JPH05156054A - ポリオレフィンの表面改質法 - Google Patents
ポリオレフィンの表面改質法Info
- Publication number
- JPH05156054A JPH05156054A JP3320720A JP32072091A JPH05156054A JP H05156054 A JPH05156054 A JP H05156054A JP 3320720 A JP3320720 A JP 3320720A JP 32072091 A JP32072091 A JP 32072091A JP H05156054 A JPH05156054 A JP H05156054A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polyolefin
- group
- silane
- solvent
- carbon atoms
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ポリオレフィン表面の接着性の改善及びポリ
オレフィン表面被覆層の剥離防止を目的とする。 【構成】 ポリオレフィンの表面に部分的に反応性官能
基を導入し、一般式 Ｒ1 nＳｉ（ＯＲ2 ）(4-n) ｎ＝
０〜２ （Ｒ1 は炭化水素基等の結合基、Ｒ2 は炭化水
素基、アシル基または水素である。）で示されるシラン
化合物からなる被膜を形成するポリオレフィンの表面改
質法。
オレフィン表面被覆層の剥離防止を目的とする。 【構成】 ポリオレフィンの表面に部分的に反応性官能
基を導入し、一般式 Ｒ1 nＳｉ（ＯＲ2 ）(4-n) ｎ＝
０〜２ （Ｒ1 は炭化水素基等の結合基、Ｒ2 は炭化水
素基、アシル基または水素である。）で示されるシラン
化合物からなる被膜を形成するポリオレフィンの表面改
質法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ポリオレフィン表面の
接着性を改善するために、表面にシラン被膜を形成する
表面処理法に関するものである。
接着性を改善するために、表面にシラン被膜を形成する
表面処理法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ポリオレフィン成形体は軽量・非吸水性
・高伸縮率・耐熱性・耐薬品性などの特性から多量に使
用されている。近年、ポリオレフィンの上記特性を活か
し、セメント補強材として着目されている。しかし、接
着性が悪いなどの欠点があり、これらの表面特性の欠点
の改善方法として、放射線処理・コロナ放電処理などの
方法があるが、これらの方法では充分な接着性が得られ
ていない。また、合成樹脂成形体表面をシランカップリ
ング剤で被覆する方法が提案されている（特公昭５６−
２８９３０）、しかし、この方法では充分な接着性が得
られていない。合成樹脂成形体表面に、シランカップリ
ング剤のプライマー処理をする方法が提案されている
（特開昭６１−１２７３４）、しかしこの方法でも、合
成樹脂にポリオレフィンを用いると、ポリオレフィンと
プライマーの間の接着強度が充分でなく、そこから界面
剥離がおきてしまう。その原因は、ポリオレフィン成形
体表面に、反応性の官能基が存在せず、そのためポリオ
レフィンと第一被膜との間に強固な化学結合が全く形成
されないためである。
・高伸縮率・耐熱性・耐薬品性などの特性から多量に使
用されている。近年、ポリオレフィンの上記特性を活か
し、セメント補強材として着目されている。しかし、接
着性が悪いなどの欠点があり、これらの表面特性の欠点
の改善方法として、放射線処理・コロナ放電処理などの
方法があるが、これらの方法では充分な接着性が得られ
ていない。また、合成樹脂成形体表面をシランカップリ
ング剤で被覆する方法が提案されている（特公昭５６−
２８９３０）、しかし、この方法では充分な接着性が得
られていない。合成樹脂成形体表面に、シランカップリ
ング剤のプライマー処理をする方法が提案されている
（特開昭６１−１２７３４）、しかしこの方法でも、合
成樹脂にポリオレフィンを用いると、ポリオレフィンと
プライマーの間の接着強度が充分でなく、そこから界面
剥離がおきてしまう。その原因は、ポリオレフィン成形
体表面に、反応性の官能基が存在せず、そのためポリオ
レフィンと第一被膜との間に強固な化学結合が全く形成
されないためである。
【０００３】ポリオレフィン表面をシラン化合物で被覆
した後に、電子線照射によりグラフト重合をおこし、ポ
リオレフィンにシランを結合させる方法が米国特許第４
８０３１２６号に示されている。しかしこの方法は、有
機シランの加水分解物を用いているために、シラン層の
厚さを薄くかつ均一に被覆することは難しく、有機シラ
ンの利用効率が悪くなる。また、特開平２−４２３２８
でも有機シランの加水分解物を用いてシラン層を形成す
る方法が示されているが、この方法も有機シランの加水
分解物を用いているために、シラン層の厚さを薄くかつ
均一に被覆することは難しく、有機シランの利用効率が
悪くなる。
した後に、電子線照射によりグラフト重合をおこし、ポ
リオレフィンにシランを結合させる方法が米国特許第４
８０３１２６号に示されている。しかしこの方法は、有
機シランの加水分解物を用いているために、シラン層の
厚さを薄くかつ均一に被覆することは難しく、有機シラ
ンの利用効率が悪くなる。また、特開平２−４２３２８
でも有機シランの加水分解物を用いてシラン層を形成す
る方法が示されているが、この方法も有機シランの加水
分解物を用いているために、シラン層の厚さを薄くかつ
均一に被覆することは難しく、有機シランの利用効率が
悪くなる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来のポリオレフィン
表面処理法では、接着性に優れ、かつ表面被覆層の剥離
が起きない改質法は、未だ開発されていない。本発明は
この課題を解決しようとするものである。
表面処理法では、接着性に優れ、かつ表面被覆層の剥離
が起きない改質法は、未だ開発されていない。本発明は
この課題を解決しようとするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記従来
技術の有する問題点を改善するために研究を重ねた結
果、ポリオレフィン表面に部分的に反応性官能基を導入
し、溶媒中もしくは無溶媒で下記一般式（１）で示され
るシラン化合物モノマーからなる被膜を形成する方法に
より、接着性に優れ表面被覆層の剥離が起きないポリオ
レフィンの表面処理方法を確立した。
技術の有する問題点を改善するために研究を重ねた結
果、ポリオレフィン表面に部分的に反応性官能基を導入
し、溶媒中もしくは無溶媒で下記一般式（１）で示され
るシラン化合物モノマーからなる被膜を形成する方法に
より、接着性に優れ表面被覆層の剥離が起きないポリオ
レフィンの表面処理方法を確立した。
【０００６】一般式（１） Ｒ1 nＳｉ（ＯＲ2 ）(4-n) ｎ＝０〜２ （式中Ｒ1 は、炭素数１〜６の炭化水素基、またはアミ
ノ基、メルカプト基、エポキシ基、メタクリロキシ基、
アルコキシ基、ハロゲンなどの置換基を含む炭素数１〜
６の有機基、または水素から選ばれる１種もしくは複数
の結合基であり、Ｒ2 は、炭素数１〜６の炭化水素基、
または炭素数１〜６のアシル基、または水素である。）
ノ基、メルカプト基、エポキシ基、メタクリロキシ基、
アルコキシ基、ハロゲンなどの置換基を含む炭素数１〜
６の有機基、または水素から選ばれる１種もしくは複数
の結合基であり、Ｒ2 は、炭素数１〜６の炭化水素基、
または炭素数１〜６のアシル基、または水素である。）
【０００７】例えば、メチルトリメトキシシラン、メチ
ルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エ
チルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、
ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラ
ン、フェニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシ
シラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２
−メトキシエトキシ）シラン、ビニルトリアセトキシシ
ラン、アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシ
シラン、メチルビニルジメトキシシラン、メチルビニル
ジエトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシ
ラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−
（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキ
シシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロ
ピルメチルジメトキシシラン、３−メルカプトプロピル
トリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメ
トキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメト
キシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシ
シラン、３−メタクリロキシメチルジメトキシシラン、
３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプ
ロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルメチル
ジメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジエトキ
シシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラ
ン、トリメトキシシラン、トリエトキシシランなどがあ
げられる。
ルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エ
チルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、
ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラ
ン、フェニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシ
シラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２
−メトキシエトキシ）シラン、ビニルトリアセトキシシ
ラン、アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシ
シラン、メチルビニルジメトキシシラン、メチルビニル
ジエトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシ
ラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−
（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキ
シシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロ
ピルメチルジメトキシシラン、３−メルカプトプロピル
トリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメ
トキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメト
キシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシ
シラン、３−メタクリロキシメチルジメトキシシラン、
３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプ
ロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルメチル
ジメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジエトキ
シシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラ
ン、トリメトキシシラン、トリエトキシシランなどがあ
げられる。
【０００８】本発明では、シラン化合物を加水分解して
いない状態で被膜を形成するので、臨界表面張力の小さ
いポリオレフィン表面上にでも、薄くかつ均一な被膜が
形成できる。
いない状態で被膜を形成するので、臨界表面張力の小さ
いポリオレフィン表面上にでも、薄くかつ均一な被膜が
形成できる。
【０００９】本発明の構成は、以下の通りである。 （ａ）ポリオレフィン表面に反応性官能基を部分的に導
入する。反応性官能基の導入方法は放射線照射処理、コ
ロナ放電処理などがあるがこの限りではない。 ・ 電子線照射処理を行う場合には、電子線照射後に酸
素を含む気体（空気等）にさらすことが好ましい。 ・ 電子線は０．１〜３０Ｍｒａｄ、好ましくは１〜１
５Ｍｒａｄ照射する。
入する。反応性官能基の導入方法は放射線照射処理、コ
ロナ放電処理などがあるがこの限りではない。 ・ 電子線照射処理を行う場合には、電子線照射後に酸
素を含む気体（空気等）にさらすことが好ましい。 ・ 電子線は０．１〜３０Ｍｒａｄ、好ましくは１〜１
５Ｍｒａｄ照射する。
【００１０】（ｂ−１）溶媒を用いる場合は、下記溶媒
に一般式（１）で示されるシラン化合物を溶かし、濃度
が１００〜０．０１ｗ％となるように調製したシラン化
合物溶液に、部分的に反応性置換基を導入したポリオレ
フィンを浸す。シラン化合物溶液からポリオレフィンを
取り出し、０〜２００℃好ましくは２０〜１５０℃で、
０．１〜３００分好ましくは１〜１００分乾燥し、シラ
ン被膜を形成する。シラン化合物溶液を調製する溶媒
は、部分的に反応性置換基を導入したポリオレフィンの
臨界表面張力よりも小さい表面張力を持つ溶媒が好まし
い。例えば、炭化水素類（ヘキサン、トルエン等）、エ
ーテル類（ジエチルエーテル、ジオキサン、ジメトキシ
エタン等）、アルコール類（メタノール、エタノール
等）、エステル類（酢酸エチル等）などがあるがこの限
りではない。 ・ シラン化合物溶液の温度は、用いた溶媒の融点以上
沸点以下ならば可能であるが、好ましくは０〜８０℃で
ある。 ・ シラン化合物溶液に浸す時間は、０．０１秒から２
４時間、好ましくは０．１秒から１時間である。
に一般式（１）で示されるシラン化合物を溶かし、濃度
が１００〜０．０１ｗ％となるように調製したシラン化
合物溶液に、部分的に反応性置換基を導入したポリオレ
フィンを浸す。シラン化合物溶液からポリオレフィンを
取り出し、０〜２００℃好ましくは２０〜１５０℃で、
０．１〜３００分好ましくは１〜１００分乾燥し、シラ
ン被膜を形成する。シラン化合物溶液を調製する溶媒
は、部分的に反応性置換基を導入したポリオレフィンの
臨界表面張力よりも小さい表面張力を持つ溶媒が好まし
い。例えば、炭化水素類（ヘキサン、トルエン等）、エ
ーテル類（ジエチルエーテル、ジオキサン、ジメトキシ
エタン等）、アルコール類（メタノール、エタノール
等）、エステル類（酢酸エチル等）などがあるがこの限
りではない。 ・ シラン化合物溶液の温度は、用いた溶媒の融点以上
沸点以下ならば可能であるが、好ましくは０〜８０℃で
ある。 ・ シラン化合物溶液に浸す時間は、０．０１秒から２
４時間、好ましくは０．１秒から１時間である。
【００１１】（ｂ−２）無溶媒で行う場合は、部分的に
反応性置換基を導入したポリオレフィンを、上記一般式
（１）で示されるシラン液に浸す、または、上記一般式
（１）のシラン蒸気中に放置する。反応器からポリオレ
フィンを取り出し、０〜２００℃好ましくは２０〜１５
０℃で、０．１〜３００分好ましくは１〜１００分乾燥
し、シラン被膜を形成する。 ・ シラン液に浸す方法の温度は、０〜２００℃、好ま
しくは０〜８０℃である。 ・ シラン液に浸す方法の時間は、０．０１秒から２４
時間、好ましくは０．１秒から１時間である。 ・ シラン蒸気中に放置する方法の温度は、０〜２００
℃、好ましくは０〜１００℃である。 ・ シラン蒸気中に放置する方法の時間は、０．０１秒
から２４時間、好ましくは０．１秒から１時間である。
反応性置換基を導入したポリオレフィンを、上記一般式
（１）で示されるシラン液に浸す、または、上記一般式
（１）のシラン蒸気中に放置する。反応器からポリオレ
フィンを取り出し、０〜２００℃好ましくは２０〜１５
０℃で、０．１〜３００分好ましくは１〜１００分乾燥
し、シラン被膜を形成する。 ・ シラン液に浸す方法の温度は、０〜２００℃、好ま
しくは０〜８０℃である。 ・ シラン液に浸す方法の時間は、０．０１秒から２４
時間、好ましくは０．１秒から１時間である。 ・ シラン蒸気中に放置する方法の温度は、０〜２００
℃、好ましくは０〜１００℃である。 ・ シラン蒸気中に放置する方法の時間は、０．０１秒
から２４時間、好ましくは０．１秒から１時間である。
【００１２】
【実施例】以下の実施例及び比較例により本発明を更に
具体的に説明する。実施にあたり、電子線照射はエリア
ビーム型電子線照射装置（日新ハイボルテージ株式会社
製 Ｃｕｒｅｔｒｏｎ ＥＢＣ−２００−ＡＡ２）を使
用した。なお、実施例及び比較例における臨界表面張力
・剥離試験・引き抜け強度試験は以下の方法で行った。
具体的に説明する。実施にあたり、電子線照射はエリア
ビーム型電子線照射装置（日新ハイボルテージ株式会社
製 Ｃｕｒｅｔｒｏｎ ＥＢＣ−２００−ＡＡ２）を使
用した。なお、実施例及び比較例における臨界表面張力
・剥離試験・引き抜け強度試験は以下の方法で行った。
【００１３】臨界表面張力：塗れ試薬（和光純薬製、３
１〜５４ｄｙｎ／ｃｍ）を用いて臨界表面張力の測定を
行った。
１〜５４ｄｙｎ／ｃｍ）を用いて臨界表面張力の測定を
行った。
【００１４】剥離試験：薄膜形成表面に縦１ｍｍ横１ｍ
ｍの碁盤目を１００個刻み、セロファン粘着テープによ
り剥離させ、残存した碁盤目の数により評価した。 Ａ：残存数１００ Ｂ：残存数９０〜９９ Ｃ：残存数１〜８９ Ｄ：残存数０
ｍの碁盤目を１００個刻み、セロファン粘着テープによ
り剥離させ、残存した碁盤目の数により評価した。 Ａ：残存数１００ Ｂ：残存数９０〜９９ Ｃ：残存数１〜８９ Ｄ：残存数０
【００１５】引き抜け強度試験：日本コンクリート工学
協会(JapanConcrete Institute)繊維の付着試験方法
（ＪＣＩ−ＳＦ８）ＡＳＴＭ Ｃ１９０に準じたセメン
トモルタル引張試験治具を用いて付着試験片を作成し、
その後引張試験により測定した。すなわち、ポリプロピ
レン板を長さ３５ｍｍに切断し（幅２０ｍｍ、厚さ１ｍ
ｍ）、約１ｍｍのテフロン板の間隙を貫通させ、片側
（引き抜け側）を約１０ｍｍ、もう片側（固定側）約２
５ｍｍになるように固定する。これを一個の試験片に２
箇所作り型枠の中央部に固定し、引続き、普通ポルトラ
ンドセメント（Ｃ）、豊浦標準砂（Ｓ）、水（Ｗ）を
Ｃ：Ｓ：Ｗ＝１：１．７：０．５の配合比で混練したモ
ルタルペーストを型枠に流し込み、翌日脱型し、湿空中
で６日間養生した。試験片作成日より７日目に載荷速度
０．５ｍｍ／ｍｉｎで引張試験を行い引き抜け強度試験
を行った。
協会(JapanConcrete Institute)繊維の付着試験方法
（ＪＣＩ−ＳＦ８）ＡＳＴＭ Ｃ１９０に準じたセメン
トモルタル引張試験治具を用いて付着試験片を作成し、
その後引張試験により測定した。すなわち、ポリプロピ
レン板を長さ３５ｍｍに切断し（幅２０ｍｍ、厚さ１ｍ
ｍ）、約１ｍｍのテフロン板の間隙を貫通させ、片側
（引き抜け側）を約１０ｍｍ、もう片側（固定側）約２
５ｍｍになるように固定する。これを一個の試験片に２
箇所作り型枠の中央部に固定し、引続き、普通ポルトラ
ンドセメント（Ｃ）、豊浦標準砂（Ｓ）、水（Ｗ）を
Ｃ：Ｓ：Ｗ＝１：１．７：０．５の配合比で混練したモ
ルタルペーストを型枠に流し込み、翌日脱型し、湿空中
で６日間養生した。試験片作成日より７日目に載荷速度
０．５ｍｍ／ｍｉｎで引張試験を行い引き抜け強度試験
を行った。
【００１６】（実施例１）ポリプロピレン平板（ＰＰ）
（７５ｍｍ×７０ｍｍ×１ｍｍ）に電子線（加速電圧１
５０ＫｅＶ、１０Ｍｒａｄ）を照射した。電子線照射後
のポリプロピレン平板を空気中に１日間放置後、３−ア
ミノプロピルトリエトキシシラン（ＡＭＳ）の０．５重
量％１，２−ジメトキシエタン溶液中６０℃で３０分加
熱した。反応終了後、１００℃で１時間乾燥し、シラン
被覆ポリプロピレン平板を得た。
（７５ｍｍ×７０ｍｍ×１ｍｍ）に電子線（加速電圧１
５０ＫｅＶ、１０Ｍｒａｄ）を照射した。電子線照射後
のポリプロピレン平板を空気中に１日間放置後、３−ア
ミノプロピルトリエトキシシラン（ＡＭＳ）の０．５重
量％１，２−ジメトキシエタン溶液中６０℃で３０分加
熱した。反応終了後、１００℃で１時間乾燥し、シラン
被覆ポリプロピレン平板を得た。
【００１７】（実施例２〜７）実施例１の有機シラン
に、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン
（ＭＡＳ）、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシ
ラン（ＥＰＳ）、アリルトリエトキシシラン（ＡＴＥ
Ｓ）、ビニルトリエトキシシラン（ＶＴＥＳ）、メチル
トリエトキシシラン（ＭＴＥＳ）、テトラエトキシシラ
ン（ＴＥＯＳ）を用いた以外はすべて実施例１と同様な
操作を行い、シラン被覆ポリプロピレン平板を得た。
に、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン
（ＭＡＳ）、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシ
ラン（ＥＰＳ）、アリルトリエトキシシラン（ＡＴＥ
Ｓ）、ビニルトリエトキシシラン（ＶＴＥＳ）、メチル
トリエトキシシラン（ＭＴＥＳ）、テトラエトキシシラ
ン（ＴＥＯＳ）を用いた以外はすべて実施例１と同様な
操作を行い、シラン被覆ポリプロピレン平板を得た。
【００１８】（実施例８）ポリプロピレン平板（ＰＰ）
（７５ｍｍ×７０ｍｍ×１ｍｍ）に電子線（加速電圧１
５０ＫｅＶ、１０Ｍｒａｄ）を照射した。電子線照射後
のポリプロピレン平板を空気中に１日間放置後、３−ア
ミノプロピルトリエトキシシラン（ＡＭＳ）中２５℃で
５分放置後、反応液からとりだし１００℃で１時間乾燥
しシラン被覆ポリプロピレン平板を得た。
（７５ｍｍ×７０ｍｍ×１ｍｍ）に電子線（加速電圧１
５０ＫｅＶ、１０Ｍｒａｄ）を照射した。電子線照射後
のポリプロピレン平板を空気中に１日間放置後、３−ア
ミノプロピルトリエトキシシラン（ＡＭＳ）中２５℃で
５分放置後、反応液からとりだし１００℃で１時間乾燥
しシラン被覆ポリプロピレン平板を得た。
【００１９】（実施例９）ポリプロピレン平板（ＰＰ）
（７５ｍｍ×７０ｍｍ×１ｍｍ）に電子線（加速電圧１
５０ＫｅＶ、１０Ｍｒａｄ）を照射した。電子線照射後
のポリプロピレン平板を空気中に１日間放置後、２５℃
で、３−アミノプロピルトリエトキシシラン（ＡＭＳ）
の蒸気中に５分放置後、反応器から取り出し、１００℃
で１時間乾燥しシラン被覆ポリプロピレン平板を得た。
（７５ｍｍ×７０ｍｍ×１ｍｍ）に電子線（加速電圧１
５０ＫｅＶ、１０Ｍｒａｄ）を照射した。電子線照射後
のポリプロピレン平板を空気中に１日間放置後、２５℃
で、３−アミノプロピルトリエトキシシラン（ＡＭＳ）
の蒸気中に５分放置後、反応器から取り出し、１００℃
で１時間乾燥しシラン被覆ポリプロピレン平板を得た。
【００２０】（比較例１）無処理のポリプロピレン平板
の引き抜け強度を測定した。
の引き抜け強度を測定した。
【００２１】（比較例２）ポリプロピレン平板（７５ｍ
ｍ×７０ｍｍ×１ｍｍ）に電子線照射処理を行わない以
外はすべて実施例１と同様な操作を行い、シラン被覆ポ
リプロピレン平板を得た。
ｍ×７０ｍｍ×１ｍｍ）に電子線照射処理を行わない以
外はすべて実施例１と同様な操作を行い、シラン被覆ポ
リプロピレン平板を得た。
【００２２】（比較例３）ポリプロピレン平板（ＰＰ）
（７５ｍｍ×７０ｍｍ×１ｍｍ）を、３−アミノプロピ
ルトリエトキシシラン（ＡＭＳ）の０．５重量％ジメト
キシエタン溶液中６０℃で３０分加熱した。反応終了
後、１００℃で１時間乾燥し、電子線（加速電圧１５０
ＫｅＶ、１０Ｍｒａｄ）を照射し、シラン被覆ポリプロ
ピレン平板を得た。
（７５ｍｍ×７０ｍｍ×１ｍｍ）を、３−アミノプロピ
ルトリエトキシシラン（ＡＭＳ）の０．５重量％ジメト
キシエタン溶液中６０℃で３０分加熱した。反応終了
後、１００℃で１時間乾燥し、電子線（加速電圧１５０
ＫｅＶ、１０Ｍｒａｄ）を照射し、シラン被覆ポリプロ
ピレン平板を得た。
【００２３】実施例１〜９、比較例１〜３の臨界表面張
力・剥離試験及び引き抜け強度試験の結果を表１に示
す。
力・剥離試験及び引き抜け強度試験の結果を表１に示
す。
【００２４】
【表１】
【００２５】（実施例１０）コロナ放電処理をしたポリ
プロピレン平板（ＰＰ）（７５ｍｍ×７０ｍｍ×１ｍ
ｍ）を、３−アミノプロピルトリエトキシシラン（ＡＭ
Ｓ）の０．５重量％ジメトキシエタン溶液中６０℃で３
０分加熱した。反応終了後、１００℃で１時間乾燥し、
シラン被覆ポリプロピレン平板を得た。
プロピレン平板（ＰＰ）（７５ｍｍ×７０ｍｍ×１ｍ
ｍ）を、３−アミノプロピルトリエトキシシラン（ＡＭ
Ｓ）の０．５重量％ジメトキシエタン溶液中６０℃で３
０分加熱した。反応終了後、１００℃で１時間乾燥し、
シラン被覆ポリプロピレン平板を得た。
【００２６】（実施例１１）ポリエチレン平板（ＰＥ）
（７５ｍｍ×７０ｍｍ×１ｍｍ）を用いた以外は実施例
１と同様の操作を行い、シラン被覆ポリエチレン平板を
得た。
（７５ｍｍ×７０ｍｍ×１ｍｍ）を用いた以外は実施例
１と同様の操作を行い、シラン被覆ポリエチレン平板を
得た。
【００２７】（実施例１２）コロナ放電処理をしたポリ
エチレン平板（ＰＥ）（７５ｍｍ×７０ｍｍ×１ｍｍ）
を用いた以外は実施例１０と同様の操作を行い、シラン
被覆ポリエチレン平板を得た。
エチレン平板（ＰＥ）（７５ｍｍ×７０ｍｍ×１ｍｍ）
を用いた以外は実施例１０と同様の操作を行い、シラン
被覆ポリエチレン平板を得た。
【００２８】（比較例４）無処理のポリエチレン平板の
引き抜け強度を測定した。
引き抜け強度を測定した。
【００２９】実施例１０〜１２、比較例４の臨界表面張
力・剥離試験及び引き抜け強度試験の結果を表２に示
す。
力・剥離試験及び引き抜け強度試験の結果を表２に示
す。
【００３０】
【表２】
【００３１】（実施例１３）ポリプロピレン２Ｄトウ
（３７０００Ｄ、５０ｃｍ）に、電子線（加速電圧１５
０ｋｅＶ、１０Ｍｒａｄ）を照射した。照射後のポリプ
ロピレン２Ｄトウを、３−アミノプロピルトリエトキシ
シランの１重量％１，２−ジメトキシエタン溶液中６０
℃で、３０分加熱した。反応終了後、反応液から取り出
し、１００℃で１時間乾燥して、シラン被覆を形成し
た。シラン被覆ポリプロピレン２Ｄトウを５ｍｍに切断
した。表３に示した配合でモルタルペーストを混練し、
型枠に流し込み、翌日脱型し湿空中で６日間養生した。
試験片作成日７日目に載荷速度２ｍｍ／ｍｉｎで曲げ強
度試験を行った。
（３７０００Ｄ、５０ｃｍ）に、電子線（加速電圧１５
０ｋｅＶ、１０Ｍｒａｄ）を照射した。照射後のポリプ
ロピレン２Ｄトウを、３−アミノプロピルトリエトキシ
シランの１重量％１，２−ジメトキシエタン溶液中６０
℃で、３０分加熱した。反応終了後、反応液から取り出
し、１００℃で１時間乾燥して、シラン被覆を形成し
た。シラン被覆ポリプロピレン２Ｄトウを５ｍｍに切断
した。表３に示した配合でモルタルペーストを混練し、
型枠に流し込み、翌日脱型し湿空中で６日間養生した。
試験片作成日７日目に載荷速度２ｍｍ／ｍｉｎで曲げ強
度試験を行った。
【００３２】（比較例５）無処理のポリプロピレン２Ｄ
トウを５ｍｍに切断し、表３に示した配合でモルタルペ
ーストを混練し、型枠に流し込み、翌日脱型し湿空中で
６日間養生した。試験片作成日７日目に載荷速度２ｍｍ
／ｍｉｎで曲げ強度試験を行った。
トウを５ｍｍに切断し、表３に示した配合でモルタルペ
ーストを混練し、型枠に流し込み、翌日脱型し湿空中で
６日間養生した。試験片作成日７日目に載荷速度２ｍｍ
／ｍｉｎで曲げ強度試験を行った。
【００３３】実施例１３、比較例５の曲げ強度試験の結
果を表３に示す。
果を表３に示す。
【００３４】
【表３】
【００３５】
【発明の効果】以上の実施例、比較例により次のことが
明らかになった。無処理のポリオレフィンにシラン被覆
をしても、引き抜け強度はほとんど向上しなかったが、
表面に部分的に反応性官能基を導入したポリオレフィン
にシラン被覆をすると、引き抜け強度は１．５〜２倍に
なり、無機材質との接着性が向上した。また、特にアミ
ノ基を含むシラン化合物の効果は顕著であった。本発明
によれば、ポリオレフィンの表面に、接着性にすぐれた
薄くかつ均一なシラン被膜を形成できる。したがって、
シラン被膜を形成したポリオレフィンをセメント補強材
に用いた場合、セメントの補強効果が期待できる。
明らかになった。無処理のポリオレフィンにシラン被覆
をしても、引き抜け強度はほとんど向上しなかったが、
表面に部分的に反応性官能基を導入したポリオレフィン
にシラン被覆をすると、引き抜け強度は１．５〜２倍に
なり、無機材質との接着性が向上した。また、特にアミ
ノ基を含むシラン化合物の効果は顕著であった。本発明
によれば、ポリオレフィンの表面に、接着性にすぐれた
薄くかつ均一なシラン被膜を形成できる。したがって、
シラン被膜を形成したポリオレフィンをセメント補強材
に用いた場合、セメントの補強効果が期待できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｄ０６Ｍ 13/513 // Ｄ０６Ｍ 101:18 7199−3Ｂ Ｄ０６Ｍ 10/00 Ｊ (72)発明者 堀口 昌利 神奈川県川崎市川崎区大川町５番１号 昭 和電工株式会社化学品研究所内 (72)発明者 松永 豊治 神奈川県川崎市川崎区大川町５番１号 昭 和電工株式会社化学品研究所内 (72)発明者 佐藤 輝行 神奈川県川崎市川崎区大川町５番１号 昭 和電工株式会社化学品研究所内
Claims (4)
- 【請求項１】 （ａ）ポリオレフィンの表面に、放射線
照射処理、コロナ放電処理などにより部分的に反応性官
能基を導入し、（ｂ）溶媒中もしくは無溶媒で、下記一
般式（１）で示されるシラン化合物からなる被膜を形成
することを特徴とするポリオレフィンの表面改質法。 一般式（１） Ｒ1 nＳｉ（ＯＲ2 ）(4-n) ｎ＝０〜２ （式中Ｒ1 は、炭素数１〜６の炭化水素基、またはアミ
ノ基、メルカプト基、エポキシ基、メタクリロキシ基、
アルコキシ基、ハロゲンなどの置換基を含む炭素数１〜
６の有機基、または水素から選ばれる１種もしくは複数
の結合基であり、Ｒ2 は、炭素数１〜６の炭化水素基、
または炭素数１〜６のアシル基、または水素である。） - 【請求項２】 上記（ｂ）のシラン被膜の形成方法が、
一般式（１）のシラン化合物蒸気を用いる方法である請
求項１記載のポリオレフィンの表面改質法。 - 【請求項３】 上記（ｂ）の溶媒が、表面に部分的に反
応性官能基を導入したポリオレフィンの臨界表面張力よ
りも小さい表面張力を持った溶媒である請求項１記載の
ポリオレフィンの表面改質法。 - 【請求項４】 上記（ａ）の反応性官能基導入方法が、
電子線照射後に酸素を含む気体にさらす方法である請求
項１記載のポリオレフィンの表面改質法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3320720A JPH05156054A (ja) | 1991-12-04 | 1991-12-04 | ポリオレフィンの表面改質法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3320720A JPH05156054A (ja) | 1991-12-04 | 1991-12-04 | ポリオレフィンの表面改質法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05156054A true JPH05156054A (ja) | 1993-06-22 |
Family
ID=18124577
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3320720A Pending JPH05156054A (ja) | 1991-12-04 | 1991-12-04 | ポリオレフィンの表面改質法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05156054A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6246824B1 (en) | 1997-03-18 | 2001-06-12 | Dsm N.V. | Method for curing optical glass fiber coatings and inks by low power electron beam radiation |
| WO2002004552A1 (en) * | 2000-07-06 | 2002-01-17 | Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation | A process for modifying the surface of a substrate containing a polymeric material by means of vaporising the surface modifying agent |
| US6706320B2 (en) | 2000-07-06 | 2004-03-16 | Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation | Method for surface engineering |
| JP2014218086A (ja) * | 2014-07-22 | 2014-11-20 | 大日本印刷株式会社 | 積層体およびその製造方法 |
| JP2015212092A (ja) * | 2015-06-25 | 2015-11-26 | 大日本印刷株式会社 | 積層体およびその製造方法 |
-
1991
- 1991-12-04 JP JP3320720A patent/JPH05156054A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6246824B1 (en) | 1997-03-18 | 2001-06-12 | Dsm N.V. | Method for curing optical glass fiber coatings and inks by low power electron beam radiation |
| WO2002004552A1 (en) * | 2000-07-06 | 2002-01-17 | Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation | A process for modifying the surface of a substrate containing a polymeric material by means of vaporising the surface modifying agent |
| US6706320B2 (en) | 2000-07-06 | 2004-03-16 | Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation | Method for surface engineering |
| JP2014218086A (ja) * | 2014-07-22 | 2014-11-20 | 大日本印刷株式会社 | 積層体およびその製造方法 |
| JP2015212092A (ja) * | 2015-06-25 | 2015-11-26 | 大日本印刷株式会社 | 積層体およびその製造方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0076656B1 (en) | Solvent-soluble organopolysilsesquioxanes, processes for producing the same, and compositions and semiconductor devices using the same | |
| KR100333152B1 (ko) | 방수조성물및이를사용한표면처리방법 | |
| US4243718A (en) | Primer compositions for Si-H-olefin platinum catalyzed silicone compositions | |
| US4808483A (en) | Primer compositions | |
| US4233428A (en) | Primer compositions for silicone rubber compositions | |
| WO2020057174A1 (zh) | 一种氧化铝溶胶-硅烷复合材料及其制备方法和应用 | |
| US4764576A (en) | Silicone-based coating composition for surface-releasing film | |
| JPH09183908A (ja) | 硬化性オルガノポリシロキサン組成物および該組成物を使用して基材と被着体を接着させる方法 | |
| JPS62263240A (ja) | カップリング剤組成物 | |
| JPH037615B2 (ja) | ||
| JPH05156054A (ja) | ポリオレフィンの表面改質法 | |
| KR20210058705A (ko) | 실온 저장-안정성 UV/Vis 및 수분 이중 경화성 폴리실록산 조성물 | |
| CN109485894A (zh) | 硅橡胶的表面处理方法 | |
| JPS6084375A (ja) | プライマ−組成物 | |
| JPH05156055A (ja) | ポリオレフィン表面のシリカ被膜形成方法 | |
| CN112358847B (zh) | 一种耐uv光照的有机聚硅氧烷组合物 | |
| JPS6345741B2 (ja) | ||
| JP2698005B2 (ja) | 表面の改質方法 | |
| CN117467367B (zh) | 一种热塑性poe封装胶膜及其制备方法、光伏组件 | |
| JPH02152915A (ja) | 歯科接着用組成物及び接着方法 | |
| JPH044035B2 (ja) | ||
| CN117363158B (zh) | 一种用于酸碱盐湿气环境的石墨烯基涂料及其制备方法 | |
| JPS6134758B2 (ja) | ||
| JPS5856822A (ja) | ポリエチレンライニング鋼管用プライマ−シ−ト | |
| JPH05155646A (ja) | 水硬性物質成形体 |