JPH05149460A - チヤツキ弁 - Google Patents
チヤツキ弁Info
- Publication number
- JPH05149460A JPH05149460A JP3337764A JP33776491A JPH05149460A JP H05149460 A JPH05149460 A JP H05149460A JP 3337764 A JP3337764 A JP 3337764A JP 33776491 A JP33776491 A JP 33776491A JP H05149460 A JPH05149460 A JP H05149460A
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- JP
- Japan
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- gas
- back plate
- metal diaphragm
- gas inflow
- fitted
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 クリーンな高圧ガスを流すことができ、半導
体製造装置の配管途中に設けるのに好適なチャッキ弁を
提供する。 【構成】 一側にガス流入路２を有する内側ハウジング
１内に、微細孔６が多数貫通穿設されたガス流入側バッ
クプレート７を嵌入張設すると共に、環状ホルダー１０
で保持された弁座シート９を段部８に嵌着する。ガス流
入側バックプレート及び環状ホルダーのガス流出側の面
を緩やかにくぼんだ球面１１に形成し、その球面側に複
数のガス流通穴を有するメタルダイヤフラム１３を張設
すると共に、メタルダイヤフラムのガス流通孔と直通す
る複数のガス流通路が貫通穿設され、くぼんだ球面を有
する流出側バックプレート１７を設け、外側ハウジング
２２を装着する。
体製造装置の配管途中に設けるのに好適なチャッキ弁を
提供する。 【構成】 一側にガス流入路２を有する内側ハウジング
１内に、微細孔６が多数貫通穿設されたガス流入側バッ
クプレート７を嵌入張設すると共に、環状ホルダー１０
で保持された弁座シート９を段部８に嵌着する。ガス流
入側バックプレート及び環状ホルダーのガス流出側の面
を緩やかにくぼんだ球面１１に形成し、その球面側に複
数のガス流通穴を有するメタルダイヤフラム１３を張設
すると共に、メタルダイヤフラムのガス流通孔と直通す
る複数のガス流通路が貫通穿設され、くぼんだ球面を有
する流出側バックプレート１７を設け、外側ハウジング
２２を装着する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、高圧ガスが流れる配管
途中に設けられる逆流防止のためのチャッキ弁に係り、
特にＣＶＤ装置のような半導体製造装置に於いて、クリ
ーンな高圧ガスを流す配管途中に設けるのに好適なチャ
ッキ弁に係る。
途中に設けられる逆流防止のためのチャッキ弁に係り、
特にＣＶＤ装置のような半導体製造装置に於いて、クリ
ーンな高圧ガスを流す配管途中に設けるのに好適なチャ
ッキ弁に係る。
【０００２】
【従来の技術】従来の高圧ガスが流れる配管途中に設け
られる逆流防止のためのチャッキ弁を図５によって説明
すると、両側外周にねじ３１，３１′を有し、中央外周
にナット部３２が間隔をおいて２個一体に形成されたパ
イプボディ３３内の一側に、外周にＯリング３４が装着
された筒状の弁座３５が嵌入され、そのあとから筒状の
ストッパー３６が螺入されて弁座３５が抜け止めされて
いる。弁座３５に対向してパイプボディ３３内には、筒
状の弁体３７が設けられ、弁体３７は先端面周縁が弁座
３５に当接するようになっており、先端部のテーパ外周
壁にはガス流通孔３８が設けられ、後部外周壁はスリー
ブ３９となってパイプボディ３３内を摺動するようにな
っている。パイプボディ３３の内周面には筒状の弁体３
７が一定量摺動すると停止するためのストッパ４０が設
けられている。パイプボディ３３内の他側にはスプリン
グ４１が装入されて先端が筒状の弁体３７のテーパ外周
壁内面に係止され、後端がパイプボディ３３に他側より
螺入された筒状の調整ねじ４２に係止され、調整ねじ４
２は筒状のロックねじ４３により固定されている。
られる逆流防止のためのチャッキ弁を図５によって説明
すると、両側外周にねじ３１，３１′を有し、中央外周
にナット部３２が間隔をおいて２個一体に形成されたパ
イプボディ３３内の一側に、外周にＯリング３４が装着
された筒状の弁座３５が嵌入され、そのあとから筒状の
ストッパー３６が螺入されて弁座３５が抜け止めされて
いる。弁座３５に対向してパイプボディ３３内には、筒
状の弁体３７が設けられ、弁体３７は先端面周縁が弁座
３５に当接するようになっており、先端部のテーパ外周
壁にはガス流通孔３８が設けられ、後部外周壁はスリー
ブ３９となってパイプボディ３３内を摺動するようにな
っている。パイプボディ３３の内周面には筒状の弁体３
７が一定量摺動すると停止するためのストッパ４０が設
けられている。パイプボディ３３内の他側にはスプリン
グ４１が装入されて先端が筒状の弁体３７のテーパ外周
壁内面に係止され、後端がパイプボディ３３に他側より
螺入された筒状の調整ねじ４２に係止され、調整ねじ４
２は筒状のロックねじ４３により固定されている。
【０００３】このように構成されたチャッキ弁４４を両
側外周のねじ３１，３１′にて高圧ガスが流れる配管の
途中に取付けて使用すると、チャッキ弁４４に入ってき
た高圧ガスは筒状の弁体３７をスプリング４１の付勢力
に抗して押し込み、弁座３５から離隔して開弁し、弁体
３７のテーパ外周壁のガス流通孔３８を通って筒状の弁
体３７内に入り、パイプボディ３３内を直進し、筒状の
調整ねじ４２，ロックねじ４３内を通ってチャッキ弁４
４を出ていく。
側外周のねじ３１，３１′にて高圧ガスが流れる配管の
途中に取付けて使用すると、チャッキ弁４４に入ってき
た高圧ガスは筒状の弁体３７をスプリング４１の付勢力
に抗して押し込み、弁座３５から離隔して開弁し、弁体
３７のテーパ外周壁のガス流通孔３８を通って筒状の弁
体３７内に入り、パイプボディ３３内を直進し、筒状の
調整ねじ４２，ロックねじ４３内を通ってチャッキ弁４
４を出ていく。
【０００４】高圧ガスの供給先で何らかのトラブルによ
り逆流が生じた場合、弁体３７はスプリング４１の付勢
力と高圧ガスとにより弁座３５に押し付けられて閉弁さ
れ、チャッキ弁４４よりも上流への高圧ガスの逆流が防
止される。
り逆流が生じた場合、弁体３７はスプリング４１の付勢
力と高圧ガスとにより弁座３５に押し付けられて閉弁さ
れ、チャッキ弁４４よりも上流への高圧ガスの逆流が防
止される。
【０００５】ところで、このチャッキ弁４４は、高圧ガ
スが流通する部分に弁体３７の摺動部材であるスリーブ
３９が晒されているので、弁開閉に伴うスリーブ３９の
摺動によってパーティクルが生じ、これが高圧ガス中に
混入し、汚染されるので、クリーンな高圧ガスを流すＣ
ＶＤ装置のような半導体製造装置の配管の途中に設ける
のは不適当である。
スが流通する部分に弁体３７の摺動部材であるスリーブ
３９が晒されているので、弁開閉に伴うスリーブ３９の
摺動によってパーティクルが生じ、これが高圧ガス中に
混入し、汚染されるので、クリーンな高圧ガスを流すＣ
ＶＤ装置のような半導体製造装置の配管の途中に設ける
のは不適当である。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】そこで本発明は、弁開
閉においてパーティクルが生ぜず、従ってクリーンな高
圧ガスを流すことができて、半導体製造装置の配管途中
に設けて逆流防止を図るのに好適なチャッキ弁を提供し
ようとするものである。
閉においてパーティクルが生ぜず、従ってクリーンな高
圧ガスを流すことができて、半導体製造装置の配管途中
に設けて逆流防止を図るのに好適なチャッキ弁を提供し
ようとするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の本発明のチャッキ弁は、一側にガス流入路を同心に有
する内側ハウジング内に、微細孔が中央部に等間隔に多
数貫通穿設された凸形のガス流入側バックプレートが嵌
入張設され、このガス流入側バックプレートの多数の微
細孔を囲むようにガス流出側の面の外周部に設けた段部
に弁座シートが嵌着されて突出され、この弁座シートが
ガス流入側バックプレートの凸部外周に嵌着され且つ内
側ハウジング内に嵌合された環状ホルダーにて保持さ
れ、前記ガス流入側バックプレート及び環状ホルダーの
ガス流出側の面が一体的に緩やかにくぼんだ球面になさ
れ、その球面側に周方向に複数のガス流通穴を有するメ
タルダイヤフラムが張設されて、このメタルダイヤフラ
ムの外周部が、前記内側ハウジング内に嵌合され中央部
に微細孔が等間隔に多数貫通穿設され周方向にメタルダ
イヤフラムのガス流通穴と直通するように複数のガス流
通路が貫通穿設されガス流入側の面がくぼんだ球面にな
されたガス流出側バックプレートの外周部にて挟まれ、
内側ハウジングの外周へ他側にガス流出路を同心に有す
る外側ハウジングが螺合されて、前記ガス流入側バック
プレート，環状ホルダー，メタルダイヤフラム，ガス流
出側バックプレートの各外周部が締付け固定されてなる
ものである。
の本発明のチャッキ弁は、一側にガス流入路を同心に有
する内側ハウジング内に、微細孔が中央部に等間隔に多
数貫通穿設された凸形のガス流入側バックプレートが嵌
入張設され、このガス流入側バックプレートの多数の微
細孔を囲むようにガス流出側の面の外周部に設けた段部
に弁座シートが嵌着されて突出され、この弁座シートが
ガス流入側バックプレートの凸部外周に嵌着され且つ内
側ハウジング内に嵌合された環状ホルダーにて保持さ
れ、前記ガス流入側バックプレート及び環状ホルダーの
ガス流出側の面が一体的に緩やかにくぼんだ球面になさ
れ、その球面側に周方向に複数のガス流通穴を有するメ
タルダイヤフラムが張設されて、このメタルダイヤフラ
ムの外周部が、前記内側ハウジング内に嵌合され中央部
に微細孔が等間隔に多数貫通穿設され周方向にメタルダ
イヤフラムのガス流通穴と直通するように複数のガス流
通路が貫通穿設されガス流入側の面がくぼんだ球面にな
されたガス流出側バックプレートの外周部にて挟まれ、
内側ハウジングの外周へ他側にガス流出路を同心に有す
る外側ハウジングが螺合されて、前記ガス流入側バック
プレート，環状ホルダー，メタルダイヤフラム，ガス流
出側バックプレートの各外周部が締付け固定されてなる
ものである。
【０００８】
【作用】このように構成された本発明のチャッキ弁を、
高圧ガスが流れる配管の途中に取付けて使用すると、ガ
ス流入路から内側ハウジング内に入ってきた高圧ガス
は、ガス流入側バックプレートの中央部の多数の微細孔
を通ってメタルダイヤフラムを押圧し、弁座シートから
離隔してガス流出側バックプレートのくぼんだ球面に密
着させて開弁する結果、ガス流入側バックプレートとメ
タルダイヤフラムとの間に入った高圧ガスはメタルダイ
ヤフラムの周方向のガス流通穴及びこれと直通するガス
流出側バックプレートの周方向のガス流通路を通って外
側ハウジング内に入り、ここからガス流出路を通ってチ
ャッキ弁を出ていく。
高圧ガスが流れる配管の途中に取付けて使用すると、ガ
ス流入路から内側ハウジング内に入ってきた高圧ガス
は、ガス流入側バックプレートの中央部の多数の微細孔
を通ってメタルダイヤフラムを押圧し、弁座シートから
離隔してガス流出側バックプレートのくぼんだ球面に密
着させて開弁する結果、ガス流入側バックプレートとメ
タルダイヤフラムとの間に入った高圧ガスはメタルダイ
ヤフラムの周方向のガス流通穴及びこれと直通するガス
流出側バックプレートの周方向のガス流通路を通って外
側ハウジング内に入り、ここからガス流出路を通ってチ
ャッキ弁を出ていく。
【０００９】高圧ガスの供給先で何らかのトラブルによ
り逆流が生じた場合、ガス流出路から外側ハウジング内
に入ってきた高圧ガスは、ガス流出側バックプレートの
中央部の多数の微細孔を通ってくぼんだ球面に密着して
いたメタルダイヤフラムを反対側に押圧し、弁座シート
の突出部を圧潰して、メタルダイヤフラムをガス流入側
バックプレート及び環状ホルダーの緩やかにくぼんだ球
面に密着し、閉弁する結果、チャッキ弁よりも上流への
高圧ガスの逆流が防止される。
り逆流が生じた場合、ガス流出路から外側ハウジング内
に入ってきた高圧ガスは、ガス流出側バックプレートの
中央部の多数の微細孔を通ってくぼんだ球面に密着して
いたメタルダイヤフラムを反対側に押圧し、弁座シート
の突出部を圧潰して、メタルダイヤフラムをガス流入側
バックプレート及び環状ホルダーの緩やかにくぼんだ球
面に密着し、閉弁する結果、チャッキ弁よりも上流への
高圧ガスの逆流が防止される。
【００１０】このように本発明のチャッキ弁は、高圧ガ
スが流通する部分に摺動部材がなく、弁開閉の際動作す
るメタルダイヤフラムはガス流入側バックプレート，環
状ホルダー，ガス流出側バックプレートと擦れることが
なく密着するだけであるからパーティクルが生ぜず、高
圧ガスが汚染されることがないので、クリーンな高圧ガ
スを流すＣＶＤ装置のような半導体製造装置の配管途中
に設けるには好適である。
スが流通する部分に摺動部材がなく、弁開閉の際動作す
るメタルダイヤフラムはガス流入側バックプレート，環
状ホルダー，ガス流出側バックプレートと擦れることが
なく密着するだけであるからパーティクルが生ぜず、高
圧ガスが汚染されることがないので、クリーンな高圧ガ
スを流すＣＶＤ装置のような半導体製造装置の配管途中
に設けるには好適である。
【００１１】
【実施例】本発明のチャッキ弁の一実施例を図によって
説明すると、図１において、１は一側にガス流入路２を
同心に有し、そのガス流入路２の外周面に配管接続用の
ねじ３を有するＳＵＳ３１６製の内側ハウジングで、ガ
ス流入路２から内側ハウジング１内の円形凹部４への連
絡部５は半球状となっている。内側ハウジング１内の円
形凹部４には、図２に示すように中央部に微細孔、本例
では直径０．７mmの微細孔６が１．５mm間隔に４５本貫
通穿設された円形凸形のＳＵＳ３１６製のガス流入側バ
ックプレート７が図１に示すように嵌入張設され、この
ガス流入側バックプレート７の微細孔６を囲むようにガ
ス流出側の面の外周部に設けた段部８には弁座シート９
が嵌着されて一部突出され、この弁座シート９の外周が
ガス流入側バックプレート７の凸部７ａの外周に嵌着さ
れ且つ内側ハウジング１内の円形凹部４に嵌合されたＳ
ＵＳ３１６製の環状ホルダー１０の内側の環状凸部１０
ａにて保持されている。前記のガス流入側バックプレー
ト７及び環状ホルダー１０のガス流出側の面は一体的に
緩やかにくぼんだ球面１１になされ、その球面１１側に
図３に示すように周方向に複数の、本例では３個の円形
のガス流通穴１２を三方に有する円形の厚さ０．０５mm
〜０．０６mmのコバルト合金よりなるメタルダイヤフラ
ム１３が図１に示すように張設されている。このメタル
ダイヤフラム１３の外周部は、図４に示すように中央部
に微細孔、本例では直径０．７mmの微細孔１４が１．５
mm間隔に４５本貫通穿設され、周方向に前記メタルダイ
ヤフラム１３の３個のガス流通穴１２と直通するように
３個のガス流通路１５が貫通穿設され、ガス流入側の面
がくぼんだ球面１６になされたＳＵＳ３１６製の円形の
ガス流出側バックプレート１７が、前記内側ハウジング
１内の円形凹部４に嵌合されて、その外周部にて挟まれ
ている。そしてガス流入側バックプレート７，環状ホル
ダー１０，ガス流出側バックプレート１７が位置決めピ
ン１８にて回り止めの上、内側ハウジング１の外周面の
雄ねじ１９へ、他側にガス流出路２０を同心に有し、そ
のガス流出路２０の外周面に配管接続用のねじ２１を有
するＳＵＳ３１６製の外側ハウジング２２内の円形凹部
２３の内周面の雌ねじ２４が螺合されて、前記ガス流入
側バックプレート７，環状ホルダー１０，メタルダイヤ
フラム１３，ガス流出側バックプレート１７の各外周部
が締付け固定されている。外側ハウジング２２内の円形
凹部２３からガス流出路２０への連絡部２５は皿状とな
っている。
説明すると、図１において、１は一側にガス流入路２を
同心に有し、そのガス流入路２の外周面に配管接続用の
ねじ３を有するＳＵＳ３１６製の内側ハウジングで、ガ
ス流入路２から内側ハウジング１内の円形凹部４への連
絡部５は半球状となっている。内側ハウジング１内の円
形凹部４には、図２に示すように中央部に微細孔、本例
では直径０．７mmの微細孔６が１．５mm間隔に４５本貫
通穿設された円形凸形のＳＵＳ３１６製のガス流入側バ
ックプレート７が図１に示すように嵌入張設され、この
ガス流入側バックプレート７の微細孔６を囲むようにガ
ス流出側の面の外周部に設けた段部８には弁座シート９
が嵌着されて一部突出され、この弁座シート９の外周が
ガス流入側バックプレート７の凸部７ａの外周に嵌着さ
れ且つ内側ハウジング１内の円形凹部４に嵌合されたＳ
ＵＳ３１６製の環状ホルダー１０の内側の環状凸部１０
ａにて保持されている。前記のガス流入側バックプレー
ト７及び環状ホルダー１０のガス流出側の面は一体的に
緩やかにくぼんだ球面１１になされ、その球面１１側に
図３に示すように周方向に複数の、本例では３個の円形
のガス流通穴１２を三方に有する円形の厚さ０．０５mm
〜０．０６mmのコバルト合金よりなるメタルダイヤフラ
ム１３が図１に示すように張設されている。このメタル
ダイヤフラム１３の外周部は、図４に示すように中央部
に微細孔、本例では直径０．７mmの微細孔１４が１．５
mm間隔に４５本貫通穿設され、周方向に前記メタルダイ
ヤフラム１３の３個のガス流通穴１２と直通するように
３個のガス流通路１５が貫通穿設され、ガス流入側の面
がくぼんだ球面１６になされたＳＵＳ３１６製の円形の
ガス流出側バックプレート１７が、前記内側ハウジング
１内の円形凹部４に嵌合されて、その外周部にて挟まれ
ている。そしてガス流入側バックプレート７，環状ホル
ダー１０，ガス流出側バックプレート１７が位置決めピ
ン１８にて回り止めの上、内側ハウジング１の外周面の
雄ねじ１９へ、他側にガス流出路２０を同心に有し、そ
のガス流出路２０の外周面に配管接続用のねじ２１を有
するＳＵＳ３１６製の外側ハウジング２２内の円形凹部
２３の内周面の雌ねじ２４が螺合されて、前記ガス流入
側バックプレート７，環状ホルダー１０，メタルダイヤ
フラム１３，ガス流出側バックプレート１７の各外周部
が締付け固定されている。外側ハウジング２２内の円形
凹部２３からガス流出路２０への連絡部２５は皿状とな
っている。
【００１２】このように構成された実施例のチャッキ弁
２６を、ガス流入路２の外周面のねじ３，ガス流出路２
０の外周面のねじ２１にて高温ガスが流れる配管の途中
に取付けて使用すると、ガス流入路２から内側ハウジン
グ１内の半球状の連絡部５に入ってきた高圧ガスはガス
流入側バックプレート７の中央部の多数の微細孔６を通
ってメタルダイヤフラム１３を押圧し、弁座シート９か
ら離隔してガス流出側バックプレート１７のくぼんだ球
面１６に密着させて開弁する結果、ガス流入側バックプ
レート７とメタルダイヤフラム１３との間に入った高圧
ガスはメタルダイヤフラム１３の周方向のガス流通穴１
２及びこれと直通するガス流出側バックプレート１７の
ガス流通路１５を通って外側ハウジング２２内の皿状の
連絡部２５に入り、ここからガス流出路２０を通ってチ
ャッキ弁２６を出ていく。
２６を、ガス流入路２の外周面のねじ３，ガス流出路２
０の外周面のねじ２１にて高温ガスが流れる配管の途中
に取付けて使用すると、ガス流入路２から内側ハウジン
グ１内の半球状の連絡部５に入ってきた高圧ガスはガス
流入側バックプレート７の中央部の多数の微細孔６を通
ってメタルダイヤフラム１３を押圧し、弁座シート９か
ら離隔してガス流出側バックプレート１７のくぼんだ球
面１６に密着させて開弁する結果、ガス流入側バックプ
レート７とメタルダイヤフラム１３との間に入った高圧
ガスはメタルダイヤフラム１３の周方向のガス流通穴１
２及びこれと直通するガス流出側バックプレート１７の
ガス流通路１５を通って外側ハウジング２２内の皿状の
連絡部２５に入り、ここからガス流出路２０を通ってチ
ャッキ弁２６を出ていく。
【００１３】高圧ガスの供給先で何らかのトラブルによ
り逆流が生じた場合、ガス流出路２０から外側ハウジン
グ２２内の皿状の連絡部２５に入ってきた高圧ガスは、
ガス流出側バックプレート１７の中央部の多数の微細孔
１４を通ってくぼんだ球面１６に密着していたメタルダ
イヤフラム１３を反対側に押圧し、弁座シート９の突出
部を圧潰して、メタルダイヤフラム１３をガス流入側バ
ックプレート７及び環状ホルダー１０の緩やかにくぼん
だ球面１１に密着し、閉弁する結果、チャッキ弁２６よ
りも上流への逆流が防止される。
り逆流が生じた場合、ガス流出路２０から外側ハウジン
グ２２内の皿状の連絡部２５に入ってきた高圧ガスは、
ガス流出側バックプレート１７の中央部の多数の微細孔
１４を通ってくぼんだ球面１６に密着していたメタルダ
イヤフラム１３を反対側に押圧し、弁座シート９の突出
部を圧潰して、メタルダイヤフラム１３をガス流入側バ
ックプレート７及び環状ホルダー１０の緩やかにくぼん
だ球面１１に密着し、閉弁する結果、チャッキ弁２６よ
りも上流への逆流が防止される。
【００１４】このように実施例のチャッキ弁２６は、高
圧ガスが流通する部分に摺動部材がなく、弁開閉の際動
作するメタルダイヤフラム１３は、ガス流入側バックプ
レート７，環状ホルダー１０，ガス流出側バックプレー
ト１７と擦れることがなく密着するだけであるからパー
ティクルが生ぜず、高圧ガスが汚染されることがないの
で、クリーンな高圧ガスを流すＣＶＤ装置のような半導
体製造装置の配管途中に設けるのに好適である。
圧ガスが流通する部分に摺動部材がなく、弁開閉の際動
作するメタルダイヤフラム１３は、ガス流入側バックプ
レート７，環状ホルダー１０，ガス流出側バックプレー
ト１７と擦れることがなく密着するだけであるからパー
ティクルが生ぜず、高圧ガスが汚染されることがないの
で、クリーンな高圧ガスを流すＣＶＤ装置のような半導
体製造装置の配管途中に設けるのに好適である。
【００１５】
【発明の効果】以上の通り本発明のチャッキ弁は、弁開
閉においてパーティクルが生ぜず、従ってクリーンな高
圧ガスを流すことができて、半導体装置の配管途中に設
けて逆流防止を図るのに極めて有効である。
閉においてパーティクルが生ぜず、従ってクリーンな高
圧ガスを流すことができて、半導体装置の配管途中に設
けて逆流防止を図るのに極めて有効である。
【図１】本発明のチャッキ弁の一実施例を示す縦断面図
である。
である。
【図２】図１のチャッキ弁の内部のガス流入側バックプ
レートの斜視図である。
レートの斜視図である。
【図３】図１のチャッキ弁の内部のメタルダイヤフラム
の斜視図である。
の斜視図である。
【図４】図１のチャッキ弁の内部のガス流出側バックプ
レートの斜視図である。
レートの斜視図である。
【図５】従来のチャッキ弁を示す縦断面図である。
１ 内側ハウジング ２ ガス流入路 ４ 円形凹部 ６ 微細孔 ７ ガス流入側バックプレート ８ 段部 ９ 弁座シート １０ 環状ホルダー １１ 緩やかにくぼんだ球面 １２ ガス流通穴 １３ メタルダイヤフラム １４ 微細孔 １５ ガス流通路 １６ くぼんだ球面 １７ ガス流出側バックプレート １９ 雄ねじ ２０ ガス流出路 ２２ 外側ハウジング ２４ 雌ねじ ２６ チャッキ弁
Claims (1)
- 【請求項１】 一側にガス流入路を同心に有する内側ハ
ウジング内に、微細孔が中央部に等間隔に多数貫通穿設
された凸形のガス流入側バックプレートが嵌入張設さ
れ、このガス流入側バックプレートの多数の微細孔を囲
むようにガス流出側の面の外周部に設けた段部に弁座シ
ートが嵌着されて突出され、この弁座シートがガス流入
側バックプレートの凸部外周に嵌着され且つ内側ハウジ
ング内に嵌合された環状ホルダーにて保持され、前記ガ
ス流入側バックプレート及び環状ホルダーのガス流出側
の面が一体的に緩やかにくぼんだ球面になされ、その球
面側に周方向に複数のガス流通穴を有するメタルダイヤ
フラムが張設されて、このメタルダイヤフラムの外周部
が、前記内側ハウジング内に嵌合され中央部に微細孔が
等間隔に多数貫通穿設され周方向にメタルダイヤフラム
のガス流通穴と直通するように複数のガス流通路が貫通
穿設されガス流入側の面がくぼんだ球面になされたガス
流出側バックプレートの外周部にて挟まれ、内側ハウジ
ングの外周へ他側にガス流出路を同心に有する外側ハウ
ジングが螺合されて、前記ガス流入側バックプレート，
環状ホルダー，メタルダイヤフラム，ガス流出側バック
プレートの各外周部が締付け固定されてなるチャッキ
弁。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3337764A JPH0733871B2 (ja) | 1991-11-27 | 1991-11-27 | チャッキ弁 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3337764A JPH0733871B2 (ja) | 1991-11-27 | 1991-11-27 | チャッキ弁 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05149460A true JPH05149460A (ja) | 1993-06-15 |
| JPH0733871B2 JPH0733871B2 (ja) | 1995-04-12 |
Family
ID=18311748
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3337764A Expired - Lifetime JPH0733871B2 (ja) | 1991-11-27 | 1991-11-27 | チャッキ弁 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0733871B2 (ja) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52128827U (ja) * | 1976-03-27 | 1977-09-30 | ||
| JPS5631914A (en) * | 1979-08-25 | 1981-03-31 | Mitsuboshi Belting Ltd | Draining device |
| JPS57157871A (en) * | 1981-03-24 | 1982-09-29 | Takaoka Seisakusho:Kk | Check valve |
| JPH01168069U (ja) * | 1988-05-17 | 1989-11-27 |
-
1991
- 1991-11-27 JP JP3337764A patent/JPH0733871B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52128827U (ja) * | 1976-03-27 | 1977-09-30 | ||
| JPS5631914A (en) * | 1979-08-25 | 1981-03-31 | Mitsuboshi Belting Ltd | Draining device |
| JPS57157871A (en) * | 1981-03-24 | 1982-09-29 | Takaoka Seisakusho:Kk | Check valve |
| JPH01168069U (ja) * | 1988-05-17 | 1989-11-27 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0733871B2 (ja) | 1995-04-12 |
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