JPH05151360A - ラウンドコーナー描画方式 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 目的とする線種および線幅のラウンドコーナ
ーパターンの生成において、少ないパターン数で品質の
良いラウンドコーナーの描画が可能とされるラウンドコ
ーナーの描画方式を提供する。 【構成】 矩形枠の角を丸めてパターンを生成するラウ
ンドコーナー描画装置であって、各線種の最も太い線幅
の線幅パターンを格納する線種パターンメモリ１と、各
線幅のマスクパターンを格納するマスクパターンメモリ
２と、これらの線種パターンメモリ１およびマスクパタ
ーンメモリ２のパターン同士の論理積をとるマスク論理
３と、各パターンを格納する線種パターンバッファ４、
マスクパターンバッファ５および生成パターンバッファ
６とから構成され、線種パターンがマスクパターンでマ
スクされ、所望の線種、線幅のパターンが生成される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ラウンドコーナーの描
画技術に関し、特にマスク処理によるラウンドコーナー
の描画において、メモリ容量の削減が可能とされるラウ
ンドコーナー描画方式に適用して有効な技術に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、ラウンドコーナーの描画方式とし
ては、たとえば特開昭６４−１７１７３号公報に記載さ
れるように、円弧描画処理方法を用いて１ドット単位に
描画を行う方法や、パターンを用いて描画を行う方法が
ある。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ところが、前記のよう
な従来技術において、たとえば１ドット単位に描画を行
う方法では、線幅を持つラウンドコーナーを描画する場
合、所定線幅の円弧を線幅分繰り返して描画を行う必要
がある。また、線種および線幅を持つラウンドコーナー
の場合、たとえば破線の描画を行う時にはラウンドコー
ナーの中心に向かって破線の幅を小さくしていく処理が
必要であり、描画速度の点から見て不利である。

【０００４】それに対して、パターンを用いて描画を行
う方法では、描画の際に演算を必要としないために描画
速度は優れているが、各線種および線幅の全ての組み合
わせについてパターンを用意しなければならず、たとえ
ば線種９種、線幅４種のラウンドコーナーの場合、四隅
用のパターンを考慮して４×９×４＝１４４個のパター
ンが必要となり、パターン格納のために多くのメモリ容
量を必要とするという問題がある。

【０００５】そこで、本発明の目的は、パターンを用い
て描画を行う場合でも、少ないパターン数で品質の良い
ラウンドコーナーの描画を行うことができるラウンドコ
ーナー描画方式を提供することにある。

【０００６】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
下記のとおりである。

【０００８】すなわち、本発明のラウンドコーナー描画
方式は、矩形枠の角を丸めてラウンドコーナーのパター
ンを生成するラウンドコーナー描画方式であって、各線
種の最も太い線幅の線種パターンと、各線幅のパターン
生成用のマスクパターンと、これらの線種パターンおよ
びマスクパターンのパターン同士の論理積をとる論理手
段とを備えるものである。

【０００９】また、前記論理積をとる論理手段に加えて
パターンを回転させる回転論理手段を備えるようにした
ものである。

【００１０】

【作用】前記したラウンドコーナー描画方式によれば、
線種パターン、マスクパターンおよび論理手段が備えら
れることにより、線種パターンをマスクパターンでマス
クし、目的とする所望の線種および線幅のパターンを生
成することができる。

【００１１】すなわち、破線、鎖線などの線種の最も太
い線幅のパターンと、線幅が異なる実線のマスクパター
ンとを用意しておき、ラウンドコーナーパターン描画の
際には、指定された線種のパターンを指定された線幅の
マスクパターンでマスクすることにより、目的とする線
種および線幅のラウンドコーナーパターンを得ることが
できる。

【００１２】また、回転論理手段が追加されることによ
り、１つのコーナー用のラウンドコーナーパターンを回
転させて全てのコーナー用のパターンを生成することが
できる。すなわち、回転論理を用いることにより、一隅
のラウンドコーナーパターンから四隅のラウンドコーナ
ーパターンを得ることができる。

【００１３】これにより、目的とする線種および線幅の
ラウンドコーナーのパターン描画において、品質を落す
ことなくパターン数を削減することができる。

【００１４】

【実施例１】図１は本発明のラウンドコーナー描画方式
の一実施例であるラウンドコーナー描画装置を示す概略
構成図である。

【００１５】まず、図１により本実施例のラウンドコー
ナー描画装置の構成を説明する。

【００１６】本実施例のラウンドコーナー描画装置は、
たとえば矩形枠の角を丸めてラウンドコーナーのパター
ンを生成するラウンドコーナー描画装置とされ、線種パ
ターンを格納する線種パターンメモリ１と、マスクパタ
ーンを格納するマスクパターンメモリ２と、これらの線
種パターンメモリ１およびマスクパターンメモリ２のパ
ターン同士の論理積をとるマスク論理（論理手段）３と
から構成され、線種パターンがマスクパターンでマスク
され、所望の線種および線幅のパターンが生成されるよ
うになっている。

【００１７】線種パターンメモリ１は、ラウンドコーナ
ーの線種パターン、たとえばいろいろなピッチの破線、
鎖線などのパターンを格納するメモリであり、各線種の
最も太い線幅の線幅パターンが格納されている。

【００１８】また、線種パターンメモリ１には、この線
種パターンメモリ１から読み出した線種パターンを格納
するために、高速処理が可能な一時記憶用の線種パター
ンバッファ４が接続されている。

【００１９】マスクパターンメモリ２は、たとえば線幅
が異なる実線の各線幅パターンを格納するメモリであ
り、線種パターンメモリ１に格納されているラウンドコ
ーナーパターンから指定された線幅を生成するために用
いるマスクパターンが格納されている。

【００２０】また、マスクパターンメモリ２にも、線種
パターンメモリ１と同様に、マスクパターンメモリ２か
ら読み出したマスクパターンを格納するための一時記憶
用のマスクパターンバッファ５が接続されている。

【００２１】マスク論理３は、線種パターンバッファ４
およびマスクパターンバッファ５に格納されているパタ
ーン同士の論理積をとる論理であり、線種パターンから
必要な線幅のマスクパターンを取り出すために用いられ
る。

【００２２】また、マスク論理３には、このマスク論理
３によって生成されたパターンは格納する生成パターン
バッファ６が接続されている。

【００２３】次に、本実施例の作用について、線種パタ
ーンとマスクパターンとを用いて目的とする線種および
線幅のパターンを生成するまでの動作を説明する。

【００２４】まず、線種パターンメモリ１上に格納され
ている線種パターンの中から、指定された線種パターン
を線種パターンバッファ４上に読み出す。また、マスク
パターンメモリ２上に格納されているマスクパターンの
中から、指定された線幅用のマスクパターンをマスクパ
ターンバッファ５上に読み出す。

【００２５】そして、目的とする線種および線幅のラウ
ンドコーナーパターンを生成するために、マスク論理３
によって線種パターンバッファ４に格納されている線種
パターンと、マスクパターンバッファ５に格納されてい
るマスクパターンの論理積をとる。

【００２６】この結果、目的とする線種で、目的とする
線幅を持つ所望のラウンドコーナーパターンを生成パタ
ーンバッファ６上に生成することができる。

【００２７】従って、本実施例のラウンドコーナー描画
装置によれば、線種パターンメモリ１、マスクパターン
メモリ２およびマスク論理３と、これらのパターンを格
納する線種パターンバッファ４、マスクパターンバッフ
ァ５および生成パターンバッファ６が備えられることに
より、指定された線種パターンを線種パターンメモリ１
から線種パターンバッファ４に読み出し、また指定され
た線幅用のマスクパターンをマスクパターンメモリ２か
らマスクパターンバッファ５に読み出し、さらにマスク
論理３によって論理積した後に生成パターンバッファ６
に格納することにより、目的とする所望の線種および線
幅のラウンドコーナーパターンを生成することができ
る。

【００２８】

【実施例２】図２は本発明のラウンドコーナー描画方式
の他の実施例であるラウンドコーナー描画装置を示す概
略構成図、図３は本実施例のラウンドコーナー描画装置
において、回転論理を示す概略構成図である。

【００２９】本実施例のラウンドコーナー描画装置は、
１つのラウンドコーナーのパターンを回転させて全ての
コーナー用のパターンを生成するラウンドコーナー描画
装置とされ、実施例１と同様の線種パターンメモリ１
ａ、マスクパターンメモリ２ａ、マスク論理（論理手
段）３ａ、線種パターンバッファ４ａ、マスクパターン
バッファ５ａおよび生成パターンバッファ６ａに加え
て、マスクパターンバッファ５ａと生成パターンバッフ
ァ６ａとの間に、回転パターンバッファ７および反転論
理（回転論理手段）８が追加された構成となっている。

【００３０】すなわち、回転パターンバッファ７は、行
方向および列方向のどちらからも読み出し可能なバッフ
ァであり、マスク論理３によって生成されたパターンに
回転をかけるために用いられる。

【００３１】また、反転論理８は、パターンを左右方向
に反転するための論理であり、回転パターンバッファ７
から読み出されたパターンに対して必要に応じて左右反
転を行うものである。

【００３２】そして、回転パターンバッファ７および反
転論理８によって回転されたパターンは、生成パターン
バッファ６ａに格納される。

【００３３】次に、本実施例の作用について、一隅のラ
ウンドコーナーパターンから四隅のラウンドコーナーパ
ターンを生成するまでの動作を説明する。

【００３４】まず、実施例１と同様に、指定された線種
パターンを線種パターンメモリ１ａから線種パターンバ
ッファ４ａに読み出し、また指定された線幅用のマスク
パターンをマスクパターンメモリ２ａからマスクパター
ンバッファ５ａに読み出し、さらにマスク論理３ａによ
って論理積した後に目的とする線種および線幅のラウン
ドコーナーパターンを回転パターンバッファ７に格納す
る。

【００３５】そして、回転パターンバッファ７上に格納
されているパターンを、回転を行う方向によって回転パ
ターンバッファ７からの読み出し方向と反転論理８の制
御を行い、ラウンドコーナーの描画位置に合わせて回転
させることによって、指定された線種および線幅を持
ち、描画位置に合わせて回転されたラウンドコーナーパ
ターンが生成パターンバッファ６ａ上に生成される。

【００３６】この場合に、たとえば１８０度回転させた
場合には、図２に示すようなラウンドコーナーパターン
を生成パターンバッファ６ａ上に生成することができ、
また正立、右９０度回転、左９０度回転させた場合に
は、それぞれ図３に示すようなパターンを生成すること
が可能となる。

【００３７】従って、本実施例のラウンドコーナー描画
装置によれば、実施例１に加えてさらに回転パターンバ
ッファ７および反転論理８が追加され、回転論理を行う
ことによって１つのコーナー用のラウンドコーナーパタ
ーンから、目的とする線種および線幅の全てのラウンド
コーナーのパターンを生成することができる。

【００３８】また、特に各線種の中の最も大きい線幅パ
ターンと、各線幅用のマスクパターンのみをメモリ上に
持っていればよいので、たとえば線種９種、線幅４種の
ラウンドコーナーの場合、従来は４×９×４＝１４４個
のパターンが必要であったのに対して、実施例１の場合
には（９＋４）×４＝５２個のパターンでよく、さらに
本実施例のように回転論理を用いた場合には９＋４＝１
３個のパターンのみをメモリ上に持っていればよいの
で、メモリ容量の大幅な削減が可能となる。

【００３９】以上、本発明者によってなされた発明を実
施例１および２に基づき具体的に説明したが、本発明は
前記各実施例に限定されるものではなく、その要旨を逸
脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもな
い。

【００４０】たとえば、前記実施例のラウンドコーナー
描画装置については、矩形枠の角を丸めてラウンドコー
ナーのパターンを生成する場合について説明したが、本
発明は前記実施例に限定されるものではなく、円形リン
グ状のパターンなどの生成についても適用可能であり、
この場合には、たとえば円形リングを９０度で４分割
し、１箇所のパターンを生成して回転論理を用いること
によって円形リング状パターンの生成が可能となる。

【００４１】

【発明の効果】本願において開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
下記のとおりである。

【００４２】(1).各線種の最も太い線幅の線種パターン
と、各線幅のパターン生成用のマスクパターンと、これ
らの線種パターンおよびマスクパターンのパターン同士
の論理積をとる論理手段とを備えることにより、線種パ
ターンをマスクパターンでマスクし、目的とする所望の
線種および線幅のパターンを生成することができるの
で、各線種および線幅の全ての組み合わせのパターンを
メモリ上に持つ必要がなく、各線種の中の最も大きい線
幅のパターンと、各線幅用のマスクパターンのみを各メ
モリ上に持つことによってラウンドコーナーのパターン
描画が可能となる。

【００４３】(2).論理積をとる論理手段に加えてパター
ンを回転させる回転論理手段を備えることにより、１つ
のコーナー用のラウンドコーナーパターンを回転させて
全てのコーナー用のパターンを生成することができるの
で、さらにメモリ上に持つパターンが少なくなり、より
一層メモリ容量の削減が可能となる。

【００４４】(3).前記(1) および(2) により、最小限の
パターンで全ての線種および線幅のパターンを生成する
ことができるので、品質を落すことなくメモリ容量の削
減が可能とされるラウンドコーナー描画方式を得ること
ができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のラウンドコーナー描画方式の実施例１
であるラウンドコーナー描画装置を示す概略構成図であ
る。

【図２】本発明のラウンドコーナー描画方式の実施例２
であるラウンドコーナー描画装置を示す概略構成図であ
る。

【図３】実施例２のラウンドコーナー描画装置におい
て、回転論理を示す概略構成図である。

【符号の説明】

１，１ａ 線種パターンメモリ ２，２ａ マスクパターンメモリ ３，３ａ マスク論理（論理手段） ４，４ａ 線種パターンバッファ ５，５ａ マスクパターンバッファ ６，６ａ 生成パターンバッファ ７ 回転パターンバッファ ８ 反転論理（回転論理手段）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 菊田 元 神奈川県秦野市堀山下１番地 日立コンピ ユータエンジニアリング株式会社内 (72)発明者 小網 裕二 神奈川県秦野市堀山下１番地 株式会社日 立製作所神奈川工場内

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 矩形枠の角を丸めてラウンドコーナーの
   パターンを生成するラウンドコーナー描画方式であっ
   て、各線種の最も太い線幅の線種パターンと、各線幅の
   パターン生成用のマスクパターンと、該線種パターンお
   よびマスクパターンのパターン同士の論理積をとる論理
   手段とを備え、前記線種パターンを前記マスクパターン
   でマスクして目的とする所望の線種および線幅のパター
   ンを生成することを特徴とするラウンドコーナー描画方
   式。
2. 【請求項２】 前記論理積をとる論理手段に加えてパタ
   ーンを回転させる回転論理手段を備え、１つのコーナー
   用の前記ラウンドコーナーのパターンを回転させて全て
   のコーナー用のパターンを生成することを特徴とする請
   求項１記載のラウンドコーナー描画方式。