JP3221898B2 - 曲線パターン生成装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、曲線パターン生成技術
に関し、特にマスク処理によるラウンドコーナーなどの
曲線パターンの描画において、メモリ容量の削減が可能
とされる曲線パターン生成装置に適用して有効な技術に
関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、ラウンドコーナーの描画方式とし
ては、たとえば特開昭６４−１７１７３号公報に記載さ
れるように、円弧描画処理方法を用いて１ドット単位に
描画を行う方法や、パターンを用いて描画を行う方法が
ある。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ところが、前記のよう
な従来技術において、たとえば１ドット単位に描画を行
う方法では、線幅を持つラウンドコーナーを描画する場
合、所定線幅の円弧を線幅分繰り返して描画を行う必要
がある。また、線種および線幅を持つラウンドコーナー
の場合、たとえば破線の描画を行う時にはラウンドコー
ナーの中心に向かって破線の幅を小さくしていく処理が
必要であり、描画速度の点から見て不利である。

【０００４】それに対して、パターンを用いて描画を行
う方法では、描画の際に演算を必要としないために描画
速度は優れているが、各線種および線幅の全ての組み合
わせについてパターンを用意しなければならず、たとえ
ば線種９種、線幅４種のラウンドコーナーの場合、四隅
用のパターンを考慮して４×９×４＝１４４個のパター
ンが必要となり、パターン格納のために多くのメモリ容
量を必要とするという問題がある。

【０００５】そこで、本発明の目的は、パターンを用い
て描画を行う場合でも、少ないパターン数で品質の良い
ラウンドコーナーなどの曲線パターンの描画を行うこと
ができる曲線パターン生成装置を提供することにある。

【０００６】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
下記のとおりである。

【０００８】すなわち、本発明の曲線パターン生成装置
は、少なくとも１種類の線種の線種パターンを保持する
第１の記憶手段と、少なくとも１種類の線幅の実線の線
幅パターン（たとえばマスクパターン）を保持する第２
の記憶手段と、第１の記憶手段、第２の記憶手段から線
種パターンとマスクパターンとを各々指定する手段と、
指定された線種パターンとマスクパターンとの論理積を
とる論理手段とを備えるものである。

【０００９】また、本発明の他の曲線パターン生成装置
は、各線種の所定の太さの線幅の線種パターンを保持す
る記憶手段と、線種パターンを回転させる回転論理手段
とを備えるものである。

【００１０】

【作用】前記した曲線パターン生成装置によれば、第１
の記憶手段、第２の記憶手段および論理手段が備えられ
ることにより、線種パターンをマスクパターンでマスク
し、目的とする所望の線種および線幅のパターン（たと
えばラウンドコーナーパターン）を生成することができ
る。

【００１１】すなわち、破線、鎖線などの線種の最も太
い線幅のパターンと、線幅が異なる実線のマスクパター
ンとを用意しておき、ラウンドコーナーパターン描画の
際には、指定された線種のパターンを指定された線幅の
マスクパターンでマスクすることにより、目的とする線
種および線幅のラウンドコーナーパターンを得ることが
できる。

【００１２】また、前記した他の曲線パターン生成装置
によれば、記録手段および回転論理手段が備えられるこ
とにより、線種パターンを回転させることによって新た
な線種パターン（たとえばラウンドコーナーパターン）
を生成することができる。すなわち、回転論理を用いる
ことにより、１つのコーナー用のラウンドコーナーパタ
ーンを回転させて全てのコーナー用のパターンを生成す
ることができるので、一隅のラウンドコーナーパターン
から四隅のラウンドコーナーパターンを得ることができ
る。

【００１３】これにより、目的とする線種および線幅の
ラウンドコーナーのパターン描画において、品質を落す
ことなくパターン数を削減することができる。

【００１４】

【実施例１】図１は本発明の曲線パターン生成装置の一
実施例であるラウンドコーナー描画装置を示す概略構成
図である。

【００１５】まず、図１により本実施例のラウンドコー
ナー描画装置の構成を説明する。

【００１６】本実施例のラウンドコーナー描画装置は、
たとえば矩形枠の角を丸めてラウンドコーナーのパター
ンを生成するラウンドコーナー描画装置とされ、線種パ
ターンを格納する線種パターンメモリ１と、マスクパタ
ーンを格納するマスクパターンメモリ２と、これらの線
種パターンメモリ１およびマスクパターンメモリ２のパ
ターン同士の論理積をとるマスク論理（論理手段）３と
から構成され、線種パターンがマスクパターンでマスク
され、所望の線種および線幅のパターンが生成されるよ
うになっている。

【００１７】線種パターンメモリ１は、ラウンドコーナ
ーの線種パターン、たとえばいろいろなピッチの破線、
鎖線などのパターンを格納するメモリであり、各線種の
最も太い線幅の線幅パターンが格納されている。

【００１８】また、線種パターンメモリ１には、この線
種パターンメモリ１から読み出した線種パターンを格納
するために、高速処理が可能な一時記憶用の線種パター
ンバッファ４が接続されている。

【００１９】マスクパターンメモリ２は、たとえば線幅
が異なる実線の各線幅パターンを格納するメモリであ
り、線種パターンメモリ１に格納されているラウンドコ
ーナーパターンから指定された線幅を生成するために用
いるマスクパターンが格納されている。

【００２０】また、マスクパターンメモリ２にも、線種
パターンメモリ１と同様に、マスクパターンメモリ２か
ら読み出したマスクパターンを格納するための一時記憶
用のマスクパターンバッファ５が接続されている。

【００２１】マスク論理３は、線種パターンバッファ４
およびマスクパターンバッファ５に格納されているパタ
ーン同士の論理積をとる論理であり、線種パターンから
必要な線幅のマスクパターンを取り出すために用いられ
る。

【００２２】また、マスク論理３には、このマスク論理
３によって生成されたパターンは格納する生成パターン
バッファ６が接続されている。

【００２３】次に、本実施例の作用について、線種パタ
ーンとマスクパターンとを用いて目的とする線種および
線幅のパターンを生成するまでの動作を説明する。

【００２４】まず、線種パターンメモリ１上に格納され
ている線種パターンの中から、指定された線種パターン
を線種パターンバッファ４上に読み出す。また、マスク
パターンメモリ２上に格納されているマスクパターンの
中から、指定された線幅用のマスクパターンをマスクパ
ターンバッファ５上に読み出す。

【００２５】そして、目的とする線種および線幅のラウ
ンドコーナーパターンを生成するために、マスク論理３
によって線種パターンバッファ４に格納されている線種
パターンと、マスクパターンバッファ５に格納されてい
るマスクパターンの論理積をとる。

【００２６】この結果、目的とする線種で、目的とする
線幅を持つ所望のラウンドコーナーパターンを生成パタ
ーンバッファ６上に生成することができる。

【００２７】従って、本実施例のラウンドコーナー描画
装置によれば、線種パターンメモリ１、マスクパターン
メモリ２およびマスク論理３と、これらのパターンを格
納する線種パターンバッファ４、マスクパターンバッフ
ァ５および生成パターンバッファ６が備えられることに
より、指定された線種パターンを線種パターンメモリ１
から線種パターンバッファ４に読み出し、また指定され
た線幅用のマスクパターンをマスクパターンメモリ２か
らマスクパターンバッファ５に読み出し、さらにマスク
論理３によって論理積した後に生成パターンバッファ６
に格納することにより、目的とする所望の線種および線
幅のラウンドコーナーパターンを生成することができ
る。

【００２８】

【実施例２】図２は本発明の曲線パターン生成装置の他
の実施例であるラウンドコーナー描画装置を示す概略構
成図、図３は本実施例のラウンドコーナー描画装置にお
いて、回転論理を示す概略構成図である。

【００２９】本実施例のラウンドコーナー描画装置は、
１つのラウンドコーナーのパターンを回転させて全ての
コーナー用のパターンを生成するラウンドコーナー描画
装置とされ、実施例１と同様の線種パターンメモリ１
ａ、マスクパターンメモリ２ａ、マスク論理（論理手
段）３ａ、線種パターンバッファ４ａ、マスクパターン
バッファ５ａおよび生成パターンバッファ６ａに加え
て、マスクパターンバッファ５ａと生成パターンバッフ
ァ６ａとの間に、回転パターンバッファ７および反転論
理（回転論理手段）８が追加された構成となっている。

【００３０】すなわち、回転パターンバッファ７は、行
方向および列方向のどちらからも読み出し可能なバッフ
ァであり、マスク論理３によって生成されたパターンに
回転をかけるために用いられる。

【００３１】また、反転論理８は、パターンを左右方向
に反転するための論理であり、回転パターンバッファ７
から読み出されたパターンに対して必要に応じて左右反
転を行うものである。

【００３２】そして、回転パターンバッファ７および反
転論理８によって回転されたパターンは、生成パターン
バッファ６ａに格納される。

【００３３】次に、本実施例の作用について、一隅のラ
ウンドコーナーパターンから四隅のラウンドコーナーパ
ターンを生成するまでの動作を説明する。

【００３４】まず、実施例１と同様に、指定された線種
パターンを線種パターンメモリ１ａから線種パターンバ
ッファ４ａに読み出し、また指定された線幅用のマスク
パターンをマスクパターンメモリ２ａからマスクパター
ンバッファ５ａに読み出し、さらにマスク論理３ａによ
って論理積した後に目的とする線種および線幅のラウン
ドコーナーパターンを回転パターンバッファ７に格納す
る。

【００３５】そして、回転パターンバッファ７上に格納
されているパターンを、回転を行う方向によって回転パ
ターンバッファ７からの読み出し方向と反転論理８の制
御を行い、ラウンドコーナーの描画位置に合わせて回転
させることによって、指定された線種および線幅を持
ち、描画位置に合わせて回転されたラウンドコーナーパ
ターンが生成パターンバッファ６ａ上に生成される。

【００３６】この場合に、たとえば１８０度回転させた
場合には、図２に示すようなラウンドコーナーパターン
を生成パターンバッファ６ａ上に生成することができ、
また正立、右９０度回転、左９０度回転させた場合に
は、それぞれ図３に示すようなパターンを生成すること
が可能となる。

【００３７】従って、本実施例のラウンドコーナー描画
装置によれば、実施例１に加えてさらに回転パターンバ
ッファ７および反転論理８が追加され、回転論理を行う
ことによって１つのコーナー用のラウンドコーナーパタ
ーンから、目的とする線種および線幅の全てのラウンド
コーナーのパターンを生成することができる。

【００３８】また、特に各線種の中の最も大きい線幅パ
ターンと、各線幅用のマスクパターンのみをメモリ上に
持っていればよいので、たとえば線種９種、線幅４種の
ラウンドコーナーの場合、従来は４×９×４＝１４４個
のパターンが必要であったのに対して、実施例１の場合
には（９＋４）×４＝５２個のパターンでよく、さらに
本実施例のように回転論理を用いた場合には９＋４＝１
３個のパターンのみをメモリ上に持っていればよいの
で、メモリ容量の大幅な削減が可能となる。

【００３９】以上、本発明者によってなされた発明を実
施例１および２に基づき具体的に説明したが、本発明は
前記各実施例に限定されるものではなく、その要旨を逸
脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもな
い。

【００４０】たとえば、前記実施例のラウンドコーナー
描画装置については、矩形枠の角を丸めてラウンドコー
ナーのパターンを生成する場合について説明したが、本
発明は前記実施例に限定されるものではなく、円形リン
グ状のパターンなどの生成についても適用可能であり、
この場合には、たとえば円形リングを９０度で４分割
し、１箇所のパターンを生成して回転論理を用いること
によって円形リング状パターンの生成が可能となる。

【００４１】

【発明の効果】本願において開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
下記のとおりである。

【００４２】(1).線種パターンの第１の記憶手段と、線
幅パターン（マスクパターン）の第２の記憶手段と、こ
れらの線種パターンとマスクパターンとを指定する手段
と、指定された線種パターンとマスクパターンとの論理
積をとる論理手段とを備えることにより、線種パターン
とマスクパターンとを用い、線種パターンをマスクパタ
ーンでマスクし、目的とする所望の線種および線幅のパ
ターンを生成することができるので、各線種および線幅
の全ての組み合わせのパターンをメモリ上に持つ必要が
なく、各線種の中の所定の太さの線幅のパターンと、各
線幅用のマスクパターンのみを各メモリ上に持つことに
よってラウンドコーナーなどの曲線パターン描画が可能
となる。

【００４３】(2).線種パターンの記憶手段と、線種パタ
ーンの回転論理手段とを備えることにより、１つのコー
ナー用のラウンドコーナーパターンを回転させて全ての
コーナー用のパターンを生成することができるので、さ
らにメモリ上に持つパターンが少なくなり、より一層メ
モリ容量の削減が可能となる。

【００４４】(3).前記(1) および(2) により、最小限の
パターンで全ての線種および線幅のパターンを生成する
ことができるので、品質を落すことなくメモリ容量の削
減が可能とされる曲線パターン生成装置を得ることがで
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の曲線パターン生成装置の実施例１であ
るラウンドコーナー描画装置を示す概略構成図である。

【図２】本発明の曲線パターン生成装置の実施例２であ
るラウンドコーナー描画装置を示す概略構成図である。

【図３】実施例２のラウンドコーナー描画装置におい
て、回転論理を示す概略構成図である。

【符号の説明】

１，１ａ 線種パターンメモリ ２，２ａ マスクパターンメモリ ３，３ａ マスク論理（論理手段） ４，４ａ 線種パターンバッファ ５，５ａ マスクパターンバッファ ６，６ａ 生成パターンバッファ ７ 回転パターンバッファ ８ 反転論理（回転論理手段）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小網 裕二 神奈川県秦野市堀山下１番地 株式会社 日立製作所 神奈川工場内 (56)参考文献 特開 平１−121982（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G06T 11/20 110

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 曲線パターン生成装置において、 少なくとも１種類の線種の線種パターンを保持する第１
   の記憶手段と、 少なくとも１種類の線幅の実線の線幅パターンを保持す
   る第２の記憶手段と、 前記第１の記憶手段、前記第２の記憶手段から線種パタ
   ーンと線幅パターンとを各々指定する手段と、 前記指定された線種パターンと前記指定された線幅パタ
   ーンとの論理積をとる論理手段とを備え、 前記線種パターンと前記線幅パターンとを用いて目的と
   する線種および線幅のパターンを生成することを特徴と
   する曲線パターン生成装置。
2. 【請求項２】 前記目的とする線種および線幅のパター
   ンを回転させる回転論理手段をさらに備え、 前記目的とする線種および線幅のパターンを生成した後
   に、このパターンを回転させて目的とする曲線パターン
   を生成することを特徴とする請求項１記載の 曲線パター
   ン生成装置。