電極が存在するため、このラビング工程で発生した静
電気により、液晶電気光学装置用の基板が電荷を帯び、
特に電極の端部において放電が生じ易くなる。

【０００４】この放電により、基板の電極表面に形成さ
れた配向膜が傷つけられ、この配向膜の傷により液晶の
配向が乱れるという問題が生じる。近頃の表示の高細化
により電極の幅がより細くなってきており、さらに電極
間の幅も狭くなってきているのに伴い、この問題が大き
くクロ−ズアップされてきた。最近になって、この静電
気の発生を防止する工夫として配向膜をラビング処理す
る際の環境全体の湿度を上げる、或いはラビング装置の
周囲に小型の加湿機を設置することによって、ラビング
装置の近傍のみを加湿する等の方法も採られている。

【０００５】ラビング処理する際の環境全体を加湿する
方法は、静電気の対策としては最も理想的な方法である
が、このためには、ラビング装置を接地したクリーンル
ーム全体お広い領域を加湿するためにどうしても大型の
加湿機が必要になり、コストが非常に高くなってしま
う。

【０００６】それに対し、ラビング装置の周囲に小型の
加湿機を設置した場合、コストはそれほど高くはならな
いが、狭い範囲に加湿を行うため、どうしても場所によ
る湿度の差ができ、静電気をうまく防止できないばかり
ではなく、ラビング装置の近くを作業者等が移動するこ
と等により気流が変化し、湿度分布が不安定になり、こ
の点においても静電気による問題を防ぐことができな
い。

【０００７】そのうえ、この場合、部分的に加湿過多の
場所が生じてしまうことが多く、結露が生じる。そのた
め、装置にサビが発生しやすくなり、装置の寿命を短く
してしまうという問題を抱えていた。

【０００８】

【課題を解決するための手段】前記問題点を解決するた
め、本発明はラビング用の布が巻かれた回転円筒部には
複数の穴が設けられていて、該円筒部は加湿機と接続さ
れていることを特徴とする。さらに本発明は、円筒部に
設けられた複数の穴を通じてラビング用の布を加湿しな
がら基板表面を擦ることを特徴とするラビング方法を提
供するものである。

【０００９】さらにまた、この円筒は中空構造をしてお
り、この円筒中に加湿機または調湿機に接続された調湿
用円筒がこの中空円筒中を通して設けてあり、各々の円
筒には複数のあなが設けてあり、この孔をとおして、加
湿あるいは調湿された気体をラビング用の布に流して、
湿度を保ちながらラビングするものである。

【００１０】以下に図１を使用して説明を行う。図１は
本発明のラビング装置の概略構成図である。円筒３には
ラビング用の布が巻かれており、かつこの円筒には小さ
ななが開けられている。この中空構造の円筒３の概略断
面図を図２（ａ）に示す。またこの円筒３は調湿機４と
パイプ５で接続されており、調湿された気体を円筒３に
ながすことができる。この気体は円筒３の孔６を通過し
てラビング用の布に湿度をあたえることができる。

【００１１】また、図２（Ｂ）にあるように、ラビング
用の円筒を中空構造の円筒３とその内側に孔８の開けら
れた調湿用の円筒７を設けた二重構造としてもよい。こ
の中空構造の円筒３と調湿用の円筒７との組み合わせの
場合、加湿過多により、調湿用円筒７内で結露すること
があっても、直接にラビング用の布に接する部分が水滴
に触れないため、ラビング処理に影響が出ない特徴があ
る。

【００１２】加えて、図２（Ｂ）の様に内部の調湿用の
円筒７を外部の中空円筒３に対して斜めに設ける、すな
わち、外側の中空円筒３と調湿用の円筒７とを平行に設
けないことにより、この結露した水分を容易に中空円筒
の外へ取り出せ、水滴があふれて、ラビング用の布を濡
らすことがない。さらに図２（Ｃ）に記載したようにこ
の調湿用円筒７の下面に溝を設け積極的に結露した水分
をこの溝に集め、中空円筒外へ取り出すことでより簡単
に水分を円筒外へ取り出すことができる。同様に図２
（Ｄ）に記載のように調湿用の円筒７の断面を楕円状に
変形し、かつこの底面付近には孔を設けないことでも同
様効果を得ることができる。

【００１３】さらに、本発明において、特に円筒部に用
いられた孔ののべ面積が円筒部の側面の表面積の概ね0.
01％以上の時、特に均一な加湿をすることができる。ま
た孔ののべ面積が円筒部の側面の表面積の概ね20％以上
になると円筒の形状（曲面）がまくれてしまい、均一な
ラビングができなくなる場合があるため、孔ののべ面積
は円筒部の表面積の概ね0.01％〜20％が好ましい。

【００１４】また、本発明のその他の発明として、図３
に示すようなラビング装置を提案する。すなわち、配向
処理を行うラビング用の布９を前述のように円筒に巻き
つけるのではなく、帯状にして輪をつくり、終端のない
ラビング用の布９を複数の円筒１０、１１の外側に配
し、この複数の円筒１０、１１によって、この帯状の布
９は張力を与え続けられて、ぴんと張っている。

【００１５】このような装置において、複数の円筒１
０、１１の少なくとも１つが中空になっておりかつ複数
の孔が開けられ、この中空の円筒が加湿機あるいは調湿
機に接続されて、これより流される加湿あるいは調湿さ
れた気体により、ラビング用の布９に湿度を与える。こ
のような状態で、帯状の布は回転し、基板２表面を擦る
ものである。

【００１６】前述の如き円筒に巻いたラビング用布を巻
くラビング装置の場合、調湿状態や温度状態によって、
ラビング用の布が伸び縮みする。このため、回転してい
るラビング用円筒３の断面が見掛け上円ではなくなり、
基板表面に均等な配向処理を行えないと言う欠点があっ
たが、この様な構成の場合、ラビング用の布が伸びて
も、縮んでも常に均等にラビング布を張ることができ、
かつ基板表面に接する部分の円筒１１と布９は常に一定
の一関係で基板２の表面を擦れる為、湿度や温度等の環
境が変化しても、配向処理の程度は一定に保てる特徴を
有する。

【００１７】

【作用】本発明を用いることによって、ラビング布また
は布が巻かれているロ−ラ−の周囲部に湿度を与え、静
電気の発生を防止することができ、これにより、基板上
の配向膜の表面に損傷を与えずに、配向処理を行うこと
が可能となった。

【００１８】

【実施例】

〔実施例１〕図１にその概要を示すラビング装置を用い
てラビングを行い、液晶パネルを作製した。以下、この
ラビング装置について説明する。この装置は基板２をテ
−ブル１上にセットし、吸盤により基板２をテ−ブル１
上に固定する。布が巻かれた円筒３が回転を始めるのと
ほぼ同時にテ−ブル１が図中の矢印方向に移動を開始す
る。円筒３の孔の様子を説明するため図２（Ａ）にその
概略断面を示す。表面には多くの孔６が開けられてい
る。そして図１において円筒３の端部に接続された加湿
機４によって加湿された空気が孔６を通って表面に巻か
れた布を加湿する。

【００１９】本実施例にて用いた円筒の表面の孔６は１
mmφで2500個あり、円筒の幅は500mm 、直径は100mm な
ので孔６ののべ面積は円筒表面積（横の面を除く）の0.
05％である。本実施例の装置を用いることによって、布
を均一に加湿することができ、静電気による配向膜への
悪影響を排除することができた。

【００２０】〔実施例２〕図１と同様のラビング装置を
用いてラビングを行い、液晶パネルを作製した。ただ
し、本実施例では図２（Ｂ）に示すような２重構造のラ
ビング用円筒３を使用した。この装置は基板２をテ−ブ
ル１上にセットし、吸盤により基板２をテ−ブル１上に
固定する。布が巻かれたラビング用円筒３が図中の矢印
方向に回転を始めるのとほぼ同時にテ−ブル１が図中の
矢印方向に移動をし始める。ラビング用円筒３の内部に
は加湿用円筒７が貫通しており、固定されている。ラビ
ング用円筒３、加湿用円筒７にはともに複数の孔６、８
が設けられおり、加湿用円筒８はその端部にて加湿機４
と接続されている。

【００２１】この装置は実施例１に示した構造と比較し
た場合、実施例１の構造では加湿された空気が通過する
円筒３に直接布が巻かれているために、条件によっては
水滴が布を部分的に濡らしてしまう場合があるが、本実
施例の装置では加湿用円筒７がラビング用円筒３の内部
に配置され、二重構造となっているために、水滴は加湿
用円筒の周囲に生じるのみでラビング用円筒には付着し
ないので布を部分的に濡らしてしまうことないため、条
件のマ−ジンを〔実施例１〕の装置より広くとることが
できる。

【００２２】また特に図２（Ｂ）のように円筒７をラビ
ンク用円筒３と平行に配置せず角度をつけることによっ
て加湿用円筒７の周囲に付着した水滴を円筒の端部に流
すことができ、円筒周囲に水がたまっていることを防ぐ
ことができる。さらには加湿用円筒７についた水滴を流
すための溝を設けることも有効である。

【００２３】〔実施例３〕本実施例では図３に示すよう
にラビング用の布を帯状に終端なく設け、この布を複数
の円筒１０、１１の外側に配設した。この時、ラビング
用の布はこれら円筒によって張力を与えられ絶えず張っ
た上たいで保持されている。

【００２４】本実施例においては複数の円筒の内円筒１
０を図２（Ｂ）のような二重構造とし、この二か所でラ
ビング用の布に対して湿度を与えた。このような構成に
より基板２とラビング用布９およびラビング用円筒１１
との関係は温度や湿度が変化しても一定の関係を実現す
ることができた。

【００２５】

【発明の効果】以上述べてきたように、本発明を用いる
ことによってラビング時の静電気による悪影響を排除す
ることができるので、均一で高品質の表示を得ることが
でき、かつ小型の加湿で良いため、低コストで、さらに
装置の寿命を長くすることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のラビング装置の概略構成図

【図２】本発明のラビング用円筒部の概略断面図

【図３】本発明の他のラビング装置の概略構成図。

【符号の説明】

２・・・基板 ３・・・ラビング用円筒 ４・・・調湿機 ６・・・孔 ７・・・調湿用円筒 ８・・・孔 ９・・・帯状のラビング用布

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ラビング用の布が巻かれた円筒部が回転
   することによって基板表面を擦る装置であって、前記円
   筒部は中空構造を有し、且つ複数の穴が設けられてい
   て、前記円筒部は加湿機または湿度調整機と接続され、
   加湿あるいは調湿された気体を前記円筒部に流す手段に
   より、前記ラビング用の布を加湿あるいは調湿する機能
   を有することを特徴とするラビング装置。
2. 【請求項２】 布が巻かれたラビング用円筒部が回転す
   ることによって基板表面を擦る装置であって、前記ラビ
   ング用中空円筒部の内部には調湿用円筒部が配置されて
   いて、ラビング用円筒部と調湿用円筒部にはともに複数
   の穴が設けられていて、加湿用円筒部は加湿機または湿
   度調整機に接続されていることを特徴とするラビング装
   置。
3. 【請求項３】 請求項２において、ラビング用中空円筒
   部と調湿用円筒部は平行に配置されていないことを特徴
   とするラビング装置。
4. 【請求項４】 請求項３において、調湿用円筒部はその
   下部に溝が設けられていることを特徴とするラビング装
   置。
5. 【請求項５】 ラビング用の布が巻かれた円筒部が回転
   することによって基板表面を擦るラビング方法であっ
   て、前記円筒部に設けられた複数の穴を通じて前記ラビ
   ング用の布を加湿しながら基板表面を擦ることを特徴と
   するラビング方法。
6. 【請求項６】 閉じた帯状のラビング用布と前記帯状の
   布を回転させる手段と複数の円筒と前記複数の円筒のう
   ち少なくとも一つに複数の孔が設けられた中空の円筒を
   使用し、前記中空の円筒と加湿機または湿度調整機とを
   接続する手段とを有するラビング装置であって、前記帯
   状の布は前記複数の円筒により、張力を与えられながら
   その回りを回転していることを特徴とするラビング装
   置。