JPH05144760A - 集積回路レイアウト設計装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ＭＯＳ集積回路のレイアウトデータ作成にお
いて、拡散層データの入力処理の処理能率の向上化を図
る。 【構成】 レイアウト手段１０ａは、各拡散層の外枠を
結んで構成される仮りの拡散層データを入力処理する仮
拡散層図形入力処理手段１１と、絶縁分離層図形データ
を入力処理する絶縁分離層図形入力処理手段１２と、仮
りの拡散層図形データと絶縁分離層図形データとの差分
データを図形演算処理により求めて真の拡散層データを
生成する真拡散層図形生成処理手段１６とを含む。 【効果】 すべての図形の座標指定がグリッド上に乗っ
ているため、細かな座標指定が不要になり、データの入
力処理作業の能率が向上する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、コンピュータエーデッ
ドデザイン（ＣＡＤ）を用い、集積回路の設計データを
入力しレイアウトデータを生成出力する集積回路レイア
ウト設計装置に利用され、特に、ＭＯＳ技術による半導
体集積回路のマスクレイアウトに関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、半導体集積回路における回路の大
規模化に伴い、半導体集積回路の１チップあたりのレイ
アウトの図形データ量は、増大する傾向にある。レイア
ウトの図形データの入力は、正確さはもちろんのこと、
入力の簡略化も重要な課題である。入力の簡略化を推進
することにより、レイアウトデータを入力する際の時間
が短縮され、さらに、入力ミスを少なくすることができ
る。レイアウト作成は、通常、１回目のレイアウト入力
が済んだ後、レイアウト検証とレイアウト修正を繰り返
すことにより、図形同士の間隔や図形の幅等の設計規則
上の誤りや、回路としての接続上の誤りをなくしてい
く。そのため、入力ミスが少ないことは、この検証と修
正の繰り返し回数を減らし、レイアウトデータ完成まで
の時間を短縮するうえで重要である。

【０００３】図４は従来の集積回路レイアウト設計装置
の一例の要部を示すブロック構成図である。

【０００４】この従来例は、設計データ１を入力してレ
イアウトデータ２を生成出力するレイアウト手段１０と
して、拡散層図形データを入力処理する拡散層図形入力
処理手段１７と、多結晶シリコンゲート（以下、ポリシ
リゲートという。）図形データを入力処理するポリシリ
ゲート図形入力処理手段１３と、アルミニウム層（以
下、アルミ層という。）図形データを入力処理するアル
ミ層図形入力処理手段１４と、拡散コンタクト図形デー
タを入力処理する拡散コンタクト図形入力処理手段１５
とを含み、さらに補助記憶装置３を備えている。

【０００５】次に、この従来例の動作概要について図５
に示す流れ図を参照して説明する。

【０００６】始めに、拡散層図形データの入力処理を行
い（ステップＳ１１）、以下順に、ポリシリゲート図形
データの入力処理（ステップＳ１２）、アルミ層図形デ
ータの入力処理（ステップＳ１３）、および拡散コンタ
クト図形データの入力処理（ステップＳ１４）を行う。

【０００７】図６は従来の集積回路レイアウト設計装置
で作成されたレイアウトデータの一例を示すレイアウト
図である。

【０００８】図６のレイアウトデータは、拡散層２０１
と、ポリシリゲート２０２と、拡散層のコンタクトホー
ル２０３と、アルミ層２０４とを含んで構成される。ま
た、レイアウトデータ入力時の座標基準として、基本ゲ
ート間隔２０５と、グリッド間隔２０６と、グリッド２
０７と、拡散層間隔２０８とが定義される。ここで、基
本ゲート間隔２０５とは、図６において、コンタクトホ
ール２０３をはさんで、２本のポリシリゲート２０２を
最小間隔で平行に並べたときの、ポリシリゲート２０２
の中心線同士の間隔である。また、グリッド間隔２０６
とは、基本ゲート間隔２０５を２分の１にした間隔であ
る。グリッド２０７とは、レイアウトデータの入力基準
となるとびとびの絶対座標のことで、グリッド間隔２０
６の間隔をあけて並んでいる。本来、グリッドは、Ｘ座
標とＹ座標の両方について定義されるものであるが、こ
こでは、説明の簡略のためにＸ座標のみのグリッドを扱
う。

【０００９】図６のレイアウトデータの入力方法につい
て説明するために、まず、一般的な、レイアウトデータ
の入力方法について図７（ａ）〜（ｄ）を用いて説明す
る。

【００１０】図７は、レイアウトデータにおける図形の
種類を表す図である。図７に示される図形の種類は、同
図（ａ）に示すレクタングルデータ３０１、同図（ｂ）
に示すパスデータ３０２、同図（ｃ）に示すポリゴンデ
ータ３０３、および同図（ｄ）に示すセルデータ３０４
の４種類である。また、図７の×印３０５は図形を表現
するための座標を表す。すなわち、レクタングル３０１
は対角の２点の座標を指定することにより表され、パス
データ３０２は、パス幅３０６を指定し、さらにパスの
中心線３０７の座標を指定することにより表され、ポリ
ゴンデータ３０３は多角形の全ての頂点座標を外周に沿
って右周り、あるいは左周り順に指定することにより表
される。セルデータ３０４は、例として拡散層のコンタ
クトを用いたが、一般に、レイアウトデータの入力の際
には、レイアウトデータの中に頻繁に現れる一塊の図形
データをセルとして定義して、そのセルを配置すること
により、入力の手間を省くことが行われる。拡散層のコ
ンタクトセルであるセルデータ３０４は、セルの原点３
０８、コンタクトホール３０９、拡散層３１０およびア
ルミ層３１１から構成される。従って、図６のコンタク
トホール２０３は、セルデータ３０４を配置することで
入力できる。また、セルデータ３０４を配置する場合、
そのセルの原点３０８に対応する座標を指定することに
よって行われる。

【００１１】次に、図６のレイアウトデータを入力する
場合の入力方法について述べる。

【００１２】図６における、ポリシリゲート２０２、お
よび、アルミ層２０４は、Ｙ軸方向のパスデータで表現
でき、ポリシリゲート２０２とアルミ層２０４のパスデ
ータの中心線は、グリッド２０７上に重なっているの
で、これらポリシリゲート２００２とアルミ層２０４と
はグリッド２０７上の座標指定で表現できる。また、コ
ンタクトホール２０３も、中心点はグリッド２０７上で
あるので、拡散層のコンタクトセルであるセルデータ２
０４をグリッド２０７上に配置することで表現できる。

【００１３】ところが、図６の拡散層２０１だけは、最
小間隔で拡散層データを配置しようとした場合、グリッ
ド２０７上の座標指定で表現することができない。なぜ
なら、拡散層２０１のデータは、通常、レクタングルデ
ータ３０１、または、ポリゴンデータ３０３の形で表現
されるが、指定すべき座標は、図６からわかるように、
グリッド２０７上に乗っていない。例えば、拡散層２０
１のレクタングルデータの頂点のＸ座標は、グリッド２
０７の位置から、拡散層間隔２０８の２分の１の距離だ
け離れた座標になってしまう場合もある。

【００１４】従って、従来の集積回路レイアウト設計装
置では、座標がすべてグリッド上に乗っているような座
標指定のみで、レイアウトデータの入力を済ますことは
できなかった。このことにより、拡散層入力の際には、
細かな注意を必要とし、拡散層間隔エラー等の入力ミス
を招く恐れがあり、レイアウトデータ作成作業の能率を
下げる要因となっていた。

【００１５】

【発明が解決しようとする課題】前述した従来の集積回
路レイアウト設計装置では、コンタクトホール−ポリシ
リゲート間隔で決められるグリッド上に、すべての座標
が乗っているような座標指定のみで、レイアウトデータ
の入力を済ますことはできず、このことにより、拡散層
入力の際には、さらに細かなグリッドを設定しなければ
ならず、細かな注意を必要とし、拡散層間隔エラー等の
入力ミスを招く恐れがあり、レイアウトデータ作成作業
の能率を下げる欠点があった。

【００１６】本発明の目的は、前記の欠点を除去するこ
とにより、座標がすべてグリッド上に乗っているような
座標指定でもって、拡散層入力ができ、入力ミスを防止
し、作業能率を向上できる集積回路レイアウト設計装置
を提供することにある。

【００１７】

【課題を解決するための手段】本発明は、設計データを
入力しレイアウトデータを作成出力するレイアウト手段
を備えた集積回路レイアウト設計装置において、前記レ
イアウト手段は、座標がグリッド上に乗っている仮りの
拡散層図形データを入力処理する仮拡散層図形入力処理
手段と、座標がグリッド上に乗っている拡散分離層図形
データを入力処理する拡散分離層図形入力処理手段と、
前記仮りの拡散層図形データと前記拡散分離層図形デー
タとの差分データを図形演算処理により求めて真の拡散
層図形データを生成する真拡散層図形生成処理手段とを
含むことを特徴とする。

【００１８】

【作用】拡散層は、各トランジスタを構成する個々の拡
散層の外枠を結んで得られる仮の拡散層から、各トラン
ジスタを分離する拡散分離層を差し引くことで与えるこ
とができる。そして、仮の拡散層は座標がグリッド上に
乗っているレクタングルデータで入力処理でき、拡散分
離層は座標がグリッド上に乗っているパスデータで入力
処理できる。

【００１９】従って、仮拡散層図形入力処理手段により
仮りの拡散層データを入力処理し、拡散分離層図形入力
処理手段により拡散分離層図形データを入力処理し、真
拡散層図形生成処理手段により図形演算処理で両者の差
分データを求めることで、座標がグリッド上に乗ってい
るデータ入力のみで、拡散層図形データの入力処理を行
うことが可能となり、細かな入力座標指定が不要とな
り、入力処理作業のミスの防止と、能率向上を図ること
が可能となる。

【００２０】

【実施例】以下、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。

【００２１】図１は本発明の一実施例の要部を示すブロ
ック構成図である。

【００２２】本実施例は、設計データ１を入力しレイア
ウトデータ２を作成出力する。ポリシリゲート図形入力
処理手段１３、アルミ層図形入力処理手段１４、および
拡散コンタクト図形入力処理手段１５を含むレイアウト
手段１０ａと、補助記憶装置３とを備えた集積回路レイ
アウト設計装置において、本発明の特徴とするところ
の、レイアウト手段１０ａは、さらに、座標がグリッド
上に乗っている仮りの拡散層図形データを入力処理する
仮拡散層図形入力処理手段１１と、座標がグリッド上に
乗っている拡散分離層図形データを入力処理する拡散分
離層図形入力処理手段１２と、前記仮りの拡散層図形デ
ータと前記拡散分離層図形データとの差分データを図形
演算処理により求めて真の拡散層図形データを生成する
真拡散層図形生成処理手段１６とを含んでいる。

【００２３】次に、本実施例の動作の概要について図２
に示す流れ図を参照して説明する。

【００２４】始めに、各拡散層の外枠を結んだ仮の拡散
層図形データの入力処理を行い（ステップＳ１）、以下
順に、拡散分離層図形データの入力処理（ステップＳ
２）、ポリシリゲート図形データの入力処理（ステップ
Ｓ３）、アルミ層図形データの入力処理（ステップＳ
４）、および拡散コンタクト図形データの入力処理（ス
テップＳ５）を行う。そして最後に、仮りの拡散層図形
データと拡散分離層図形データとの差分データを求め真
の拡散層データを生成する（ステップＳ６）。

【００２５】図３は、本実施例によるレイアウトデータ
の一例を示すレイアウト図である。

【００２６】図３のレイアウトデータは、仮の拡散層１
０１、拡散分離層１０２、ポリシリゲート１０３、コン
タクトホール１０４、およびアルミ層１０５を含み構成
され、レイアウトデータ入力時の座標基準として、基本
ゲート間隔１０６、グリッド間隔１０７、およびグリッ
ド１０８が定義される。なお、１０９および１１０はそ
れぞれ仮の拡散層２０１のレクタングルデータの二つの
頂点である。

【００２７】仮の拡散層１０１は、拡散分離層１０２を
図形演算処理で引き算することにより、真の拡散層とな
る。すなわち、真の拡散層は、仮の拡散層１０１から、
拡散分離層１０２の重なっている部分を取り除いた領域
である。

【００２８】次に、図３のレイアウトデータを入力する
場合の方法を述べる。

【００２９】まず、仮の拡散層１０１は、図７（ａ）の
レクタングルデータ３０１の形式で、グリッド１０８上
の頂点１０９と１１０を指定することにより入力され
る。拡散分離層１０２、ポリシリゲート１０３およびア
ルミ層１０５は、図７（ｂ）のパスデータ３０２の形式
で、Ｙ軸方向のパスデータのパスの中心線がグリッド１
０８に重なるように入力する。ただし、拡散分離層１０
２のパスデータのパス幅は、図６の従来例における拡散
層間隔２０８と同じにする。コンタクトホール１０４
も、図７（ｃ）のデータ３０４を、セル中心がグリッド
１０８上に重なるように配置することにより入力でき
る。

【００３０】従って、本実施例による図３のレイアウト
データは、すべての図形の座標指定が、グリッド１０８
上に乗っているので、細かい座標指定の入力作業が不要
である。このことにより、レイアウトデータ入力作業の
能率を上げ、入力ミスを減らす効果がある。

【００３１】

【発明の効果】以上説明したように、本発明は、レイア
ウトデータを入力する際に、すべてのレイアウトデータ
の入力頂点をグリッド上に乗せることができるので、レ
イアウトデータ入力作業の能率を上げ、入力作業上の誤
りを減らすことができる効果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例の要部を示すブロック構成
図。

【図２】その動作を示す流れ図。

【図３】そのレイアウトデータの一例を示すレイアウト
図。

【図４】従来例の要部を示すブロック構成図。

【図５】その動作を示す流れ図。

【図６】そのレイアウトデータの一例を示すレイアウト
図。

【図７】レイアウトデータにおける図形の種類を表す
図。

【符号の説明】

１ 設計データ ２ レイアウトデータ ３ 補助記憶装置 １０、１０ａ レイアウト手段 １１ 仮拡散層図形入力処理手段 １２ 拡散分離層図形入力処理手段 １３ ポリシリゲート図形入力処理手段 １４ アルミ層図形入力処理手段 １５ 拡散コンタクト図形入力処理手段 １６ 真拡散層図形生成処理手段 １０１ 仮の拡散層 １０２ 拡散分離層 １０３、２０２ ポリシリゲート １０４、２０３、３０９ コンタクトホール １０５、２０４、３１１ アルミ層 １０６、２０５ 基本ゲート間隔 １０７、２０６ グリッド間隔 １０８、２０７ グリッド １０９、１１０ 頂点 ２０１、３１０ 拡散層 ２０８ 拡散層間隔 ３０１ レクタングルデータ ３０２ パスデータ ３０３ ポリゴンデータ ３０４ セルデータ ３０５ 座標 ３０６ パス幅 ３０７ パスの中心線 ３０８ セルの原点 ３０９ コンタクトホール ３１０ 拡散層 ３１１ アルミ層

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 設計データを入力しレイアウトデータを
   作成出力するレイアウト手段を備えた集積回路レイアウ
   ト設計装置において、 前記レイアウト手段は、 座標がグリッド上に乗っている仮りの拡散層図形データ
   を入力処理する仮拡散層図形入力処理手段と、 座標がグリッド上に乗っている拡散分離層図形データを
   入力処理する拡散分離層図形入力処理手段と、 前記仮りの拡散層図形データと前記拡散分離層図形デー
   タとの差分データを図形演算処理により求めて真の拡散
   層図形データを生成する真拡散層図形生成処理手段とを
   含むことを特徴とする集積回路レイアウト設計装置。