JPH0516193Y2 - - Google Patents
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- JPH0516193Y2 JPH0516193Y2 JP1987003214U JP321487U JPH0516193Y2 JP H0516193 Y2 JPH0516193 Y2 JP H0516193Y2 JP 1987003214 U JP1987003214 U JP 1987003214U JP 321487 U JP321487 U JP 321487U JP H0516193 Y2 JPH0516193 Y2 JP H0516193Y2
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- substrate
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- rotation
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Description
【考案の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本考案はガラス膜堆積装置に関するものであ
る。[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a glass film deposition apparatus.
［従来の技術］
第３図にはガラス膜堆積装置の従来例が示され
ている。同図に示されているように、パイレツク
スガラスで作られたチヤンバ１内にターンテーブ
ル２が置かれている。このターンテーブル２はカ
ーボンあるいは石英ガラス等の高温に耐える材質
で作られている。石英あるいはシリコン基板３は
ターンテーブル２の円周上に配置されている。タ
ーンテーブル２は、角速度制御装置４によつて制
御された回転用モータ５と連結カム６とによつて
一定の角速度で回転するようになつている。フレ
ーム用ガスであるO2，H2はフレーム用ガスブラ
ンチ７により堆積用バーナ８に供給されるように
なつており、また、ガラス原料であるSiCl4，
GeCl4，TiCl4はガラス原料ブランチ９より、フ
レーム制御用ガスであるArはフレーム制御用ガ
スブランチ１０より供給されるようになつてい
る。[Prior Art] FIG. 3 shows a conventional example of a glass film deposition apparatus. As shown in the figure, a turntable 2 is placed within a chamber 1 made of Pyrex glass. This turntable 2 is made of a material that can withstand high temperatures, such as carbon or quartz glass. A quartz or silicon substrate 3 is arranged on the circumference of the turntable 2. The turntable 2 is configured to rotate at a constant angular velocity by a rotation motor 5 controlled by an angular velocity control device 4 and a connecting cam 6. The flame gases O 2 and H 2 are supplied to the deposition burner 8 by the flame gas branch 7, and the glass raw materials SiCl 4 and
GeCl 4 and TiCl 4 are supplied from a glass raw material branch 9, and Ar, which is a flame control gas, is supplied from a flame control gas branch 10.
このようにして供給されたガスは酸水素炎１１
において加水分解反応および熱酸化反応によりガ
ラス微粒子となり、石英またはシリコン基板３上
に堆積する。なお同図において１２は加水分解反
応あるいは熱酸化反応によつて生じたCl2，HCl
ガスをチヤンバ１の外部に排気する排気管であ
り、１３は回転用モータ５等へCl2，HClが到達
するのを防止するシールである。 The gas supplied in this way is the oxyhydrogen flame 11
In this step, glass fine particles are formed by a hydrolysis reaction and a thermal oxidation reaction, and are deposited on a quartz or silicon substrate 3. In the same figure, 12 indicates Cl 2 and HCl generated by hydrolysis reaction or thermal oxidation reaction.
This is an exhaust pipe that exhausts gas to the outside of the chamber 1, and 13 is a seal that prevents Cl 2 and HCl from reaching the rotating motor 5 and the like.
［考案が解決しようとする問題点］
上記従来技術は、次に述べるような欠点があ
る。ターンテーブルは回転しているが、ターンテ
ーブルの半径方向では堆積用バーナの位置は固定
されていて一定である。そのため石英またはシリ
コン基板上に堆積するガラス微粒子層の厚さが１
枚のの基板上で大きく（例えば10から100μｍ）
変化する。一般にガラス微粒子層の厚さは１枚の
の基板上で1μｍ程度以内の変化幅であることが
望ましい。[Problems to be solved by the invention] The above-mentioned conventional technology has the following drawbacks. Although the turntable is rotating, the position of the deposition burner is fixed and constant in the radial direction of the turntable. Therefore, the thickness of the glass particle layer deposited on the quartz or silicon substrate is 1
Large (e.g. 10 to 100 μm) on a single substrate
Change. Generally, it is desirable that the thickness of the glass particle layer varies within about 1 μm on a single substrate.
本考案は以上の点に鑑みなされたものであり、
均一な厚さのガラス微粒子層を堆積することを可
能としたガラス膜堆積装置を提供することを目的
とするものである。 This invention was created in view of the above points,
It is an object of the present invention to provide a glass film deposition apparatus that is capable of depositing a glass fine particle layer with a uniform thickness.
［問題点を解決するための手段］
上記目的は、ターンテーブル上には基板を乗せ
る基板回転用ターンテーブルを配置し、この基板
回転用ターンテーブルを基板回転用ターンテーブ
ルに連結した基板用モータ駆動装置で独自に回
転・制御することにより、達成される。[Means for Solving the Problems] The above object is to provide a substrate rotation turntable on which a substrate is placed on the turntable, and to drive a substrate motor that is connected to the substrate rotation turntable. This is achieved by independently rotating and controlling the device.
［作用］
ターンテーブル上に基板を乗せる基板回転用タ
ーンテーブルを配置し、この基板回転用ターンテ
ーブルを基板回転用ターンテーブルに連結した基
板用モータ駆動装置で独自に回転・制御するよう
にしたので、ターンテーブル、基板回転用ターン
テーブルが共に回転するようになり、堆積用バー
ナのもつ不均一なガラス堆積分布が無視できるよ
うになる。基板を回転させるので、基板自体が有
する厚さの不均一、ターンテーブルの不均一等に
ついても影響が小さくなり、均一な厚さのガラス
微粒子層が堆積できるようになる。[Function] A substrate rotation turntable for placing a substrate on the turntable is arranged, and this substrate rotation turntable is independently rotated and controlled by a substrate motor drive device connected to the substrate rotation turntable. , the turntable, and the substrate rotation turntable rotate together, and the non-uniform glass deposition distribution of the deposition burner can be ignored. Since the substrate is rotated, the effects of non-uniform thickness of the substrate itself, non-uniformity of the turntable, etc. are reduced, and a glass fine particle layer of uniform thickness can be deposited.
［実施例］
以下、図示した実施例に基づいて本考案を説明
する。第１図および第２図には本考案の一実施例
が示されている。なお従来と同じ部品には同じ符
号を付したので説明を省略する。本実施例ではタ
ーンテーブル２上に基板３を乗せる基板回転用タ
ーンテーブル２ａを配置し、この基板回転用ター
ンテーブル２ａを基板回転用ターンテーブル２ａ
に連結した基板用モータ駆動装置で独自に回転・
制御するようにした。このようにすることにより
均一な厚さのガラス微粒子層が堆積されるように
なつて、均一な厚さのガラス微粒子層を堆積する
ことを可能としたガラス膜堆積装置を得ることが
できる。[Example] The present invention will be described below based on the illustrated example. An embodiment of the present invention is shown in FIGS. 1 and 2. FIG. Note that parts that are the same as those in the conventional system are given the same reference numerals, and therefore their explanations will be omitted. In this embodiment, a substrate rotation turntable 2a on which a substrate 3 is placed is arranged on a turntable 2.
Rotates and rotates independently using the board motor drive device connected to
I got it under control. By doing so, a glass fine particle layer with a uniform thickness is deposited, and a glass film deposition apparatus capable of depositing a glass fine particle layer with a uniform thickness can be obtained.
すなわち基板回転用ターンテーブル２ａを基板
用モータ駆動装置で独自に回転・制御するように
したが、この基板用モータ駆動装置を基板回転用
ターンテーブル２ａに連結た第１の基板用連結カ
ム６ａ、この第１の連結カム６ａに連結した基板
回転ターンテーブル用シヤフト１４、このシヤフ
ト１４に連結した連結部材１５、この連結部材１
５に第２の基板用連結カム６ｂを介して連結した
基板回転用モータ５ａ、このモータ５ａに連結し
た基板用角速度制御装置４ａで形成した。また、
堆積用バーナ８の加熱による温度上昇および飛散
するガラス微粒子から第１の基板用連結カム６
ａ、基板回転ターンテーブル用シヤフト１４を保
護するため、ターンテーブル２の上部にはターン
テーブルカバー１６を、基板回転用ターンテーブ
ル２ａを囲んで設けた。基板回転用ターンテーブ
ル２ａは必要に応じ、面積が許す限りターンテー
ブル２の上へ乗せることができる。このようにす
ることにより、ターンテーブル２が回転し、更に
基板回転用ターンテーブル２ａが回転するように
なつて、堆積用バーナ８から出る原料ガスの分
布、あるいは酸水素炎１１の温度分布に関係な
く、石英あるいはシリコン基板３上に均一な厚さ
のガラス微粒子層を堆積することができる。 That is, the substrate rotation turntable 2a is independently rotated and controlled by the substrate motor drive device, and the first substrate connection cam 6a connects this substrate motor drive device to the substrate rotation turntable 2a, A substrate rotating turntable shaft 14 connected to this first connecting cam 6a, a connecting member 15 connected to this shaft 14, and this connecting member 1
5, a substrate rotating motor 5a connected to the second substrate connecting cam 6b, and a substrate angular velocity control device 4a connected to the motor 5a. Also,
The first substrate connecting cam 6 is protected from the temperature increase due to heating of the deposition burner 8 and the scattered glass particles.
a. In order to protect the substrate rotation turntable shaft 14, a turntable cover 16 was provided on the upper part of the turntable 2 to surround the substrate rotation turntable 2a. The turntable 2a for rotating the substrate can be placed on the turntable 2 as necessary and as long as the area allows. By doing this, the turntable 2 is rotated, and the substrate rotation turntable 2a is further rotated, so that the distribution of the raw material gas emitted from the deposition burner 8 or the temperature distribution of the oxyhydrogen flame 11 is affected. It is possible to deposit a layer of glass fine particles with a uniform thickness on the quartz or silicon substrate 3.
このように本実施例によれば石英またはシリコ
ン基板３に堆積するガラス微粒子の厚さを均一に
することができる。すなわち、ターンテーブル
２、基板回転用ターンテーブル２ａを回転する一
種の２重回転機構を設けることによつて、堆積用
バーナ８のもつ不均一なガラス微粒子堆積分布を
無視することができるようになる。したがつて、
堆積用バーナ８は比較的簡単なものでよくなるの
で、コスト的にも大きな効果を奏することができ
る。また、基板３を回転させるので、基板自体の
有する厚さの不均一、ターンテーブル２の不均一
等についても影響が小さくなる。 In this way, according to this embodiment, the thickness of the glass particles deposited on the quartz or silicon substrate 3 can be made uniform. That is, by providing a kind of double rotation mechanism for rotating the turntable 2 and the substrate rotation turntable 2a, it becomes possible to ignore the uneven glass particle deposition distribution of the deposition burner 8. . Therefore,
Since the deposition burner 8 can be relatively simple, it is possible to achieve a great effect in terms of cost. Furthermore, since the substrate 3 is rotated, the effects of non-uniform thickness of the substrate itself, non-uniformity of the turntable 2, etc. are reduced.
なお、基板回転用ターンテーブル２ａの中心に
基板３を置く必要はなく、偏心した位置に置けば
基板３を楕円状に回転させることもでき、場合に
よつてはその方が均一な層が形成できる。 Note that it is not necessary to place the substrate 3 at the center of the turntable 2a for substrate rotation, and if it is placed at an eccentric position, the substrate 3 can be rotated in an elliptical shape, which may form a more uniform layer in some cases. can.
［考案の効果］
上述のように本考案によれば、基板上に均一な
厚さのガラス微粒子層を堆積することが可能とな
る。[Effects of the Invention] As described above, according to the present invention, it is possible to deposit a glass fine particle layer with a uniform thickness on a substrate.
第１図は本考案のガラス膜堆積装置の一実施例
の縦断側面図、第２図は同じく一実施例のターン
テーブル部分を上から見た上面図、第３図は従来
のガラス膜堆積装置の縦断側面図である。
１……チヤンバ、２……ターンテーブル、２ａ
……基板回転用ターンテーブル、３……基板（石
英またはシリコン）、４……角速度制御装置、４
ａ……基板用角速度制御装置、５……回転用モー
タ、５ａ……基板回転用モータ、６……連結カ
ム、６ａ……第１の基板用連結カム、６ｂ……第
２の基板用連結カム、１４……基板回転ターンテ
ーブル用シヤフト、１５……連結部材。
Fig. 1 is a vertical side view of an embodiment of the glass film deposition apparatus of the present invention, Fig. 2 is a top view of the turntable section of the embodiment, and Fig. 3 is a conventional glass film deposition apparatus. FIG. 1... Chamber, 2... Turntable, 2a
... Turntable for substrate rotation, 3 ... Substrate (quartz or silicon), 4 ... Angular velocity control device, 4
a... Angular velocity control device for substrate, 5... Motor for rotation, 5a... Motor for rotating substrate, 6... Connection cam, 6a... Connection cam for first board, 6b... Connection for second board. Cam, 14... Shaft for substrate rotation turntable, 15... Connection member.
Claims (1)
可能なターンテーブルと、このターンテーブルの
円周上に配置され、基板が乗せられた回転可能な
複数個の基板回転用ターンテーブルと、この基板
上にガラス微粒子を堆積させるためにターンテー
ブルの上方部に設けられたバーナとより構成され
るガラス膜堆積装置において、上記ターンテーブ
ルは、チヤンバ外に設けられた連結カムを介して
連結された回転用モータと、この回転用モータに
連結された角速度制御装置で形成されたモータ駆
動装置で駆動され、ターンテーブルに配置された
複数の基板が順次ガラス堆積用バーナの下方部に
配置される様に間歇的に回転され、バーナの下方
部に配置された基板上に、堆積用バーナに供給さ
れるフレーム用ガスとガラス原料と、フレーム制
御用ガスによる酸水素炎により加水分解反応およ
び熱酸化反応させてガラス微粒子を堆積する際、
前記基板回転用ターンテーブルは、連結された第
１の基板用連結カムと、この第１の連結カムに連
結され、前記ターンテーブルと同軸に配置された
基板回転ターンテーブル用シヤフトと、このシヤ
フトに連結された連結部材と、この連結部材に第
２の基板用連結カムを介して連結された基板用モ
ータと、このモータに連結された基板用角速度制
御装置で形成された基板用モータ駆動装置で駆動
され、基板は独自に回転・制御されるように構成
されたことを特徴とするガラス膜堆積装置。 A chamber, a rotatable turntable provided in the chamber, a plurality of rotatable substrate rotation turntables placed on the circumference of the turntable and on which substrates are placed, and In a glass film deposition apparatus comprising a burner provided above a turntable for depositing glass particles, the turntable is connected to a rotation motor connected via a connecting cam provided outside the chamber. The motor is driven by a motor drive device formed by an angular velocity control device connected to this rotation motor, and is driven intermittently so that the plurality of substrates placed on the turntable are sequentially placed below the glass deposition burner. The flame gas and glass raw material supplied to the deposition burner are then subjected to a hydrolysis reaction and a thermal oxidation reaction using an oxyhydrogen flame caused by the flame control gas, onto a substrate placed below the burner. When depositing fine particles,
The substrate rotation turntable includes a connected first substrate connection cam, a substrate rotation turntable shaft connected to the first connection cam and disposed coaxially with the turntable, and a substrate rotation turntable shaft connected to the first connection cam and disposed coaxially with the turntable. A board motor drive device including a connected connecting member, a board motor connected to the connecting member via a second board connecting cam, and a board angular velocity control device connected to the motor. A glass film deposition apparatus characterized in that the apparatus is configured such that the substrate is rotated and controlled independently.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1987003214U JPH0516193Y2 (en) | 1987-01-13 | 1987-01-13 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1987003214U JPH0516193Y2 (en) | 1987-01-13 | 1987-01-13 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63110538U JPS63110538U (en) | 1988-07-15 |
| JPH0516193Y2 true JPH0516193Y2 (en) | 1993-04-28 |
Family
ID=30782769
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1987003214U Expired - Lifetime JPH0516193Y2 (en) | 1987-01-13 | 1987-01-13 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0516193Y2 (en) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5441388A (en) * | 1977-09-08 | 1979-04-02 | Banyu Pharmaceut Co Ltd | Preparation of cephradine |
| JPS5626784A (en) * | 1979-08-07 | 1981-03-14 | Tokyo Shibaura Electric Co | Glass coated substrate |
| JPS5748851A (en) * | 1980-09-08 | 1982-03-20 | Goda Tadayoshi | Display device for calling number of telephone set |
-
1987
- 1987-01-13 JP JP1987003214U patent/JPH0516193Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5441388A (en) * | 1977-09-08 | 1979-04-02 | Banyu Pharmaceut Co Ltd | Preparation of cephradine |
| JPS5626784A (en) * | 1979-08-07 | 1981-03-14 | Tokyo Shibaura Electric Co | Glass coated substrate |
| JPS5748851A (en) * | 1980-09-08 | 1982-03-20 | Goda Tadayoshi | Display device for calling number of telephone set |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63110538U (en) | 1988-07-15 |
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