JPH05151565A - 磁気記録媒体の製造方法および基板研磨装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 テクスチャリング工程によって発生した異常
突起を効率よく除去して、摩擦特性および浮上特性を向
上可能な磁気記録媒体の製造方法および基板研磨装置を
実現すること。 【構成】 テクスチャー加工後の磁気記録ディスク用基
板１ａ表面から異常突起を除去するために、基板研磨装
置１１においては、磁気記録ディスク用基板１ａを基板
回転機構１２により回転させた状態で、テープ支持ロー
ラ１４ａ，１４ｂに支持された研磨テープ１３の背面側
に空気噴射口１５ａから空気流を噴射し、それらを接触
させて基板面の最表層を研磨する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は磁気記録媒体の製造方法
および基板研磨装置に関し、特に、磁気記録媒体表面の
摩擦特性および浮上特性の向上技術に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、コンピュータの外部記憶装置で
ある固定磁気記録装置などに搭載される磁気記録ディス
ク（磁気記録媒体）は、Ｎｉ−Ｐなどの無電解めっき層
が形成された磁気記録ディスク用基板と、その表面側に
形成された磁性層と、その表面保護層などから構成され
ており、その表面状態は磁気記録ディスクの記録密度お
よび信頼性を大きく支配する。たとえば、磁気記録ディ
スク表面と、この表面上をコンタクトスタートストップ
（ＣＳＳ）される磁気ヘッドとの摩擦係数が大きい場合
には、磁気記録ディスク表面に磁気ヘッドが吸着しやす
く、磁気ヘッドのドライブ機構の破損または磁気記録デ
ィスクが回転不能というトラブルが発生しやすくなる。
そこで、磁気記録ディスク用基板の表面側には、鏡面加
工が施された後に、微細な溝状の凹凸（テクスチャー）
を形成するテクスチャリング工程が施される。このよう
にして形成されたテクスチャーの凹凸は、その表面側に
磁性層や表面保護層が形成されても、磁気記録ディスク
の表面に反映されるため、その摩擦特性（潤滑特性）を
改善する。

【０００３】ここで、テクスチャリング工程において
は、磁気記録ディスク用基板表面に向けて、研磨テープ
（テクスチャリングテープ）をその背面側からゴムロー
ラによって押圧して、研磨テープの研磨面と磁気記録デ
ィスク用基板表面とを接触させ、この状態で、磁気記録
ディスク用基板を円周方向に回転させることによって、
その基板面に溝状のテクスチャーを形成する。この間、
研磨テープと磁気記録ディスク用基板表面との間には研
磨液が供給されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
磁気記録ディスクの製造方法においては、テクスチャリ
ング工程を施した後の磁気記録ディスク用基板の表面上
には、テクスチャーを研削形成したときに発生したばり
としての凹凸の突出部分（以下、異常突起と称す。）が
存在するため、磁気記録ディスク表面に反映された異常
突起と磁気ヘッドとが衝突しないように、磁気ヘッドの
浮上距離を大きく確保せざるを得ない。ここで、磁気ヘ
ッドの浮上距離が小さい場合には、磁気記録ディスクの
記録トラックの幅を狭めることができるので、その記録
容量の向上を図ることが可能になるが、従来の磁気記録
ディスクにおいては、この浮上距離を圧縮することがで
きないため、磁気記録ディスクを高密度記録化できない
という問題点がある。

【０００５】そこで、前述のテクスチャリング工程に続
いて、砥粒の粒径が小さな研磨テープを用いて第２段の
テクスチャリング工程を行う方法が採用されている。こ
の工程においても、磁気記録ディスク用基板表面に向け
て、研磨テープをその背面側からゴムローラによって押
圧して、研磨テープの研磨面と磁気記録ディスク用基板
表面とを接触させた状態で行われる。しかしながら、第
１段および第２段のテクスチャリング工程も、基本的に
は研磨機構を有するものであって、砥粒が小さくとも、
研削時にばりが発生することを避けることができない。
すなわち、凹凸を研削形成する能力は高いが、研磨する
能力は低い。従って、異常突起を完全に除去するには、
磁気記録ディスク用基板を厚く研削する必要があるた
め、第１段のテクスチャリング工程により形成したテク
スチャーが消失しやすく、磁気記録ディスクの摩擦特性
が犠牲になってしまうという問題がある。

【０００６】以上の問題点に鑑みて、本発明の課題は、
テクスチャー自身を消失させることなく、異常突起のみ
を効率よく除去することによって、摩擦特性および浮上
特性のいずれをも向上可能な磁気記録媒体の製造方法お
よび基板研磨装置を実現することにある。

【０００７】

【課題を解決するたの手段】上記課題を解決するため
に、本発明に係る磁気記録媒体の製造方法において講じ
た手段は、非磁性体からなる磁気記録媒体用基板のテク
スチャー加工が施された基板面に向けて、研磨テープを
その背面側に噴射された気体流の流体圧力によって押圧
し、研磨テープの研磨面と基板面とを接触させた状態で
それらを相対的に移動させて基板面の最表層を研磨する
表層研磨工程を行うことである。

【０００８】ここで、表層研磨工程を、基板面および研
磨テープの研磨面が乾燥している状態で行うことが好ま
しい。

【０００９】このような表層研磨工程を実施可能とする
ために、本発明に係る基板研磨装置には、円板状の基板
を支持した状態でそれを円周方向に回転させる基板回転
手段と、この基板回転手段に支持された基板の基板面に
所定の間隔をもって研磨テープの研磨面が対向するよう
に、研磨テープをその長手方向の少なくとも２ヶ所で支
持するテープ支持手段と、このテープ支持手段に支持さ
れた研磨テープの背面側に向けて気体流を噴射して、そ
の研磨面と基板面とを接触させる噴射口を備える気体流
噴射手段と、テープ支持手段に支持された研磨テープを
その長手方向に送り出すテープ送り出し手段とを設けて
ある。

【００１０】ここで、研磨テープの幅が狭くても基板表
面全体を研磨可能なように、前述の基板研磨装置に、テ
ープ支持手段と基板とを相対的に移動させて、研磨テー
プを基板の半径方向に往復移動させる往復移動機構も設
けておくことが好ましい。

【００１１】

【作用】本発明においては、テクスチャーが形成された
磁気記録媒体用基板の表面に向けて、研磨テープをその
背面側に噴射された気体流の流体圧力を利用して押圧す
ることにより、研磨テープの研磨面と磁気記録媒体用基
板の基板面とを接触させて研磨を行うため、研磨中にお
いて、研磨テープの研磨面は、磁気記録媒体用基板の基
板面に緩く弾接した状態にあり、磁気記録媒体用基板表
面の凹凸に対応して可動な状態にある。このため、研磨
中にばりが発生せず、その研磨する能力が高い。従っ
て、磁気記録媒体用基板表面を表層側のみを除去するだ
けで、異常突起を完全に除去することができるので、テ
クスチャーが消失することがなく、磁気記録媒体の摩擦
特性および浮上特性のいずれもが向上する。

【００１２】

【実施例】次に、添付図面に基づいて、本発明の実施例
に係る磁気記録ディスクおよびその製造方法を説明す
る。

【００１３】図３は本発明の実施例に係る磁気記録ディ
スクを切り欠いて示す概略斜視図である。

【００１４】図において、１は３．５インチの磁気記録
ディスク（磁気記録媒体）であり、この磁気記録ディス
ク１を形成するための磁気記録ディスク用基板１ａは、
その基体たるアルミニウム合金基板２の両面側に、第１
の下地金属層たるＮｉ−Ｐめっき層３が無電解めっきに
より形成されたものである。この磁気記録ディスク１に
おいては、磁気記録ディスク用基板１ａの表面側に、第
２の下地金属層たるＣｒ層４と、その表面側にスパッタ
形成された磁性層たるＣｏ合金層５と、その表面側にス
パッタ形成された表面保護層としてのアモルファスカー
ボン層６とを有している。さらに、アモルファスカーボ
ン層６の表面には潤滑剤層が塗布されている。ここで、
Ｎｉ−Ｐめっき層３の表面には、鏡面加工された後に形
成された微細な凹凸（テクスチャー）を有し、これらの
凹凸は磁気記録ディスク１の表面にまで反映されてい
る。しかも、Ｎｉ−Ｐめっき層３の表面には、テクスチ
ャーを形成するときに生じた異常突起は表層研磨工程に
より完全に除去されている。

【００１５】従って、本例の磁気記録ディスク１におい
ては、磁気ヘッドの浮上距離を圧縮でき、磁気記録ディ
スク１の記録トラックを高密度化して、その高記録容量
化が可能になっている。また、テクスチャーによって、
その表面の摩擦特性が改善されており、磁気記録ディス
ク１の表面上で磁気ヘッドがＣＳＳされても、磁気ヘッ
ドが磁気記録ディスク１の表面に吸着しにくいので、磁
気ヘッドのドライブ機構の損傷や磁気記録ディスク１の
回転不能というトラブルが発生しにくくなっている。

【００１６】このような構成の磁気記録ディスク１の製
造方法を説明する。

【００１７】なお、本例の磁気記録ディスクの製造フロ
ーは、図４に示すように、順次行われる磁気記録ディス
ク用基板形成工程３１，第１の洗浄工程３２，テクスチ
ャリング工程３３，乾燥工程３４，表層研磨工程３５お
よび第２の洗浄工程３６などから構成されている。

【００１８】まず、磁気記録ディスク用基板形成工程３
１においては、アルミニウム合金基板２の表面に第１の
下地金属層としてのＮｉ−Ｐめっき層３を約１３〜１４
μｍの厚さにめっき形成した後に、鏡面加工（ポリッシ
ング加工）を施して、その表面を平滑化する。このよう
にして、非磁性体からなる磁気記録ディスク用基板１ａ
を形成する。

【００１９】つぎに、第１の洗浄工程３２において、磁
気記録ディスク用基板１ａの表面を清浄化する。

【００２０】その後に、磁気記録ディスク１表面の摩擦
特性を改善するためのテクスチャリング工程３３を行
う。この工程においては、所定の粒径、たとえば平均粒
径が３μｍの砥粒が固定された幅が約４０ｍｍの研磨テ
ープ（研磨部材）を用いて、磁気記録ディスク用基板１
ａの表面（Ｎｉ−Ｐめっき層３の表面）に微細な凹凸を
形成する。この工程では、磁気記録ディスク用基板１ａ
を円周方向に回転させた状態で、研磨テープの研磨面を
磁気記録ディスク用基板１ａに対して付勢した状態で行
う。本例においては、研磨テープの背面側を、表面の硬
度が約６０°のゴムローラなどによって約２ｋｇｆ／ｃ
ｍ² の押し付け圧力をもって押圧する。そして、研磨テ
ープを磁気記録ディスク用基板１ａの表面上を半径方向
に往復移動させて、その表面全体に所定のパターンのテ
クスチャーを形成する。このとき、研磨テープを約１．
０ｃｍ／ｓｅｃの送り速度で移動させて、研磨テープの
新たな面で磁気記録ディスク用基板１ａの表面を研磨す
る。この間、研磨テープと磁気記録ディスク用基板１ａ
との間には、研磨液が供給される。なお、テクスチャリ
ング工程は、一回に限らず、研磨テープの種類を変え
て、また磁気記録ディスク用基板１ａと研磨テープとの
相対的な移動条件などを変えて、複数回行う場合もある
（テクスチャリング工程）。

【００２１】つぎに、乾燥工程３４において、磁気記録
ディスク用基板１ａを洗浄した後に、それを高速回転さ
せて、乾燥させる。

【００２２】本例においては、このテクスチャリング工
程に続いて、磁気記録ディスク用基板１ａの表面に形成
された異常突起を除去するために、磁気記録ディスク用
基板１ａの表面（Ｎｉ−Ｐめっき層３の表層）に対して
表層研磨工程３５を行う。この表層研磨工程において
は、テクスチャリング工程のようにゴムローラによって
研磨テープを磁気記録ディスク用基板１ａの表面に向け
て押圧するのではなく、研磨テープの背面側に向けて噴
出される気体流の流体圧力を用いて、研磨テープを磁気
記録ディスク用基板１ａの表面に向けて押圧する。

【００２３】この表層研磨工程３５を説明するまえに、
この工程に用いた基板研磨装置を、図１および図２に基
づいて説明しておく。

【００２４】図１は本発明に実施例に係る基板研磨装置
の要部の平面図、図２はその正面図である。

【００２５】これらの図において、基板研磨装置１１
は、磁気記録ディスク用基板１ａを固定シャフト１２ａ
で支持した状態で、固定シャフト１２ａの回転によっ
て、磁気記録ディスク用基板１ａを円周方向に回転させ
る基板回転機構１２（基板回転手段）と、固定シャフト
１２ａに支持された磁気記録ディスク用基板１ａの基板
面に所定の間隔をもって研磨テープ１３の研磨面１３ａ
が対向するように、研磨テープ１３をその長手方向の２
ヶ所で支持するテープ支持ローラ１４ａ，１４ｂ（テー
プ支持手段）と、これらのテープ支持ローラ１４ａ，１
４ｂに支持された研磨テープ１３の背面側に向けて空気
流を噴射して、その研磨面１３ａと磁気記録ディスク用
基板１ａの基板面とを接触させるスリット状の空気噴射
口１５ａを備える空気流噴射機構１５（気体流噴射手
段）と、テープ支持ローラ１４ａ，１４ｂに支持された
研磨テープ１３をその長手方向に送り出しするテープ送
り出しローラ１６ａおよびテープ巻取りローラ１６ｂを
備えるテープ送り出し機構１６（テープ送り出し手段）
とを有している。

【００２６】この基板研磨装置１１においては、テープ
支持ローラ１４ａ，１４ｂ，空気噴射口１５ａおよびテ
ープ送り出し機構１６はいずれも、磁気記録ディスク用
基板１ａの両面側にそれぞれ配置されている。さらに、
この基板研磨装置１１に用いられる研磨テープ１３は、
その幅が１２．７ｍｍ幅であり、磁気記録ディスク用基
板１ａの半径より狭いので、テープ支持ローラ１４ａ，
１４ｂと空気噴射口１５ａとを連動して、磁気記録ディ
スク用基板１ａの半径方向に往復移動させる往復移動機
構１７を有している。このため、研磨テープ１３は、磁
気記録ディスク用基板１ａの半径方向に往復移動して、
その表面全体または所定領域を研磨可能になっている。
ここで、往復移動機構１７，固定シャフト１２ａの回転
機構や基板保持機構，空気噴射口１４ａに向けて空気を
圧送する圧送機構，テープ送り出しローラ１５ａおよび
テープ巻取りローラ１５ｂをステムを介して回転させる
回転駆動機構などについては一般的なものを利用してい
るので、図示を省略すると共に、それらの説明は省略す
る。

【００２７】本例においては、このような構成の基板研
磨装置１１を用いて、磁気記録ディスク用基板１ａの生
じた異常突起を、以下のとおり除去する。

【００２８】ここで、研磨テープとしては、テクスチャ
リング工程に用いた研磨テープの砥粒の粒径より小さな
粒径のものとして、平均粒径が約１μｍのものを用い
た。この工程においては、図１に示すように、基板研磨
装置１１のテープ支持ローラ１４ａ，１４ｂの間に張架
された研磨テープ１３に対して、空気噴射口１５ａから
４０×１０^-6ｃｃ／ｍｉｎの空気流１８を噴射すること
によって、研磨テープ１３を押圧して、研磨面１３ａを
磁気記録ディスク用基板１ａの表面に接触させる一方、
磁気記録ディスク用基板１ａを固定シャフト１２ａの回
転駆動によって回転させる。また、往復移動機構１７に
よって、テープ支持ローラ１４ａ，１４ｂと空気噴射口
１５ａとを磁気記録ディスク用基板１ａの半径方向（矢
印Ｐの方向）に３往復させて、研磨テープ１３を磁気記
録ディスク用基板１ａの半径方向に往復移動させる。こ
の間、研磨テープ１３は、テープ送り出し機構１６によ
って、０．０３ｃｍ／ｓｅｃのテープ送り速度で矢印Ｑ
の方向に送り出しされており、新たな研磨面で磁気記録
ディスク用基板１ａの表面を研磨する。ここで、研磨テ
ープ１３の研磨面１３ａは、磁気記録ディスク用基板１
ａの基板面に緩く弾接した状態にあり、研磨面１３ａは
磁気記録ディスク用基板１ａのテクスチャー形状（凹
凸）に対応して可動状態にある。このため、研磨テープ
をゴムローラによって磁気記録ディスク用基板１ａの基
板面に強く押圧する場合とは異なり、その基板面に対す
る研磨効率が高く、ばりなどを発生させることない。そ
れ故、磁気記録ディスク用基板１ａの表面に存在する異
常突起を効率よく除去できるので、その最表面のみを薄
く研磨するだけでよく、先に形成されたテクスチャーを
損傷することがない。（表層研磨工程）。

【００２９】つぎに、第２の洗浄工程３６において、磁
気記録ディスク用基板１ａの表面をアルコールなどを用
いて清浄化する。

【００３０】つぎに、磁気記録ディスク用基板１ａの表
面上に、第２の下地金属層としての厚さ約１０００Åの
Ｃｒ層４と、磁性層としての厚さ約５００ÅのＣｏ合金
層５と、表面保護層としての厚さ約２００Åのアモルフ
ァスカーボン層とを、順次、スパッタ形成していく。こ
こで、スパッタ条件は、アルゴンガス圧力が１０ｍｔｏ
ｒｒ、基板加熱温度が２７０℃である。しかる後に、フ
ロロカーボン系の液体潤滑剤をディップ法によって、約
２０Åの膜厚さで塗布した後に、ヘッドバニッシュを行
い、磁気記録ディスク１を形成する。

【００３１】このように、本例に係る磁気記録ディスク
１の製造方法においては、テクスチャーが形成された磁
気記録ディスク用基板１ａの表面に向けて、研磨テープ
１３をその背面側に噴射された空気流の流体圧力によっ
て押圧した状態で表層研磨工程を行うため、磁気記録デ
ィスク１の表面には異常突起がなく、また、テクスチャ
ーもテクスチャリング工程で形成された状態を維持して
いる。

【００３２】つぎに、このような製造方法において、そ
の製造条件を変えて得られた磁気記録ディスク１の摩擦
特性および浮上特性を評価した結果について、説明す
る。

【００３３】なお、この評価に用いた本発明の実施例に
係る磁気記録ディスクと、比較に用いた従来の磁気記録
ディスクの製造条件については、以下のとおりである。

【００３４】本発明の実施例に係る第１の条件で製造し
た磁気記録ディスク（試料Ａ）については、テクスチャ
リング工程を２回行い、第１段のテクスチャリング工程
の条件は、研磨テープの砥粒の平均粒径が約３μｍ、ゴ
ムローラの硬度が約６０°、ゴムローラによるテープ押
し付け圧力が約２ｋｇｆ／ｃｍ² 、研磨テープの送り出
し速度が約１ｃｍ／ｓｅｃである。また、第２段のテク
スチャリング工程の条件は、研磨テープの砥粒の平均粒
径が約１μｍ、ゴムローラの硬度が約４０°、ゴムロー
ラによるテープ押し付け圧力が約１ｋｇｆ／ｃｍ² 、研
磨テープの送り出し速度が約０．５ｃｍ／ｓｅｃであ
る。そして、表層研磨工程の条件は、研磨テープの砥粒
の平均粒径が約１μｍ、空気流の噴射量が４０×１０^-6
ｃｃ／ｍｉｎ、研磨テープの送り出し速度が約０．０３
ｃｍ／ｓｅｃである。

【００３５】本発明の実施例に係る第２の条件で製造し
た磁気記録ディスク（試料Ｂ）については、テクスチャ
リング工程を１回行い、そのテクスチャリング工程の条
件は、研磨テープの砥粒の平均粒径が約３μｍ、ゴムロ
ーラの硬度が約６０°、ゴムローラによるテープ押し付
け圧力が約２ｋｇｆ／ｃｍ² 、研磨テープの送り出し速
度が約１ｃｍ／ｓｅｃである。そして、表層研磨工程の
条件は、試料Ａと同じく、研磨テープの砥粒の平均粒径
が約１μｍ、空気流の噴射量が４０×１０^-6ｃｃ／ｍｉ
ｎ、研磨テープの送り出し速度が約０．０３ｃｍ／ｓｅ
ｃである。

【００３６】本発明の実施例に係る第３の条件で製造し
た磁気記録ディスク（試料Ｃ）については、テクスチャ
リング工程を２回行い、第１段のテクスチャリング工程
の条件は、研磨テープの砥粒の平均粒径が約３μｍ、ゴ
ムローラの硬度が約６０°、ゴムローラによるテープ押
し付け圧力が約２ｋｇｆ／ｃｍ² 、研磨テープの送り出
し速度が約１ｃｍ／ｓｅｃである。また、第２段のテク
スチャリング工程の条件は、研磨テープの砥粒の平均粒
径が約１μｍ、ゴムローラの硬度が約４０°、ゴムロー
ラによるテープ押し付け圧力が約１ｋｇｆ／ｃｍ² 、研
磨テープの送り出し速度が約０．５ｃｍ／ｓｅｃであ
る。そして、表層研磨工程の条件は、研磨テープの砥粒
の平均粒径が約１μｍ、空気流の噴射量が４０×１０^-6
ｃｃ／ｍｉｎ、研磨テープの送り出し速度が約０．０３
ｃｍ／ｓｅｃである。この工程においては、磁気記録デ
ィスク用基板１ａの外周側（記録領域）のみ、研磨テー
プを往復させ、磁気記録ディスク用基板１ａの内周側
（ＣＳＳ領域）については、表層研磨処理を施していな
い。

【００３７】これに対して、従来例の第１の条件で製造
した磁気記録ディスク（試料Ｄ）については、テクスチ
ャリング工程のみを２回行い、表層研磨工程を行ってい
ない。その第１段のテクスチャリング工程および第２の
テクスチャリング工程の条件は、いずれも、本発明の実
施例に係る第１の条件で製造した磁気記録ディスク（試
料Ａ）におけるテクスチャリング工程と同じである。

【００３８】また、従来例の第２の条件で製造した磁気
記録ディスク（試料Ｅ）については、テクスチャリング
工程のみを３回行い、表層研磨工程を行っていない。そ
の第１段のテクスチャリング工程および第２のテクスチ
ャリング工程の条件は、いずれも、本発明の実施例に係
る第１の条件で製造した磁気記録ディスク（試料Ａ）に
おけるテクスチャリング工程と同じであり、その第３段
のテクスチャリング工程の条件は、研磨テープの砥粒の
平均粒径が約１μｍ、ゴムローラの硬度が約４０°、ゴ
ムローラによるテープ押し付け圧力が約０．５ｋｇｆ／
ｃｍ² 、研磨テープの送り出し速度が約０．５ｃｍ／ｓ
ｅｃである。ここで、第３段のテクスチャリング工程に
おいては、その処理を磁気記録ディスク用基板１ａの外
周側（記録領域）のみに対して行った。

【００３９】以上の５試料について、磁気ヘッドの浮上
距離として設定可能な値と、その表面プロファイルとを
計測し、磁気ヘッドの浮上距離の計測結果を表１に、表
面プロファイルを図５（ａ）ないし図５（ｅ）に示す。
ここで、図５（ａ）は試料Ａの表面プロファイル、図５
（ｂ）は試料Ｂの表面プロファイル、図５（ｃ）は試料
Ｃの表面プロファイル、図５（ｄ）は試料Ｄの表面プロ
ファイル、図５（ｅ）は試料Ｅの表面プロファイルを示
す。

【００４０】なお、表面プロファイルについては磁気記
録ディスクの内周側から外周側にかけて連続的に計測し
た。また、磁気ヘッドの浮上距離は、内周側および外周
側の２点について、磁気ヘッドを磁気記録ディスクの表
面に近接させても、磁気ヘッドが異常突起などと衝突す
ることがない距離をもって規定した。

【００４１】

【表１】

【００４２】表１および図５に示すように、実施例に係
る磁気記録ディスクの製造方法によれば、テクスチャリ
ング工程において発生した異常突起を効率よく除去する
ことができるため、試料Ａ，Ｂ，Ｃのいずれにおいて
も、表層研磨工程を施した領域における磁気ヘッドの浮
上距離は、０．０５５μｍから０．０６０μｍにまで圧
縮でき、しかも、、試料Ｃのように、外周側のみ表層研
磨処理を施した場合であっても、図５（ｃ）に示す表面
プロファイルが得られ、境界部分に段差が発生しない。

【００４３】これに対し、従来の磁気記録ディスク（試
料Ｄ，Ｅ）のいずれにおいても、磁気ヘッドの浮上距離
が０．０７５μｍから０．１００μｍであり、しかも、
試料Ｅにおいては、図５（ｅ）に示すように段差部分が
発生している。

【００４４】以上のとおり、本例に係る磁気記録ディス
クの製造方法においては、テクスチャリング工程で生じ
た異常突起を、ローラ部材で強制的に押圧した研磨テー
プで除去するのではなく、流体圧力によって押圧した研
磨テープで除去するため、テクスチャー自身を消失させ
ることなく、異常突起のみを効率よく除去するので、磁
気記録ディスクの摩擦特性を犠牲とすることなく、浮上
特性を向上することができる。

【００４５】なお、本例の磁気記録ディスクの製造方法
において、表層研磨工程に用いる研磨テープの砥粒径
は、テクスチャリング工程において発生した異常突起の
状態によって設定可能であり、テクスチャリング工程に
用いた研磨テープの砥粒の粒径と同等のものも使用でき
るが、粒径が小さなものを用いれば、異常突起の発生状
況にかかわらず、対応することができる。

【００４６】さらに、表層研磨工程における研磨テープ
に対する流体圧力、流体供給量などの条件については、
磁気記録媒体に求められる特性や、磁気記録媒体用基板
に対する他の工程条件などによって、それぞれ最適な条
件に設定されるべき性質のものであり、それらには限定
がない。

【００４７】

【発明の効果】以上のとおり、本発明に係る磁気記録媒
体の製造方法および基板研磨装置においては、研磨テー
プの背面側に噴射された気体の流体圧力によって、研磨
テープと磁気記録媒体用基板の基板面とを接触させた状
態で、その最表層を研磨することに特徴を有する。従っ
て、本発明によれば、研磨テープは磁気記録媒体用基板
の表面に対して可動状態にあるので、ばりが発生せず、
研磨する能力が高い。従って、磁気記録媒体用基板表面
の表層側のみを除去するだけで、異常突起を完全に除去
することができるので、テクスチャーが消失することが
なく、磁気記録媒体の摩擦特性および浮上特性のいずれ
もが向上するという効果を奏する。また、磁気記録媒体
用基板表面に凹凸度の異なる領域を設ける場合であって
も、その境界領域に段差が生じにくいという効果も奏す
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例に係る基板研磨装置の要部の構
成を示す概略平面図である。

【図２】図１に示す基板研磨装置の要部の構成を示す概
略正面図である。

【図３】本発明の実施例に係る磁気記録ディスクの一部
を切り欠いて示す斜視図である。

【図４】本発明の実施例に係る磁気記録ディスクの製造
方法に係る工程フローを示すブロック図である。

【図５】（ａ），（ｂ），（ｃ）は本発明の実施例に係
る磁気記録ディスクの表面プロファイルを示すグラフ
図、（ｄ），（ｅ）は従来の磁気記録ディスクの表面プ
ロファイルを示すグラフ図である。

【符号の説明】

１・・・磁気記録ディスク（磁気記録媒体） １ａ・・・磁気記録ディスク用基板（磁気記録媒体用基
板） ２・・・アルミニウム合金基板 ３・・・Ｎｉ−Ｐめっき層 ５・・・Ｃｏ合金層（磁性層） １１・・・基板研磨装置 １２・・・基板回転機構（基板回転手段） １３・・・研磨テープ １３ａ・・・研磨面 １４ａ，１４ｂ・・・テープ支持ローラ（テープ支持手
段） １５・・・空気流噴射機構（気体流噴射手段） １５ａ・・・空気噴射口 １６・・・テープ送り出し機構（テープ送り出し手段） １６ａ・・・テープ送り出しローラ １６ｂ・・・テープ巻取りローラ １７・・・往復移動機構

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 非磁性体からなる磁気記録媒体用基板の
   テクスチャー加工が施された基板面に向けて、研磨テー
   プをその背面側に噴射された気体流の流体圧力によって
   押圧し、研磨テープの研磨面と前記基板面とを接触させ
   た状態でそれらを相対的に移動させて前記基板面の最表
   層を研磨する表層研磨工程を有することを特徴とする磁
   気記録媒体の製造方法。
2. 【請求項２】 請求項１において、前記表層研磨工程
   を、前記基板面および前記研磨テープの研磨面が乾燥し
   ている状態で行うことを特徴とする磁気記録媒体の製造
   方法。
3. 【請求項３】 円板状の基板を支持した状態でそれを円
   周方向に回転させる基板回転手段と、この基板回転手段
   に支持された前記基板の基板面に所定の間隔をもって研
   磨テープの研磨面が対向するように、研磨テープをその
   長手方向の少なくとも２ヶ所で支持するテープ支持手段
   と、このテープ支持手段に支持された研磨テープの背面
   側に向けて気体流を噴射して、その研磨面と前記基板面
   とを接触させる噴射口を備える気体流噴射手段と、前記
   テープ支持手段に支持された研磨テープをその長手方向
   に送り出すテープ送り出し手段と、を有していることを
   特徴とする基板研磨装置。
4. 【請求項４】 請求項３に規定する基板研磨装置は、さ
   らに、前記テープ支持手段と前記基板とを相対的に移動
   させて、前記研磨テープを前記基板の半径方向に往復移
   動させる往復移動機構を有していることを特徴とする基
   板研磨装置。