JPH05142569A - アクテイブマトリクス基板 - Google Patents
アクテイブマトリクス基板Info
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- JPH05142569A JPH05142569A JP30503991A JP30503991A JPH05142569A JP H05142569 A JPH05142569 A JP H05142569A JP 30503991 A JP30503991 A JP 30503991A JP 30503991 A JP30503991 A JP 30503991A JP H05142569 A JPH05142569 A JP H05142569A
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- JP
- Japan
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- short ring
- wiring
- insulating film
- active matrix
- matrix substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ゲート電極配線及びソース電極配線の各配線
間の短絡及び絶縁を確実に、しかも容易に行うことがで
きるようにする。 【構成】 各電極配線１を短絡させるべく形成したくし
型のショートリング３がくし歯３ａにおいてコンタクト
ホール２５を介して各電極配線１と接続されている。シ
ョートリング３の上の絶縁膜２４は、くし歯３ａ部分を
露出させて形成されており、その露出部分を液晶表示装
置作製後に陽極酸化すると露出部分は消失する。このと
き、露出部分はショートリング３の各電極歯との接続部
を含むので、ショートリング３と各電極配線１とが絶縁
される。
間の短絡及び絶縁を確実に、しかも容易に行うことがで
きるようにする。 【構成】 各電極配線１を短絡させるべく形成したくし
型のショートリング３がくし歯３ａにおいてコンタクト
ホール２５を介して各電極配線１と接続されている。シ
ョートリング３の上の絶縁膜２４は、くし歯３ａ部分を
露出させて形成されており、その露出部分を液晶表示装
置作製後に陽極酸化すると露出部分は消失する。このと
き、露出部分はショートリング３の各電極歯との接続部
を含むので、ショートリング３と各電極配線１とが絶縁
される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶表示装置等に用い
られるアクティブマトリクス基板に関する。
られるアクティブマトリクス基板に関する。
【０００２】
【従来の技術】上記液晶表示装置は、アクティブマトリ
クス基板と対向基板とを対向配置し、両基板間に液晶を
封入することにより製造される。そのアクティブマトリ
クス基板は、透明性絶縁性基板上にゲート電極配線、ス
イッチング素子等の非線形素子、ソース電極配線、絵素
電極および配向膜等を形成することにより作製される
が、その作製途中において、図７に示すようにゲート電
極配線４２を形成する際に、既に形成されたソース電極
配線４３と共に接続できるようなパターンでショートリ
ング４１を両電極配線４２と４３の外側に形成して、こ
のショートリング４１により両電極配線４２と４３の総
てを短絡させている。
クス基板と対向基板とを対向配置し、両基板間に液晶を
封入することにより製造される。そのアクティブマトリ
クス基板は、透明性絶縁性基板上にゲート電極配線、ス
イッチング素子等の非線形素子、ソース電極配線、絵素
電極および配向膜等を形成することにより作製される
が、その作製途中において、図７に示すようにゲート電
極配線４２を形成する際に、既に形成されたソース電極
配線４３と共に接続できるようなパターンでショートリ
ング４１を両電極配線４２と４３の外側に形成して、こ
のショートリング４１により両電極配線４２と４３の総
てを短絡させている。
【０００３】このショートリング４１は、次のような理
由により形成している。液晶を封入する前にアクティブ
マトリクス基板上に配線膜を形成し、この配線膜に液晶
を配向させるべくラビング処理を行うが、その処理によ
り生じる静電気が信号入力端子等へ入ると、両電極配線
４２と４３との間等を絶縁するためのゲート絶縁膜等が
破壊され、これにより両電極配線４２と４３の短絡不良
や、両電極配線４２と４３の交差部分に形成されたスイ
ッチング素子の破壊が生じ、液晶表示装置の表示品位が
劣化して不良となるのを防止するために形成している。
由により形成している。液晶を封入する前にアクティブ
マトリクス基板上に配線膜を形成し、この配線膜に液晶
を配向させるべくラビング処理を行うが、その処理によ
り生じる静電気が信号入力端子等へ入ると、両電極配線
４２と４３との間等を絶縁するためのゲート絶縁膜等が
破壊され、これにより両電極配線４２と４３の短絡不良
や、両電極配線４２と４３の交差部分に形成されたスイ
ッチング素子の破壊が生じ、液晶表示装置の表示品位が
劣化して不良となるのを防止するために形成している。
【０００４】このようなアクティブマトリクス基板は、
液晶表示装置に組立てられた場合、組立て後にアクティ
ブマトリクス基板の端部を端縁に沿って切断することに
より、実使用に不要なショートリング４１を基板から分
離している。
液晶表示装置に組立てられた場合、組立て後にアクティ
ブマトリクス基板の端部を端縁に沿って切断することに
より、実使用に不要なショートリング４１を基板から分
離している。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記ア
クティブマトリクス基板上に、スイッチング素子を駆動
するドライバーＩＣを接続するための端子を搭載する、
いわゆるＣＯＧ（Ｃｈｉｐ ｏｎ Ｇｌａｓｓ）構造と
した場合には、図８（ａ）及び（ｂ）に示すようにゲー
ト電極配線５２の端を接続するためのゲート端子５３、
ソース電極配線５１の端を接続するためのソース端子５
５の外側に、ドライバーＩＣを接続するための端子５４
が配置されるため、ショートリングを形成することが困
難となっている。その理由は、仮にドライバーＩＣを接
続するための端子５４の外側にショートリングを形成す
ると、端子５４とゲート端子５３との間、端子５４とソ
ース端子５５との間が離れているため、ゲート電極配線
５１及びソース電極配線５２をショートリングで短絡で
きない。また、端子５４とゲート端子５３との間、端子
５４とソース端子５５との間にショートリングを形成し
た場合には、ゲート電極配線５１及びソース電極配線５
２を短絡できる反面、基板を切断した際にアクティブマ
トリクス基板から端子５４が分離されるからである。
クティブマトリクス基板上に、スイッチング素子を駆動
するドライバーＩＣを接続するための端子を搭載する、
いわゆるＣＯＧ（Ｃｈｉｐ ｏｎ Ｇｌａｓｓ）構造と
した場合には、図８（ａ）及び（ｂ）に示すようにゲー
ト電極配線５２の端を接続するためのゲート端子５３、
ソース電極配線５１の端を接続するためのソース端子５
５の外側に、ドライバーＩＣを接続するための端子５４
が配置されるため、ショートリングを形成することが困
難となっている。その理由は、仮にドライバーＩＣを接
続するための端子５４の外側にショートリングを形成す
ると、端子５４とゲート端子５３との間、端子５４とソ
ース端子５５との間が離れているため、ゲート電極配線
５１及びソース電極配線５２をショートリングで短絡で
きない。また、端子５４とゲート端子５３との間、端子
５４とソース端子５５との間にショートリングを形成し
た場合には、ゲート電極配線５１及びソース電極配線５
２を短絡できる反面、基板を切断した際にアクティブマ
トリクス基板から端子５４が分離されるからである。
【０００６】そこで、本願出願人は上記問題点を解決す
べく図９（ａ）及び（ｂ）に示すようにショートリング
を形成したアクティブマトリクス基板を考えた。この基
板は、先にショートリング６１を形成しておき、その端
部であるショートリング引出し線６５に対し、間に絶縁
膜６３を介してゲート電極配線やソース電極配線等の電
極配線６４の信号入力端子６６を接続し、かつ、ショー
トリング６１の上に前記絶縁膜６３を介装してドライバ
ーＩＣへの入力端子６２を形成した構成をとる。この構
成のアクティブマトリクス基板においては、ドライバー
ＩＣへの入力信号や電極配線６４への入力信号に交流が
使用されるため、ショートリング６１とドライバーＩＣ
への入力端子６２とは、絶縁膜６３を間に挟んだ容量を
介して電気的に接続される。
べく図９（ａ）及び（ｂ）に示すようにショートリング
を形成したアクティブマトリクス基板を考えた。この基
板は、先にショートリング６１を形成しておき、その端
部であるショートリング引出し線６５に対し、間に絶縁
膜６３を介してゲート電極配線やソース電極配線等の電
極配線６４の信号入力端子６６を接続し、かつ、ショー
トリング６１の上に前記絶縁膜６３を介装してドライバ
ーＩＣへの入力端子６２を形成した構成をとる。この構
成のアクティブマトリクス基板においては、ドライバー
ＩＣへの入力信号や電極配線６４への入力信号に交流が
使用されるため、ショートリング６１とドライバーＩＣ
への入力端子６２とは、絶縁膜６３を間に挟んだ容量を
介して電気的に接続される。
【０００７】しかしながら、容量を介して接続されてい
るので、ドライバーＩＣへの信号がゲート電極配線やソ
ース電極配線にノイズとして伝わり、液晶表示装置の表
示品位が著しく低下する虞れがあった。
るので、ドライバーＩＣへの信号がゲート電極配線やソ
ース電極配線にノイズとして伝わり、液晶表示装置の表
示品位が著しく低下する虞れがあった。
【０００８】本発明は、このような従来技術の課題を解
決すべくなされたものであり、ゲート電極配線及びソー
ス電極配線の各配線間の短絡及び絶縁を確実に、しかも
容易に行うことができるアクティブマトリクス基板を提
供することを目的とする。
決すべくなされたものであり、ゲート電極配線及びソー
ス電極配線の各配線間の短絡及び絶縁を確実に、しかも
容易に行うことができるアクティブマトリクス基板を提
供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明のアクティブマト
リクス基板は、基板上に複数のゲート電極配線と複数の
ソース電極配線とが相互に交差する状態で配設され、か
つ各配線の端部の外側に、該端部と接続される端子が形
成されたアクティブマトリクス基板において、該ゲート
電極配線及びソース電極配線の各配線の端部の上側を通
り、かつ、各配線との間の部分に絶縁膜を介装してショ
ートリングが形成されていると共に、該絶縁膜の各配線
の端部と対向する部分に設けたコンタクトホールを介し
て各配線と該ショートリングが電気的に接続され、該シ
ョートリングの各配線との接続部分を少なくとも含む部
分を露出させた状態でショートリングが別の絶縁膜にて
覆われていて、ショートリングの露出部分が陽極酸化に
より消失される被陽極酸化部分となっており、そのこと
により上記目的を達成することができる。
リクス基板は、基板上に複数のゲート電極配線と複数の
ソース電極配線とが相互に交差する状態で配設され、か
つ各配線の端部の外側に、該端部と接続される端子が形
成されたアクティブマトリクス基板において、該ゲート
電極配線及びソース電極配線の各配線の端部の上側を通
り、かつ、各配線との間の部分に絶縁膜を介装してショ
ートリングが形成されていると共に、該絶縁膜の各配線
の端部と対向する部分に設けたコンタクトホールを介し
て各配線と該ショートリングが電気的に接続され、該シ
ョートリングの各配線との接続部分を少なくとも含む部
分を露出させた状態でショートリングが別の絶縁膜にて
覆われていて、ショートリングの露出部分が陽極酸化に
より消失される被陽極酸化部分となっており、そのこと
により上記目的を達成することができる。
【００１０】また、本発明のアクティブマトリクス基板
は、基板上に複数のゲート電極配線と複数のソース電極
配線とが相互に交差する状態で配設され、かつ各配線の
端部の外側に、該端部と接続される端子が形成されたア
クティブマトリクス基板において、該ゲート電極配線及
びソース電極配線の各配線の端部の下側を通り、かつ、
各配線との間に絶縁膜を介装してショートリングが形成
され、該絶縁膜の各配線の端部と対向する部分に設けた
コンタクトホールを介して該ショートリングが各配線と
電気的に接続されていると共に、各接続部をショートリ
ングから孤立状にして絶縁膜部分に陽極酸化孔が開設さ
れ、陽極酸化により該陽極酸化孔に露出したショートリ
ング部分が消失して各接続部が孤立する構成となしてお
り、そのことにより上記目的を達成することができる。
は、基板上に複数のゲート電極配線と複数のソース電極
配線とが相互に交差する状態で配設され、かつ各配線の
端部の外側に、該端部と接続される端子が形成されたア
クティブマトリクス基板において、該ゲート電極配線及
びソース電極配線の各配線の端部の下側を通り、かつ、
各配線との間に絶縁膜を介装してショートリングが形成
され、該絶縁膜の各配線の端部と対向する部分に設けた
コンタクトホールを介して該ショートリングが各配線と
電気的に接続されていると共に、各接続部をショートリ
ングから孤立状にして絶縁膜部分に陽極酸化孔が開設さ
れ、陽極酸化により該陽極酸化孔に露出したショートリ
ング部分が消失して各接続部が孤立する構成となしてお
り、そのことにより上記目的を達成することができる。
【００１１】
【作用】請求項１にあっては、各配線を短絡させるべく
形成したショートリングにおける各配線とコンタクトホ
ールを介して接続された接続部分を少なくとも含んで露
出部分が形成されており、その露出部分を液晶表示装置
作製後に陽極酸化すると露出部分は消失する。このと
き、露出部分は上記接続部分を含むので、ショートリン
グと各配線とが絶縁される。
形成したショートリングにおける各配線とコンタクトホ
ールを介して接続された接続部分を少なくとも含んで露
出部分が形成されており、その露出部分を液晶表示装置
作製後に陽極酸化すると露出部分は消失する。このと
き、露出部分は上記接続部分を含むので、ショートリン
グと各配線とが絶縁される。
【００１２】請求項３にあっては、各配線を短絡させる
べく形成したショートリングにおいて、各配線とコンタ
クトホールを介して接続された接続部分をショートリン
グから孤立させる状態で、絶縁膜に陽極酸化孔が形成さ
れ、その陽極酸化孔から露出しているショートリング部
分を液晶表示装置作製後に陽極酸化すると露出部分は消
失する。このとき、露出部分は、各接続部分をショート
リングから孤立させる状態で形成されているので、陽極
酸化により消失すると各接続部分がショートリングから
孤立して、ショートリングと各配線とが絶縁される。
べく形成したショートリングにおいて、各配線とコンタ
クトホールを介して接続された接続部分をショートリン
グから孤立させる状態で、絶縁膜に陽極酸化孔が形成さ
れ、その陽極酸化孔から露出しているショートリング部
分を液晶表示装置作製後に陽極酸化すると露出部分は消
失する。このとき、露出部分は、各接続部分をショート
リングから孤立させる状態で形成されているので、陽極
酸化により消失すると各接続部分がショートリングから
孤立して、ショートリングと各配線とが絶縁される。
【００１３】
【実施例】以下に本発明を実施例について説明する。
【００１４】（実施例１）図１は本実施例であるＣＯＧ
構造としたアクティブマトリクス基板を示す平面図であ
る。このアクティブマトリクス基板は、ベースとなる基
板２０上に横方向に平行に複数配線したゲート電極配線
１ａ、ゲート電極配線１ａと交差して縦方向に平行に複
数配線したソース電極配線１ｂからなる電極配線１を有
し、その電極配線１の外側に設けた電極配線１の端を接
続するための端子４よりも内側に、電極配線１の３方を
包囲してコ字状にショートリング３が形成され、上記端
子４の外側に図示しないドライバーＩＣと接続するため
の端子２が形成された配置としてある。
構造としたアクティブマトリクス基板を示す平面図であ
る。このアクティブマトリクス基板は、ベースとなる基
板２０上に横方向に平行に複数配線したゲート電極配線
１ａ、ゲート電極配線１ａと交差して縦方向に平行に複
数配線したソース電極配線１ｂからなる電極配線１を有
し、その電極配線１の外側に設けた電極配線１の端を接
続するための端子４よりも内側に、電極配線１の３方を
包囲してコ字状にショートリング３が形成され、上記端
子４の外側に図示しないドライバーＩＣと接続するため
の端子２が形成された配置としてある。
【００１５】図２は上記アクティブマトリクス基板のシ
ョートリング３付近の拡大図であり、図３は図２のＸ−
Ｙ線による断面図である。基板２０上には、上述したよ
うに形成された電極配線１の上を覆い、かつ電極配線１
の上方にコンタクトホール２５を有する絶縁膜２２が形
成され、絶縁膜２２の上にくし型をしたショートリング
３が形成されている。このショートリング３は、これと
交差する電極配線１の長手方向に端縁から延出した複数
のくし歯部３ａを有しており、各くし歯部３ａは電極配
線１の上方に配置され、電極配線１に対して前記コンタ
クトホール２５を介して接続されている。これにより、
各電極配線１の短絡が確保される。
ョートリング３付近の拡大図であり、図３は図２のＸ−
Ｙ線による断面図である。基板２０上には、上述したよ
うに形成された電極配線１の上を覆い、かつ電極配線１
の上方にコンタクトホール２５を有する絶縁膜２２が形
成され、絶縁膜２２の上にくし型をしたショートリング
３が形成されている。このショートリング３は、これと
交差する電極配線１の長手方向に端縁から延出した複数
のくし歯部３ａを有しており、各くし歯部３ａは電極配
線１の上方に配置され、電極配線１に対して前記コンタ
クトホール２５を介して接続されている。これにより、
各電極配線１の短絡が確保される。
【００１６】上記ショートリング３の上には絶縁膜２４
が形成され、この絶縁膜２４によりショートリング３は
前記くし歯部３ａをほぼ残して絶縁膜２４で覆われてお
り、前記コンタクトホール２５を介して電極配線１と接
続されているくし歯部３ａ部分は、むき出しの状態であ
る。
が形成され、この絶縁膜２４によりショートリング３は
前記くし歯部３ａをほぼ残して絶縁膜２４で覆われてお
り、前記コンタクトホール２５を介して電極配線１と接
続されているくし歯部３ａ部分は、むき出しの状態であ
る。
【００１７】このように本実施例のアクティブマトリク
ス基板は作製されている。よって、このアクティブマト
リクス基板を用いて液晶表示装置に組立てた後、全体を
電解液に浸して上述のむき出し状態となっているショー
トリング３のくし歯部３ａ部分を陽極酸化する。このと
き、ショートリング３の前記くし歯部３ａ部分を除く部
分は、酸化膜２４で覆われているため酸化されない。陽
極酸化を行うときに、前記くし歯部３ａを完全に酸化す
ると、ショートリング３と電極配線１との間の導電性は
失われ各電極配線１は短絡状態から絶縁状態になる。な
お、陽極酸化の際に、前記くし歯部３ａの下の電極配線
１部分まで酸化しても、コンタクトホール２５の直径よ
りも電極配線１の幅の方が大きいので、液晶表示装置と
して使用する場合にも支障がない。
ス基板は作製されている。よって、このアクティブマト
リクス基板を用いて液晶表示装置に組立てた後、全体を
電解液に浸して上述のむき出し状態となっているショー
トリング３のくし歯部３ａ部分を陽極酸化する。このと
き、ショートリング３の前記くし歯部３ａ部分を除く部
分は、酸化膜２４で覆われているため酸化されない。陽
極酸化を行うときに、前記くし歯部３ａを完全に酸化す
ると、ショートリング３と電極配線１との間の導電性は
失われ各電極配線１は短絡状態から絶縁状態になる。な
お、陽極酸化の際に、前記くし歯部３ａの下の電極配線
１部分まで酸化しても、コンタクトホール２５の直径よ
りも電極配線１の幅の方が大きいので、液晶表示装置と
して使用する場合にも支障がない。
【００１８】（実施例２）図４は本発明の他の実施例を
示す平面図であり、アクティブマトリクス基板のショー
トリング付近を拡大して示している。ショートリング３
１は、実施例１と同じ場所に配置する。また、図５は図
４のＸ−Ｙ線による断面図であり、図６は図４のＸ´−
Ｙ´線による断面図である。
示す平面図であり、アクティブマトリクス基板のショー
トリング付近を拡大して示している。ショートリング３
１は、実施例１と同じ場所に配置する。また、図５は図
４のＸ−Ｙ線による断面図であり、図６は図４のＸ´−
Ｙ´線による断面図である。
【００１９】本実施例のアクティブマトリクス基板は、
ベースとなる基板３０上にショートリング３１、絶縁膜
３４、電極配線３５および絶縁膜３８をこの順に形成し
て作製される。ショートリング３１は２本の平行なショ
ートリング線３１ａ、３１ｂを、間隔を開けて設けた連
絡片３１ｃにより連絡した梯子状に形成されている。こ
のショートリング３１の一方（図４の左側）のショート
リング線３１ａは、その上の絶縁膜３４に開設されたコ
ンタクトホール３６を介して、絶縁膜３４の上に形成さ
れた電極配線３５と接続されていて、各電極配線３５は
短絡されている。また、この一方のショートリング線３
１ａの上方の絶縁膜３４部分には、陽極酸化孔３７が開
設され、この陽極酸化孔３７からショートリング線３１
ａが露出している。陽極酸化孔３７は、ショートリング
３１のコンタクトホール３６を介して各電極配線３５と
接続された接続部分の両側に形成され、各陽極酸化孔３
７は接続部分から連絡片３１ｃまでの間の位置に配され
ている。
ベースとなる基板３０上にショートリング３１、絶縁膜
３４、電極配線３５および絶縁膜３８をこの順に形成し
て作製される。ショートリング３１は２本の平行なショ
ートリング線３１ａ、３１ｂを、間隔を開けて設けた連
絡片３１ｃにより連絡した梯子状に形成されている。こ
のショートリング３１の一方（図４の左側）のショート
リング線３１ａは、その上の絶縁膜３４に開設されたコ
ンタクトホール３６を介して、絶縁膜３４の上に形成さ
れた電極配線３５と接続されていて、各電極配線３５は
短絡されている。また、この一方のショートリング線３
１ａの上方の絶縁膜３４部分には、陽極酸化孔３７が開
設され、この陽極酸化孔３７からショートリング線３１
ａが露出している。陽極酸化孔３７は、ショートリング
３１のコンタクトホール３６を介して各電極配線３５と
接続された接続部分の両側に形成され、各陽極酸化孔３
７は接続部分から連絡片３１ｃまでの間の位置に配され
ている。
【００２０】他方のショートリング線３１ｂの上には、
間に絶縁膜３４を介して電極配線３５が形成されてお
り、ショートリング線３１ｂと電極配線３５とは絶縁膜
３４により絶縁されている。
間に絶縁膜３４を介して電極配線３５が形成されてお
り、ショートリング線３１ｂと電極配線３５とは絶縁膜
３４により絶縁されている。
【００２１】このように本実施例のアクティブマトリク
ス基板は作製されている。よって、このアクティブマト
リクス基板を用いて液晶表示装置に組立てた後、全体を
電解液に浸し、陽極酸化孔３７から露出しているショー
トリング線３１ａの部分を陽極酸化する。このとき、シ
ョートリング３１の他の部分は、酸化膜３４で覆われて
いるため酸化されない。陽極酸化を行うときに、陽極酸
化孔３７から露出しているショートリング線３１ａの部
分は、完全に酸化させると切断される。この切断される
部分が各陽極酸化孔３７の下に位置し、しかもその各陽
極酸化孔３７が上述したように各電極配線３５との接続
部分から連絡片３１ｃまでの間の位置に配されているの
で、ショートリング３１と電極配線３５との導電性は失
われ、各電極配線３５は短絡状態から絶縁状態に変化す
る。
ス基板は作製されている。よって、このアクティブマト
リクス基板を用いて液晶表示装置に組立てた後、全体を
電解液に浸し、陽極酸化孔３７から露出しているショー
トリング線３１ａの部分を陽極酸化する。このとき、シ
ョートリング３１の他の部分は、酸化膜３４で覆われて
いるため酸化されない。陽極酸化を行うときに、陽極酸
化孔３７から露出しているショートリング線３１ａの部
分は、完全に酸化させると切断される。この切断される
部分が各陽極酸化孔３７の下に位置し、しかもその各陽
極酸化孔３７が上述したように各電極配線３５との接続
部分から連絡片３１ｃまでの間の位置に配されているの
で、ショートリング３１と電極配線３５との導電性は失
われ、各電極配線３５は短絡状態から絶縁状態に変化す
る。
【００２２】
【発明の効果】本発明のショートリングはアクティブマ
トリクス基板がＣＯＧ構造になった場合でも、各ライン
間の短絡及び絶縁を確実にしかも容易に行う事が可能と
なる。従って、アクティブマトリクス基板上の非線形素
子がその製作中に静電気によって破壊させるのを防ぐこ
とが可能となる。
トリクス基板がＣＯＧ構造になった場合でも、各ライン
間の短絡及び絶縁を確実にしかも容易に行う事が可能と
なる。従って、アクティブマトリクス基板上の非線形素
子がその製作中に静電気によって破壊させるのを防ぐこ
とが可能となる。
【図１】本実施例のアクティブマトリクス基板を示す平
面図である。
面図である。
【図２】その基板に備わったショートリングを拡大して
示す平面図である。
示す平面図である。
【図３】図２のＸ−Ｙの線分に沿った断面図である。
【図４】本発明の他の実施例を示す平面図である。
【図５】図４のＸ−Ｙの線分に沿った断面図である。
【図６】図４のＸ’−Ｙ’の線分に沿った断面図であ
る。
る。
【図７】従来のアクティブマトリクス基板を示す平面図
である。
である。
【図８】（ａ）はＣＯＧ構造をしたアクティブマトリク
ス基板を示す平面図、（ｂ）はその部分拡大図である。
ス基板を示す平面図、（ｂ）はその部分拡大図である。
【図９】（ａ）は本願出願人が先に提案したアクティブ
マトリクス基板を示す断面図、（ｂ）はその平面図であ
る。
マトリクス基板を示す断面図、（ｂ）はその平面図であ
る。
１ 電極配線 １ａ ゲート電極配線 １ｂ ソース電極配線 ２ 端子 ３ ショートリング ３ａ くし歯 ４ 端子 ２２ 絶縁膜 ２４ 絶縁膜 ２５ コンタクトホール ３０ 基板 ３１ ショートリング ３１ａ ショートリング線 ３１ｂ ショートリング線 ３１ｃ 連絡片 ３４ 絶縁膜 ３５ 電極配線 ３６ コンタクトホール ３７ 陽極酸化孔
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 27/12 Ａ 8728−4Ｍ 29/784
Claims (4)
- 【請求項１】基板上に複数のゲート電極配線と複数のソ
ース電極配線とが相互に交差する状態で配設され、かつ
各配線の端部の外側に、該端部と接続される端子が形成
されたアクティブマトリクス基板において、 該ゲート電極配線及びソース電極配線の各配線の端部の
上側を通り、かつ、各配線との間の部分に絶縁膜を介装
してショートリングが形成されていると共に、該絶縁膜
の各配線の端部と対向する部分に設けたコンタクトホー
ルを介して各配線と該ショートリングが電気的に接続さ
れ、該ショートリングの各配線との接続部分を少なくと
も含む部分を露出させた状態でショートリングが別の絶
縁膜にて覆われていて、ショートリングの露出部分が陽
極酸化により消失される被陽極酸化部分となっているア
クティブマトリクス基板。 - 【請求項２】前記ショートリングがくし型に形成され、
くし歯に相当するショートリング部分が前記各配線の上
に存在し、かつ被陽極酸化部分として露出された請求項
１記載のアクティブマトリクス基板。 - 【請求項３】基板上に複数のゲート電極配線と複数のソ
ース電極配線とが相互に交差する状態で配設され、かつ
各配線の端部の外側に、該端部と接続される端子が形成
されたアクティブマトリクス基板において、 該ゲート電極配線及びソース電極配線の各配線の端部の
下側を通り、かつ、各配線との間に絶縁膜を介装してシ
ョートリングが形成され、該絶縁膜の各配線の端部と対
向する部分に設けたコンタクトホールを介して該ショー
トリングが各配線と電気的に接続されていると共に、各
接続部をショートリングから孤立状にして絶縁膜部分に
陽極酸化孔が開設され、陽極酸化により該陽極酸化孔に
露出したショートリング部分が消失して各接続部が孤立
する構成となしたアクティブマトリクス基板。 - 【請求項４】前記ショートリングが平行な２本のショー
トリング線の間に間隔を開けて設けた連絡片にて連絡さ
れた梯子型に形成され、該ショートリング線の一方にお
ける隣合う連絡片の間の部分が各配線の下に存在し、か
つ、該部分に設けたコンタクトホールを介して各配線と
接続され、コンタクトホールを介して各配線と接続され
たショートリング部分から、その両側にある各連絡片ま
での間の２箇所に相当する絶縁膜部分に前記陽極酸化用
孔が設けられた請求項３記載のアクティブマトリクス基
板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30503991A JPH05142569A (ja) | 1991-11-20 | 1991-11-20 | アクテイブマトリクス基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30503991A JPH05142569A (ja) | 1991-11-20 | 1991-11-20 | アクテイブマトリクス基板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05142569A true JPH05142569A (ja) | 1993-06-11 |
Family
ID=17940370
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30503991A Withdrawn JPH05142569A (ja) | 1991-11-20 | 1991-11-20 | アクテイブマトリクス基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05142569A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3823084A1 (de) * | 1987-07-07 | 1989-01-19 | Hiroshi Teramachi | Kugelgleitlager und verfahren zu seiner herstellung |
| JPH09251169A (ja) * | 1996-03-15 | 1997-09-22 | Toshiba Corp | 表示装置、アクティブマトリクス型表示装置およびその製造方法 |
| DE4222803C2 (de) * | 1991-07-12 | 2003-04-10 | Nippon Thompson Co Ltd | Kugelgelenklagereinheit mit mehrschichtiger Gleitbüchse und Verfahren zu ihrer Herstellung |
-
1991
- 1991-11-20 JP JP30503991A patent/JPH05142569A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3823084A1 (de) * | 1987-07-07 | 1989-01-19 | Hiroshi Teramachi | Kugelgleitlager und verfahren zu seiner herstellung |
| DE4222803C2 (de) * | 1991-07-12 | 2003-04-10 | Nippon Thompson Co Ltd | Kugelgelenklagereinheit mit mehrschichtiger Gleitbüchse und Verfahren zu ihrer Herstellung |
| JPH09251169A (ja) * | 1996-03-15 | 1997-09-22 | Toshiba Corp | 表示装置、アクティブマトリクス型表示装置およびその製造方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990204 |