JPH0217720U - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0217720U JPH0217720U JP9548288U JP9548288U JPH0217720U JP H0217720 U JPH0217720 U JP H0217720U JP 9548288 U JP9548288 U JP 9548288U JP 9548288 U JP9548288 U JP 9548288U JP H0217720 U JPH0217720 U JP H0217720U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- cylinder
- gas blowing
- blowing holes
- injected
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000007664 blowing Methods 0.000 claims description 6
- 239000004744 fabric Substances 0.000 claims description 3
Description
第1図は請求項1記載の考案の一実施例を示す
斜視図、第2図は請求項2記載の考案の第一の実
施例を示す斜視図、第3図はその第二の実施例を
示す斜視図、第4図は従来例を示す斜視図である
。 6……シリンダ、7……ガス吹出孔、8……ガ
ス取入口、9……ラビング布、10,11……ガ
ス吹出孔。
斜視図、第2図は請求項2記載の考案の第一の実
施例を示す斜視図、第3図はその第二の実施例を
示す斜視図、第4図は従来例を示す斜視図である
。 6……シリンダ、7……ガス吹出孔、8……ガ
ス取入口、9……ラビング布、10,11……ガ
ス吹出孔。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 1 円筒状の表面に多数のガス吹出孔が形成され
、その円筒状の一端にイオンガスの注入されるガ
ス取入口が形成された中空構造をなすシリンダを
設け、このシリンダの表面に形成された前記ガス
吹出孔を覆つてラビング布を貼り付けたことを特
徴とする回転ラビングマシン。 2 円筒状の表面に多数のガス吹出孔が形成され
、その円筒状の一端にイオンガスの注入されるガ
ス取入口が形成された中空構造をなすシリンダを
設け、このシリンダの表面に形成された前記ガス
吹出孔の間に位置してラビング布を貼り付けたこ
とを特徴とする回転ラビングマシン。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9548288U JPH0217720U (ja) | 1988-07-19 | 1988-07-19 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9548288U JPH0217720U (ja) | 1988-07-19 | 1988-07-19 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0217720U true JPH0217720U (ja) | 1990-02-06 |
Family
ID=31320155
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9548288U Pending JPH0217720U (ja) | 1988-07-19 | 1988-07-19 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0217720U (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05165030A (ja) * | 1991-12-18 | 1993-06-29 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | ラビング装置およびラビング方法 |
-
1988
- 1988-07-19 JP JP9548288U patent/JPH0217720U/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05165030A (ja) * | 1991-12-18 | 1993-06-29 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | ラビング装置およびラビング方法 |