JPH05140316A - シロキサン類の精製方法 - Google Patents
シロキサン類の精製方法Info
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- JPH05140316A JPH05140316A JP33428091A JP33428091A JPH05140316A JP H05140316 A JPH05140316 A JP H05140316A JP 33428091 A JP33428091 A JP 33428091A JP 33428091 A JP33428091 A JP 33428091A JP H05140316 A JPH05140316 A JP H05140316A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/32—Post-polymerisation treatment
- C08G77/34—Purification
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- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 シロキサン類から簡単かつ確実に、しかも経
済的有利にクロル化合物等の不純物を除去し、無臭化
し、或いは低分子シロキサンを除去する。 【構成】 精製すべきシロキサン類に水蒸気を接触さ
せ、該シロキサン類中に存在する除去すべき不純物を水
蒸気とともに溜出させ、該シロキサン類から分離するこ
とにより、シロキサン類を精製する。
済的有利にクロル化合物等の不純物を除去し、無臭化
し、或いは低分子シロキサンを除去する。 【構成】 精製すべきシロキサン類に水蒸気を接触さ
せ、該シロキサン類中に存在する除去すべき不純物を水
蒸気とともに溜出させ、該シロキサン類から分離するこ
とにより、シロキサン類を精製する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はシロキサン類の精製方法
に関し、特にクロル化合物等の不純物の除去、無臭化、
或いは低分子シロキサンの除去を経済的に有利に実現で
きる新規なシロキサン類の精製方法に関する。
に関し、特にクロル化合物等の不純物の除去、無臭化、
或いは低分子シロキサンの除去を経済的に有利に実現で
きる新規なシロキサン類の精製方法に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】一般
に、オルガノポリシロキサンの製造方法としては、ジメ
チルジクロルシランを加水分解したもの、或いは更にこ
の加水分解物を水酸化カリウム等のアルカリ触媒下でク
ラッキングした環状シロキサンオリゴマーを主成分とす
るシロキサン類を原料として用いる。ここで、このシロ
キサン類中には臭いのもととなるヘキサン、ヘキセンの
ような炭化水素が残ることが多い。このような炭化水素
による臭気は、特にヘアケア、メーキャップ等の化粧料
のような臭気が問題となる用途にシロキサン類を配合す
る場合に問題となり、これらの炭化水素をオンラインで
簡単に除去できる方法が従来より強く望まれている。
に、オルガノポリシロキサンの製造方法としては、ジメ
チルジクロルシランを加水分解したもの、或いは更にこ
の加水分解物を水酸化カリウム等のアルカリ触媒下でク
ラッキングした環状シロキサンオリゴマーを主成分とす
るシロキサン類を原料として用いる。ここで、このシロ
キサン類中には臭いのもととなるヘキサン、ヘキセンの
ような炭化水素が残ることが多い。このような炭化水素
による臭気は、特にヘアケア、メーキャップ等の化粧料
のような臭気が問題となる用途にシロキサン類を配合す
る場合に問題となり、これらの炭化水素をオンラインで
簡単に除去できる方法が従来より強く望まれている。
【０００３】また、これらの原料を更に水酸化カリウム
等のアルカリ触媒で重合させ、所望の重合度を達成した
後にメチルトリクロロシラン等の酸供与体を中和剤とし
て添加してアルカリ触媒を失活させる。通常、更に低分
子シロキサンを減圧ストリッピング等の方法により除去
する。これらの除去されたシロキサン類は、再び原料と
してアルカリ触媒による重合に用いられる場合が多い
が、その際、上記の中和剤の過剰分の混入が必ずあり、
これらを除去しないとアルカリ触媒を中和してしまい、
実際上、種々の不都合が生じる。従って、これらの不純
物を簡単にオンラインで除去できる方法が経済的にもプ
ロセス的にも強く望まれている。
等のアルカリ触媒で重合させ、所望の重合度を達成した
後にメチルトリクロロシラン等の酸供与体を中和剤とし
て添加してアルカリ触媒を失活させる。通常、更に低分
子シロキサンを減圧ストリッピング等の方法により除去
する。これらの除去されたシロキサン類は、再び原料と
してアルカリ触媒による重合に用いられる場合が多い
が、その際、上記の中和剤の過剰分の混入が必ずあり、
これらを除去しないとアルカリ触媒を中和してしまい、
実際上、種々の不都合が生じる。従って、これらの不純
物を簡単にオンラインで除去できる方法が経済的にもプ
ロセス的にも強く望まれている。
【０００４】更に、上述のアルカリ重合触媒として、第
四級水酸化ホスホニウム或いは第四級水酸化アンモニウ
ム等の触媒を用いた場合、触媒を熱分解することによ
り、それぞれトリｎ−ブチルホスフィンオキサイド等の
リン化合物、トリメチルアミン等の窒素化合物が生成す
るが、これらが臭いの原因となる。これらについても上
述の炭化水素と同様、その除去方法が従来より強く望ま
れている。
四級水酸化ホスホニウム或いは第四級水酸化アンモニウ
ム等の触媒を用いた場合、触媒を熱分解することによ
り、それぞれトリｎ−ブチルホスフィンオキサイド等の
リン化合物、トリメチルアミン等の窒素化合物が生成す
るが、これらが臭いの原因となる。これらについても上
述の炭化水素と同様、その除去方法が従来より強く望ま
れている。
【０００５】なおまた、低分子シロキサン、例えば下記
式（１）で示される環状シロキサンやこれらの混合物、
下記式（２）で示される直鎖状シロキサンやこれらの混
合物も、特に接点障害等が問題となる電気・電子用途等
の特殊な分野などにおいては、これらの低分子シロキサ
ンの存在によりシロキサン全体の所望の物性を低下させ
ることがあり、そのため、高分子シロキサンからこれら
の低分子シロキサンを除去することが要望される。
式（１）で示される環状シロキサンやこれらの混合物、
下記式（２）で示される直鎖状シロキサンやこれらの混
合物も、特に接点障害等が問題となる電気・電子用途等
の特殊な分野などにおいては、これらの低分子シロキサ
ンの存在によりシロキサン全体の所望の物性を低下させ
ることがあり、そのため、高分子シロキサンからこれら
の低分子シロキサンを除去することが要望される。
【０００６】
【化１】 （但し、Ｒ1はアルキル基、シクロアルキル基、アルケ
ニル基、アリール基、アルカリル基、アラルキル基、ハ
ロゲン化アルキル基、ハロゲン化アリール基などの非置
換又は未置換の一価炭化水素基、ｎは３〜２０の整数を
示す。なお、各Ｒ1基は互に同一であっても異なってい
てもよい。）
ニル基、アリール基、アルカリル基、アラルキル基、ハ
ロゲン化アルキル基、ハロゲン化アリール基などの非置
換又は未置換の一価炭化水素基、ｎは３〜２０の整数を
示す。なお、各Ｒ1基は互に同一であっても異なってい
てもよい。）
【０００７】
【化２】 （但し、Ｒ2はＲ1と同様の基或いはアミノ基やメルカプ
ト基を有する基などの一価の有機基、Ｒ3はＲ2と同様の
基又は水酸基、アルコキシ基、ハロゲン原子などの基、
ｍは０〜１８の整数を示す。なお、各Ｒ2基、Ｒ3基はそ
れぞれ互に同一であっても異なっていてもよい）。
ト基を有する基などの一価の有機基、Ｒ3はＲ2と同様の
基又は水酸基、アルコキシ基、ハロゲン原子などの基、
ｍは０〜１８の整数を示す。なお、各Ｒ2基、Ｒ3基はそ
れぞれ互に同一であっても異なっていてもよい）。
【０００８】従来、上述したような不純物をシロキサン
類から除去し、シロキサン類を精製する方法としては、
下記の方法が知られている。
類から除去し、シロキサン類を精製する方法としては、
下記の方法が知られている。
【０００９】まず、シロキサン類からのクロル化合物等
の不純物の除去、およびシロキサン類の無臭化の技術と
しては、下記（イ）〜（ハ）の方法がある。
の不純物の除去、およびシロキサン類の無臭化の技術と
しては、下記（イ）〜（ハ）の方法がある。
【００１０】（イ）シロキサン類を機械的撹拌機を備え
た容器に入れた後、この容器にシロキサン類に対して概
ね１０％以上の水を添加し、所定の温度で一定時間、撹
拌混合を行う。所定の撹拌混合を終了した後、一定時
間、撹拌混合を止め、シロキサン類と水とを液液分離さ
せる。この際、分離を十分に行わせるため、イソプロピ
ルアルコール等の低級アルコールなどを添加することも
ある。その後、水層の液体をこの容器から分離する。こ
の操作を一回以上繰り返して所望のシロキサン類の精製
を行う。
た容器に入れた後、この容器にシロキサン類に対して概
ね１０％以上の水を添加し、所定の温度で一定時間、撹
拌混合を行う。所定の撹拌混合を終了した後、一定時
間、撹拌混合を止め、シロキサン類と水とを液液分離さ
せる。この際、分離を十分に行わせるため、イソプロピ
ルアルコール等の低級アルコールなどを添加することも
ある。その後、水層の液体をこの容器から分離する。こ
の操作を一回以上繰り返して所望のシロキサン類の精製
を行う。
【００１１】しかしながら、この（イ）の先行技術によ
る精製方法においては、水を大量に使用しており、水層
の液体とシロキサン類の分離を完全に行わせることは実
際上極めて困難であり、結果として分離不完全によりシ
ロキサン類の収率の低下を生じるという問題がある。し
かも、このように水を大量に使用するため廃水負荷が大
きく、環境上も極めて不利である。また、その処理能力
が小さいことから、通常数回の処理を行わなければなら
ず、生産性の低下を生じるという問題もある。更に他の
問題としては、シロキサンからの水の分離に長時間を必
要とすることである。シロキサン類の性状、スケール等
にもよるが、通常、分離を所望のレベルまで達成させる
ためには１時間以上の時間を必要とし、更に完全な分離
を実現することは実際上極めて困難であり、真空ストリ
ッピング等の他の方法による水の除去が必要となる。
る精製方法においては、水を大量に使用しており、水層
の液体とシロキサン類の分離を完全に行わせることは実
際上極めて困難であり、結果として分離不完全によりシ
ロキサン類の収率の低下を生じるという問題がある。し
かも、このように水を大量に使用するため廃水負荷が大
きく、環境上も極めて不利である。また、その処理能力
が小さいことから、通常数回の処理を行わなければなら
ず、生産性の低下を生じるという問題もある。更に他の
問題としては、シロキサンからの水の分離に長時間を必
要とすることである。シロキサン類の性状、スケール等
にもよるが、通常、分離を所望のレベルまで達成させる
ためには１時間以上の時間を必要とし、更に完全な分離
を実現することは実際上極めて困難であり、真空ストリ
ッピング等の他の方法による水の除去が必要となる。
【００１２】従って、この（イ）の先行技術による方法
ではプロセス面、生産面、環境面等の点において経済的
に極めて不利である。
ではプロセス面、生産面、環境面等の点において経済的
に極めて不利である。
【００１３】（ロ）シロキサン類を容器に入れた後、こ
のシロキサン類に対して数パーセントの木炭等の吸着剤
を添加し、所定温度で一定時間、撹拌混合を行う。その
後、使用した吸着剤をシロキサン類から分離・除去す
る、或いはこの処理を固定床を用いて連続的に行う（例
えば特公平３−１９２３７号公報）。
のシロキサン類に対して数パーセントの木炭等の吸着剤
を添加し、所定温度で一定時間、撹拌混合を行う。その
後、使用した吸着剤をシロキサン類から分離・除去す
る、或いはこの処理を固定床を用いて連続的に行う（例
えば特公平３−１９２３７号公報）。
【００１４】しかしながら、この（ロ）の先行技術によ
る方法においては、吸着剤の除去を目的とする濾過工程
の負荷が大きく、また吸着剤の処理能力の経時低下によ
りメンテナンス負荷が大きく、更には高粘度のシロキサ
ン類の精製に対しては吸着剤とシロキサン類の分離にと
もなう圧力損失が大きく、結果として処理速度が低下す
る。このようにこの先行技術による方法では、生産面、
経済面等の点において不利である。
る方法においては、吸着剤の除去を目的とする濾過工程
の負荷が大きく、また吸着剤の処理能力の経時低下によ
りメンテナンス負荷が大きく、更には高粘度のシロキサ
ン類の精製に対しては吸着剤とシロキサン類の分離にと
もなう圧力損失が大きく、結果として処理速度が低下す
る。このようにこの先行技術による方法では、生産面、
経済面等の点において不利である。
【００１５】（ハ）シロキサン類を減圧可能な容器に入
れた後、系内を真空ポンプにより減圧し、必要に応じて
加熱する。所定温度で一定時間、真空蒸留を行う。
れた後、系内を真空ポンプにより減圧し、必要に応じて
加熱する。所定温度で一定時間、真空蒸留を行う。
【００１６】しかしながら、この（ハ）の先行技術によ
る方法においては、臭いのもととなる微量の不純物を除
去するために長時間を必要とするという問題がある。即
ち、一般に臭いの発生原因となる不純物の量は極めて微
量であり、これを除去するためには多大なエネルギーを
必要とし、蒸留負荷が大きいとともに、シロキサンロス
も大きい。その結果、長時間の真空蒸留の継続によりシ
ロキサン類の酸化、或いは分解・変質等を招き、品質低
下が発生する。従って、この（ハ）の先行技術による方
法でシロキサン類の精製を行うことは経済面、品質面等
の点において極めて不利である。
る方法においては、臭いのもととなる微量の不純物を除
去するために長時間を必要とするという問題がある。即
ち、一般に臭いの発生原因となる不純物の量は極めて微
量であり、これを除去するためには多大なエネルギーを
必要とし、蒸留負荷が大きいとともに、シロキサンロス
も大きい。その結果、長時間の真空蒸留の継続によりシ
ロキサン類の酸化、或いは分解・変質等を招き、品質低
下が発生する。従って、この（ハ）の先行技術による方
法でシロキサン類の精製を行うことは経済面、品質面等
の点において極めて不利である。
【００１７】一方、シロキサン類からの低分子シロキサ
ンの除去に関する技術としては、下記（ニ）、（ホ）の
方法がある。
ンの除去に関する技術としては、下記（ニ）、（ホ）の
方法がある。
【００１８】（ニ）シロキサン類を機械的撹拌機を備え
た容器に入れた後、この容器にシロキサン類に対して所
定量の溶媒（アセトン、低級アルコール等）を添加し、
所定の温度で一定時間、撹拌混合を行う。所定の撹拌混
合を終了した後、一定時間、撹拌混合を止め、シロキサ
ン類と溶媒を液液分離させる。その後、溶媒層の液体を
この容器から分離する。この操作を一回以上繰り返して
所望のシロキサン類の精製を行う。
た容器に入れた後、この容器にシロキサン類に対して所
定量の溶媒（アセトン、低級アルコール等）を添加し、
所定の温度で一定時間、撹拌混合を行う。所定の撹拌混
合を終了した後、一定時間、撹拌混合を止め、シロキサ
ン類と溶媒を液液分離させる。その後、溶媒層の液体を
この容器から分離する。この操作を一回以上繰り返して
所望のシロキサン類の精製を行う。
【００１９】しかしながら、この（ニ）の先行技術によ
る精製方法においては、溶媒を大量に使わねばならない
ことから、シロキサン類の収率の低下を生じるととも
に、作業上も好ましくないという問題がある。また、そ
の処理能力が小さいことから、通常数回の処理を行わな
ければならず、結果として生産性の低下を生じるという
問題がある。更に他の問題としては、シロキサンからの
溶媒の分離に長時間を必要とすることである。シロキサ
ン類の性状、スケール等にもよるが、通常、分離するた
めには１時間以上の時間を必要とし、更に完全な分離を
実現することは実際上極めて困難であり、真空ストリッ
ピング等の他の方法による溶媒の分離が必要となる。し
かも、溶媒を大量に使用するため溶媒処理負荷が大き
く、経済的にも極めて不利である。
る精製方法においては、溶媒を大量に使わねばならない
ことから、シロキサン類の収率の低下を生じるととも
に、作業上も好ましくないという問題がある。また、そ
の処理能力が小さいことから、通常数回の処理を行わな
ければならず、結果として生産性の低下を生じるという
問題がある。更に他の問題としては、シロキサンからの
溶媒の分離に長時間を必要とすることである。シロキサ
ン類の性状、スケール等にもよるが、通常、分離するた
めには１時間以上の時間を必要とし、更に完全な分離を
実現することは実際上極めて困難であり、真空ストリッ
ピング等の他の方法による溶媒の分離が必要となる。し
かも、溶媒を大量に使用するため溶媒処理負荷が大き
く、経済的にも極めて不利である。
【００２０】従って、この（ニ）の先行技術による方法
では、プロセス面、生産面、環境面等の観点において経
済的に極めて不利である。
では、プロセス面、生産面、環境面等の観点において経
済的に極めて不利である。
【００２１】（ホ）シロキサン類を減圧可能な容器に入
れた後、系内を真空ポンプにより減圧し、必要に応じて
加熱する。所定温度で一定時間、真空蒸留を行う。
れた後、系内を真空ポンプにより減圧し、必要に応じて
加熱する。所定温度で一定時間、真空蒸留を行う。
【００２２】しかしながら、この（ホ）先行技術による
方法においては、低分子シロキサン量を所望のレベル以
下まで低下させるために通常長時間を必要とするという
問題がある。その結果、多大なエネルギーを必要とし、
蒸留負荷が大きいとともに、シロキサンロスも大きい。
更に他の問題としては、長時間の真空蒸留の継続により
シロキサン類の酸化、或いは分解・変質等を招き、品質
低下を発生する。このようにこの（ホ）の先行技術によ
る方法で低分子シロキサンを除去し、シロキサン類の精
製を行うことは、経済的、品質的に極めて不利である。
方法においては、低分子シロキサン量を所望のレベル以
下まで低下させるために通常長時間を必要とするという
問題がある。その結果、多大なエネルギーを必要とし、
蒸留負荷が大きいとともに、シロキサンロスも大きい。
更に他の問題としては、長時間の真空蒸留の継続により
シロキサン類の酸化、或いは分解・変質等を招き、品質
低下を発生する。このようにこの（ホ）の先行技術によ
る方法で低分子シロキサンを除去し、シロキサン類の精
製を行うことは、経済的、品質的に極めて不利である。
【００２３】従って、エチレンクロルヒドリン，塩酸，
メチルトリクロロシラン等のクロル化合物や燐酸、カル
ボン酸等の酸類、ヘキサン，ヘキセン等の炭化水素類、
トリｎ−ブチルホスフィンオキサイド，トリクレジルホ
スフェート等のリン化合物やトリメチルアミン、トリエ
チルアミン，トリプロピルアミン等の窒素化合物などの
不純物、更に上記式（１），（２）で示されるような低
分子シロキサンをシロキサン類から簡単な操作で効率よ
く経済的にかつ確実に除去し、シロキサン類を精製、不
臭化する方法が求められている。
メチルトリクロロシラン等のクロル化合物や燐酸、カル
ボン酸等の酸類、ヘキサン，ヘキセン等の炭化水素類、
トリｎ−ブチルホスフィンオキサイド，トリクレジルホ
スフェート等のリン化合物やトリメチルアミン、トリエ
チルアミン，トリプロピルアミン等の窒素化合物などの
不純物、更に上記式（１），（２）で示されるような低
分子シロキサンをシロキサン類から簡単な操作で効率よ
く経済的にかつ確実に除去し、シロキサン類を精製、不
臭化する方法が求められている。
【００２４】
【課題を解決するための手段及び作用】本発明者は上記
要望に応えるため鋭意検討を行った結果、精製すべきシ
ロキサン類に対し水蒸気を接触させることにより、該シ
ロキサン類中に存在する除去すべき不純物や低分子シロ
キサンが水蒸気とともに溜出し、シロキサン類から分離
すること、これにより複雑な工程を必要とせず、シロキ
サン類からクロル化合物などの不純物が除去され、シロ
キサン類が無臭化すると共に、高分子シロキサンから低
分子シロキサンが除去され、シロキサン類の精製が経済
的に有利に実現されることを知見し、本発明をなすに至
ったものである。
要望に応えるため鋭意検討を行った結果、精製すべきシ
ロキサン類に対し水蒸気を接触させることにより、該シ
ロキサン類中に存在する除去すべき不純物や低分子シロ
キサンが水蒸気とともに溜出し、シロキサン類から分離
すること、これにより複雑な工程を必要とせず、シロキ
サン類からクロル化合物などの不純物が除去され、シロ
キサン類が無臭化すると共に、高分子シロキサンから低
分子シロキサンが除去され、シロキサン類の精製が経済
的に有利に実現されることを知見し、本発明をなすに至
ったものである。
【００２５】なお、従来からも一般に水蒸気蒸留により
不純物を除去できることは良く知られているが、それら
はシロキサン類以外の流体に関するものであって、本発
明において対象としている上記に示すごとき不純物を上
記のシロキサン類から除去することに関する技術の記
述、更に目的の記載については本発明者の知る限りにお
いては認められない。更に上記の不純物の除去に関し
て、本発明のような設備的負荷も軽く、更に容易にプロ
セスに導入できる方法についての具体的記載も同様に認
められない。従って、本発明の技術確立は合理的なシロ
キサン製造プロセスの開発にとって極めて意義が大きい
ものである。
不純物を除去できることは良く知られているが、それら
はシロキサン類以外の流体に関するものであって、本発
明において対象としている上記に示すごとき不純物を上
記のシロキサン類から除去することに関する技術の記
述、更に目的の記載については本発明者の知る限りにお
いては認められない。更に上記の不純物の除去に関し
て、本発明のような設備的負荷も軽く、更に容易にプロ
セスに導入できる方法についての具体的記載も同様に認
められない。従って、本発明の技術確立は合理的なシロ
キサン製造プロセスの開発にとって極めて意義が大きい
ものである。
【００２６】以下、本発明につき更に詳しく説明する
と、本発明のシロキサン類の精製方法は、精製すべきシ
ロキサン類に水蒸気を接触させ、除去すべき不純物を水
蒸気とともに留去させ、溜出した不純物を上記シロキサ
ン類から除去するものである。
と、本発明のシロキサン類の精製方法は、精製すべきシ
ロキサン類に水蒸気を接触させ、除去すべき不純物を水
蒸気とともに留去させ、溜出した不純物を上記シロキサ
ン類から除去するものである。
【００２７】ここで、精製されるべきシロキサン類は、
一般に水蒸気（又は水）との接触により物性劣化が生じ
ないシロキサン流体であればいずれのものでもよく、例
えば下記式（３）で示される環状シロキサン、下記式
（４）で示される線状シロキサン、これらの混合物など
が挙げられる。
一般に水蒸気（又は水）との接触により物性劣化が生じ
ないシロキサン流体であればいずれのものでもよく、例
えば下記式（３）で示される環状シロキサン、下記式
（４）で示される線状シロキサン、これらの混合物など
が挙げられる。
【００２８】
【化３】 （但し、Ｒ1はアルキル基、シクロアルキル基、アルケ
ニル基、アリール基、アルカリル基、アラルキル基、ハ
ロゲン化アルキル基、ハロゲン化アリール基などの非置
換又は未置換の一価炭化水素基、ｎは３〜２０の整数を
示す。なお、各Ｒ1基は互に同一であっても異なってい
てもよい。）
ニル基、アリール基、アルカリル基、アラルキル基、ハ
ロゲン化アルキル基、ハロゲン化アリール基などの非置
換又は未置換の一価炭化水素基、ｎは３〜２０の整数を
示す。なお、各Ｒ1基は互に同一であっても異なってい
てもよい。）
【００２９】
【化４】 （但し、Ｒ2はＲ1と同様の基或いはアミノ基やメルカプ
ト基を有する基などの一価の有機基、Ｒ3はＲ2と同様の
基又は水酸基、アルコキシ基、ハロゲン原子などの基、
ｙは０以上の整数を示す。なお、各Ｒ2基、Ｒ3基はそれ
ぞれ互に同一であっても異なっていてもよい）。
ト基を有する基などの一価の有機基、Ｒ3はＲ2と同様の
基又は水酸基、アルコキシ基、ハロゲン原子などの基、
ｙは０以上の整数を示す。なお、各Ｒ2基、Ｒ3基はそれ
ぞれ互に同一であっても異なっていてもよい）。
【００３０】本発明においては、上記シロキサン類を水
蒸気と接触させるものであるが、水蒸気を接触させる方
法としては、シロキサン類中へ９５℃以上の温度で水蒸
気を導入する方法、シロキサン類に水を加え、撹拌下で
加熱し、水蒸気を発生させる方法などを採用し得る。
蒸気と接触させるものであるが、水蒸気を接触させる方
法としては、シロキサン類中へ９５℃以上の温度で水蒸
気を導入する方法、シロキサン類に水を加え、撹拌下で
加熱し、水蒸気を発生させる方法などを採用し得る。
【００３１】この水蒸気接触方法につき更に説明する
と、まず上記シロキサン類を容器、好ましくは機械的撹
拌機を備えた減圧可能な容器に入れる。次いで、適当な
温度、圧力に保持した後に、このシロキサン類に水蒸気
（又は水）を導入するもので、これにより、上記の不純
物を水蒸気（又は水）と同伴させてシロキサン類から効
率よく除去できるものである。
と、まず上記シロキサン類を容器、好ましくは機械的撹
拌機を備えた減圧可能な容器に入れる。次いで、適当な
温度、圧力に保持した後に、このシロキサン類に水蒸気
（又は水）を導入するもので、これにより、上記の不純
物を水蒸気（又は水）と同伴させてシロキサン類から効
率よく除去できるものである。
【００３２】ここで、上記の温度、圧力及び水蒸気量な
どについては所望とする不純物除去効果により決定さ
れ、一義的なものではない。
どについては所望とする不純物除去効果により決定さ
れ、一義的なものではない。
【００３３】即ち、上記の温度は圧力との関係により決
定される。この場合、導入した水蒸気（又は水）が十分
に蒸発できる状態が好ましい。例として圧力を７６０ｍ
ｍＨｇに保持するならば、温度は１００℃以上であるこ
とが好ましい。また、不純物除去の速度を大きくするた
めには、温度を高くするとともに圧力を小さくし、減圧
下で行えばよい。
定される。この場合、導入した水蒸気（又は水）が十分
に蒸発できる状態が好ましい。例として圧力を７６０ｍ
ｍＨｇに保持するならば、温度は１００℃以上であるこ
とが好ましい。また、不純物除去の速度を大きくするた
めには、温度を高くするとともに圧力を小さくし、減圧
下で行えばよい。
【００３４】シロキサン類に導入する水蒸気（又は水）
の量については、通常シロキサン類に対し０．１〜１０
重量％／時間の範囲であるが、一般に不純物除去の速度
を大きくするためには上記範囲で大きくすればよい。
の量については、通常シロキサン類に対し０．１〜１０
重量％／時間の範囲であるが、一般に不純物除去の速度
を大きくするためには上記範囲で大きくすればよい。
【００３５】なお、この水蒸気接触方法により、上述し
たクロル化合物、酸類、炭化水素類、リン化合物、窒素
化合物などの不純物は水蒸気とともに溜出するが、更に
上記式（３）の環状シロキサンにおいてｘ＝３〜２０の
シロキサン、即ち式（１）の低分子環状シロキサン、及
び、上記式（４）の線状シロキサンにおいてｙ＝０〜１
８のシロキサン、即ち式（２）の低分子シロキサンも水
蒸気と一緒に留去される。
たクロル化合物、酸類、炭化水素類、リン化合物、窒素
化合物などの不純物は水蒸気とともに溜出するが、更に
上記式（３）の環状シロキサンにおいてｘ＝３〜２０の
シロキサン、即ち式（１）の低分子環状シロキサン、及
び、上記式（４）の線状シロキサンにおいてｙ＝０〜１
８のシロキサン、即ち式（２）の低分子シロキサンも水
蒸気と一緒に留去される。
【００３６】従って、上記の不純物として低分子シロキ
サン以外の不純物を除去する場合には、収率の低下を防
止するために、水蒸気（又は水）、不純物とともに溜出
する低分子シロキサンは水冷コンデンサ、還流ラインを
設置するなどして他の不純物と分離し、系内に戻すこと
が好ましい。一方、不純物として低分子シロキサンを高
分子シロキサンから除去する場合には、溜出物は全て除
去し、系内に戻す必要はない。
サン以外の不純物を除去する場合には、収率の低下を防
止するために、水蒸気（又は水）、不純物とともに溜出
する低分子シロキサンは水冷コンデンサ、還流ラインを
設置するなどして他の不純物と分離し、系内に戻すこと
が好ましい。一方、不純物として低分子シロキサンを高
分子シロキサンから除去する場合には、溜出物は全て除
去し、系内に戻す必要はない。
【００３７】なおまた、上述した水蒸気の接触に当って
は、窒素ガス等の不活性気体を同伴させながら行うこと
が、酸化等によるシロキサン物性の劣化防止、系内の不
活性雰囲気の維持による安全確保及び蒸発表面積の増大
による効率アップなどの点から推奨される。
は、窒素ガス等の不活性気体を同伴させながら行うこと
が、酸化等によるシロキサン物性の劣化防止、系内の不
活性雰囲気の維持による安全確保及び蒸発表面積の増大
による効率アップなどの点から推奨される。
【００３８】水蒸気接触後は、通常、系内に微量残留し
ている水を真空乾燥等の一般の脱水技術により除去する
ことが好ましく、以上のような方法により、所望のシロ
キサン類の精製を行うことができる。
ている水を真空乾燥等の一般の脱水技術により除去する
ことが好ましく、以上のような方法により、所望のシロ
キサン類の精製を行うことができる。
【００３９】
【発明の効果】本発明に従えば、シロキサン類の精製に
際し、下記の利点がある。 （１）シロキサン類からクロル化合物等の不純物を除去
するため及び／又はシロキサン類を無臭化するために従
来一般的に用いられていた水洗、吸着、真空蒸留等によ
る方法に比較して、シロキサンロス、設備負荷、廃棄物
負荷、プロセス負荷、品質低下等をより低減化させるこ
とが可能となり、その結果、上述のシロキサン類の精製
を経済的に有利に実現することができる。。 （２）シロキサン類から低分子シロキサンを除去するた
めに従来一般的に用いられていた溶剤抽出、真空蒸留等
による方法と比較して設備負荷、廃棄物負荷、プロセス
負荷等をより低減化させることが可能となると同時に、
着色、ゲル化、着臭等をより効果的に防止することが可
能となり、その結果、上述のシロキサン類の精製を経済
的、品質的に有利に実現することができる。
際し、下記の利点がある。 （１）シロキサン類からクロル化合物等の不純物を除去
するため及び／又はシロキサン類を無臭化するために従
来一般的に用いられていた水洗、吸着、真空蒸留等によ
る方法に比較して、シロキサンロス、設備負荷、廃棄物
負荷、プロセス負荷、品質低下等をより低減化させるこ
とが可能となり、その結果、上述のシロキサン類の精製
を経済的に有利に実現することができる。。 （２）シロキサン類から低分子シロキサンを除去するた
めに従来一般的に用いられていた溶剤抽出、真空蒸留等
による方法と比較して設備負荷、廃棄物負荷、プロセス
負荷等をより低減化させることが可能となると同時に、
着色、ゲル化、着臭等をより効果的に防止することが可
能となり、その結果、上述のシロキサン類の精製を経済
的、品質的に有利に実現することができる。
【００４０】
【実施例】次に実施例と比較例とを示し、本発明を具体
的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるも
のではない。
的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるも
のではない。
【００４１】〔実施例１〕機械的撹拌機を備えた減圧可
能な反応器にオクタメチルテトラシクロシロキサン、メ
チルポリシロキサン〔（ＣＨ3）3ＳｉＯ（（ＣＨ3）2Ｓ
ｉＯ ）11Ｓｉ（ＣＨ3）3〕をそれぞれ１８００ｋｇ、２
０４ｋｇを入れた後、反応器の内温を１４５〜１５５℃
の範囲に調節した。次いで、このシロキサン混合物に５
０ｐｐｍの水酸化カリウムを添加し、１４５〜１５５℃
の温度範囲で６時間の間、重合を行い、更に生成したポ
リシロキサンに中和剤としてエチレンクロルヒドリンを
上記水酸化カリウム量の中和当量の３倍量添加し、中和
反応を行った。このようにして得られたポリシロキサン
においては、粘度は２０２ｃｓ（２５℃）、加熱減量は
１３．７％（１０５℃、３時間）であり、臭気について
はエチレンクロルヒドリン臭、エステル臭等があり、更
にエチレンクロルヒドリン含有量は１４０ｐｐｍであっ
た。
能な反応器にオクタメチルテトラシクロシロキサン、メ
チルポリシロキサン〔（ＣＨ3）3ＳｉＯ（（ＣＨ3）2Ｓ
ｉＯ ）11Ｓｉ（ＣＨ3）3〕をそれぞれ１８００ｋｇ、２
０４ｋｇを入れた後、反応器の内温を１４５〜１５５℃
の範囲に調節した。次いで、このシロキサン混合物に５
０ｐｐｍの水酸化カリウムを添加し、１４５〜１５５℃
の温度範囲で６時間の間、重合を行い、更に生成したポ
リシロキサンに中和剤としてエチレンクロルヒドリンを
上記水酸化カリウム量の中和当量の３倍量添加し、中和
反応を行った。このようにして得られたポリシロキサン
においては、粘度は２０２ｃｓ（２５℃）、加熱減量は
１３．７％（１０５℃、３時間）であり、臭気について
はエチレンクロルヒドリン臭、エステル臭等があり、更
にエチレンクロルヒドリン含有量は１４０ｐｐｍであっ
た。
【００４２】次いで、反応器の内温を１１０〜１２０℃
の範囲に調節した後、圧力２ｋｇ／ｃｍ2・Ｇの水蒸気
を上記ポリシロキサンに対して３重量％／Ｈｒで１時間
の間、供給した。なお、水蒸気の供給によりオクタメチ
ルテトラシクロシロキサンを中心とした環状ポリシロキ
サン類、水蒸気及びエチレンクロルヒドリン等が反応器
より溜出してくるが、これらは反応器上部に設置した水
冷コンデンサにより凝縮させた後に簡易レシーバーに入
れ、液液分離してシロキサン類のみを反応器内へ還流ラ
インより戻し、その他の流体は反応器外へ溜出させた。
の範囲に調節した後、圧力２ｋｇ／ｃｍ2・Ｇの水蒸気
を上記ポリシロキサンに対して３重量％／Ｈｒで１時間
の間、供給した。なお、水蒸気の供給によりオクタメチ
ルテトラシクロシロキサンを中心とした環状ポリシロキ
サン類、水蒸気及びエチレンクロルヒドリン等が反応器
より溜出してくるが、これらは反応器上部に設置した水
冷コンデンサにより凝縮させた後に簡易レシーバーに入
れ、液液分離してシロキサン類のみを反応器内へ還流ラ
インより戻し、その他の流体は反応器外へ溜出させた。
【００４３】所定の水蒸気の供給の後、反応器の内温を
１１０〜１２０℃の範囲に調節し、反応器内のポリシロ
キサンに３０分間、流量２Ｎｍ3／Ｈｒの窒素ガスをパ
ージし、系内の溶存水を除去した。ここで、上記の工程
で得られたポリシロキサンにおいては、粘度は２０４ｃ
ｓ（２５℃）、加熱減量は１３．６％（１０５℃，３時
間）、臭気は無臭、エチレンクロルヒドリン含有量は１
ｐｐｍ＞であった。
１１０〜１２０℃の範囲に調節し、反応器内のポリシロ
キサンに３０分間、流量２Ｎｍ3／Ｈｒの窒素ガスをパ
ージし、系内の溶存水を除去した。ここで、上記の工程
で得られたポリシロキサンにおいては、粘度は２０４ｃ
ｓ（２５℃）、加熱減量は１３．６％（１０５℃，３時
間）、臭気は無臭、エチレンクロルヒドリン含有量は１
ｐｐｍ＞であった。
【００４４】〔実施例２〕実施例１と同様な原料及び反
応器を用い、原料を仕込んだ後、反応器の内温を１０５
〜１１５℃の範囲に調節した。次いで、このシロキサン
混合物に（ｎ−Ｃ4Ｈ9）4ＰＯＨとして３００ｐｐｍの
第四級水酸化ホスホニウムを添加し、１０５〜１１５℃
の温度範囲で２時間の間、重合を行い、更に反応器の内
温を１５０〜１６０℃に調節し、４時間の間熱処理し、
触媒を不活性化させた。このようにして得られたポリシ
ロキサンにおいては、粘度は２０７ｃｓ（２５℃）、加
熱減量は１２．９％（１０５℃，３時間）であり、臭気
についてはトリｎ−ブチルホスフィンオキサイド等のリ
ン化合物臭があり、更にリン含有量は２０ｐｐｍであっ
た。
応器を用い、原料を仕込んだ後、反応器の内温を１０５
〜１１５℃の範囲に調節した。次いで、このシロキサン
混合物に（ｎ−Ｃ4Ｈ9）4ＰＯＨとして３００ｐｐｍの
第四級水酸化ホスホニウムを添加し、１０５〜１１５℃
の温度範囲で２時間の間、重合を行い、更に反応器の内
温を１５０〜１６０℃に調節し、４時間の間熱処理し、
触媒を不活性化させた。このようにして得られたポリシ
ロキサンにおいては、粘度は２０７ｃｓ（２５℃）、加
熱減量は１２．９％（１０５℃，３時間）であり、臭気
についてはトリｎ−ブチルホスフィンオキサイド等のリ
ン化合物臭があり、更にリン含有量は２０ｐｐｍであっ
た。
【００４５】次いで、実施例１と同様に水蒸気供給及び
脱水の操作を実施した。但し、水蒸気の供給は反応器の
内温が１５０〜１６０℃の範囲、また反応器の内圧が１
０〜２０ｍｍＨｇの範囲において行い、また、水蒸気供
給条件は、圧力２ｋｇ／ｃｍ2・Ｇ、供給速度１重量％
／Ｈｒ、供給時間２時間であった。ここで、上記の工程
で得られたポリシロキサンにおいては、粘度は２１５ｃ
ｓ（２５℃）、加熱減量は１２．０％（１０５℃，３時
間）、臭気は無臭であり、リン含有量は０．５ｐｐｍ＞
であった。
脱水の操作を実施した。但し、水蒸気の供給は反応器の
内温が１５０〜１６０℃の範囲、また反応器の内圧が１
０〜２０ｍｍＨｇの範囲において行い、また、水蒸気供
給条件は、圧力２ｋｇ／ｃｍ2・Ｇ、供給速度１重量％
／Ｈｒ、供給時間２時間であった。ここで、上記の工程
で得られたポリシロキサンにおいては、粘度は２１５ｃ
ｓ（２５℃）、加熱減量は１２．０％（１０５℃，３時
間）、臭気は無臭であり、リン含有量は０．５ｐｐｍ＞
であった。
【００４６】〔実施例３〕実施例１と同様な原料及び反
応器を用い、原料を仕込んだ後、反応器の内温を９０〜
１００℃の範囲に調節した。次いで、このシロキサン混
合物に（Ｃ Ｈ3）4ＮＯＨとして１００ｐｐｍの第四級水
酸化アンモニウムを添加し、９０〜１００℃の温度範囲
で２時間の間、重合を行い、更に反応器の内温を１３０
〜１４０℃に調節し、４時間の間熱処理し、触媒を不活
性化させた。このようにして得られたポリシロキサンに
おいては、粘度は２１５ｃｓ（２５℃）、加熱減量は１
３．０％（１０５℃，３時間）であり、臭気については
トリメチルアミン等のアミン臭があり、更に窒素含有量
は２ｐｐｍであった。
応器を用い、原料を仕込んだ後、反応器の内温を９０〜
１００℃の範囲に調節した。次いで、このシロキサン混
合物に（Ｃ Ｈ3）4ＮＯＨとして１００ｐｐｍの第四級水
酸化アンモニウムを添加し、９０〜１００℃の温度範囲
で２時間の間、重合を行い、更に反応器の内温を１３０
〜１４０℃に調節し、４時間の間熱処理し、触媒を不活
性化させた。このようにして得られたポリシロキサンに
おいては、粘度は２１５ｃｓ（２５℃）、加熱減量は１
３．０％（１０５℃，３時間）であり、臭気については
トリメチルアミン等のアミン臭があり、更に窒素含有量
は２ｐｐｍであった。
【００４７】次いで、実施例１と同様に水蒸気供給及び
脱水の操作を実施した。但し、水蒸気の供給は反応器の
内温が１２０〜１３０℃の範囲において行い、また、水
蒸気供給条件は、圧力２ｋｇ／ｃｍ2・Ｇ、供給速度２
重量％／Ｈｒ、供給時間１時間であった。ここで、上記
の工程で得られたポリシロキサンにおいては、粘度は２
２０ｃｓ（２５℃）、加熱減量は１２．５％（１０５
℃，３時間）、臭気は無臭であり、窒素含有量は１ｐｐ
ｍ＞であった。
脱水の操作を実施した。但し、水蒸気の供給は反応器の
内温が１２０〜１３０℃の範囲において行い、また、水
蒸気供給条件は、圧力２ｋｇ／ｃｍ2・Ｇ、供給速度２
重量％／Ｈｒ、供給時間１時間であった。ここで、上記
の工程で得られたポリシロキサンにおいては、粘度は２
２０ｃｓ（２５℃）、加熱減量は１２．５％（１０５
℃，３時間）、臭気は無臭であり、窒素含有量は１ｐｐ
ｍ＞であった。
【００４８】〔実施例４〕実施例１と同様な反応器にジ
メチルジクロロシランの加水分解物（当業界では周知の
ものであり、“ハイドロリゼート”等と呼ばれてい
る）、ヘキサメチルジシロキサン（ＣＨ3）3ＳｉＯＳｉ
（ＣＨ3）3をそれぞれ１０００ｋｇ、２００ｋｇ入れた
後、このシロキサン混合物に９８％の硫酸水溶液をＨ2
ＳＯ4として５重量％添加し、２０〜３０℃の温度範囲
で６時間の間、重合を行った。次いで、生成したポリシ
ロキサンを水洗処理することにより、硫酸をシロキサン
から分離・除去し、更に脱水を行った。このようにして
得られたポリシロキサンにおいては、粘度は８．４ｃｓ
（２５℃）、加熱減量は２４．６％（１０５℃，３時
間）であり、臭気については炭化水素臭があり、更に炭
化水素としてヘキサン、ヘキセンがそれぞれ５００ｐｐ
ｍ、７０ｐｐｍが含有されていた。
メチルジクロロシランの加水分解物（当業界では周知の
ものであり、“ハイドロリゼート”等と呼ばれてい
る）、ヘキサメチルジシロキサン（ＣＨ3）3ＳｉＯＳｉ
（ＣＨ3）3をそれぞれ１０００ｋｇ、２００ｋｇ入れた
後、このシロキサン混合物に９８％の硫酸水溶液をＨ2
ＳＯ4として５重量％添加し、２０〜３０℃の温度範囲
で６時間の間、重合を行った。次いで、生成したポリシ
ロキサンを水洗処理することにより、硫酸をシロキサン
から分離・除去し、更に脱水を行った。このようにして
得られたポリシロキサンにおいては、粘度は８．４ｃｓ
（２５℃）、加熱減量は２４．６％（１０５℃，３時
間）であり、臭気については炭化水素臭があり、更に炭
化水素としてヘキサン、ヘキセンがそれぞれ５００ｐｐ
ｍ、７０ｐｐｍが含有されていた。
【００４９】次いで、実施例１と同様に水蒸気供給及び
脱水の操作を実施した。但し、水蒸気の供給は反応器の
内温が１１０〜１２０℃の範囲において行い、また、水
蒸気供給条件は、圧力２ｋｇ／ｃｍ2・Ｇ、供給速度３
重量％／Ｈｒ、供給時間１時間であった。ここで、上記
の工程で得られたポリシロキサンにおいては、粘度は
９．０ｃｓ（２５℃）、加熱減量は２４．０％（１０５
℃，３時間）、臭気は無臭であり、ヘキサン、ヘキセン
の含有量はともに１０ｐｐｍ＞であった。
脱水の操作を実施した。但し、水蒸気の供給は反応器の
内温が１１０〜１２０℃の範囲において行い、また、水
蒸気供給条件は、圧力２ｋｇ／ｃｍ2・Ｇ、供給速度３
重量％／Ｈｒ、供給時間１時間であった。ここで、上記
の工程で得られたポリシロキサンにおいては、粘度は
９．０ｃｓ（２５℃）、加熱減量は２４．０％（１０５
℃，３時間）、臭気は無臭であり、ヘキサン、ヘキセン
の含有量はともに１０ｐｐｍ＞であった。
【００５０】〔実施例５〕実施例１と同様な反応器、原
料、重合触媒を用い、同様な重合を行った。次いで、生
成したポリシロキサンに中和剤として蟻酸を、使用ＫＯ
Ｈ量の中和当量の３倍量添加し、中和反応を行った。こ
のようにして得られたポリシロキサンにおいては、粘度
は２０４ｃｓ（２５℃）、加熱減量は１３．６％（１０
５℃，３時間）、臭気については酸臭があり、更に蟻酸
含有量は５ｐｐｍであった。
料、重合触媒を用い、同様な重合を行った。次いで、生
成したポリシロキサンに中和剤として蟻酸を、使用ＫＯ
Ｈ量の中和当量の３倍量添加し、中和反応を行った。こ
のようにして得られたポリシロキサンにおいては、粘度
は２０４ｃｓ（２５℃）、加熱減量は１３．６％（１０
５℃，３時間）、臭気については酸臭があり、更に蟻酸
含有量は５ｐｐｍであった。
【００５１】次いで、実施例１と同様に水蒸気供給及び
脱水の操作を実施した。但し、水蒸気の供給は反応器の
内温が１１０〜１２０℃の範囲において行い、また、水
蒸気供給条件は、圧力２ｋｇ／ｃｍ2・Ｇ、供給速度３
重量％／Ｈｒ、供給時間１時間であった。ここで、上記
の工程で得られたポリシロキサンにおいては、粘度は２
１０ｃｓ（２５℃）、加熱減量は１３．４％（１０５
℃，３時間）、臭気は無臭であり、蟻酸含有量は１ｐｐ
ｍ＞であった 〔実施例６〕実施例１と同様な反応器にオクタメチルテ
トラシクロシロキサン、テトラメチルジビニルジシロキ
サン〔（ＣＨ2＝ＣＨ）（ＣＨ3）2ＳｉＯＳｉ（ＣＨ3）
2（ＣＨ ＝ＣＨ2）〕をそれぞれ１８００ｋｇ、１９ｋｇ
入れた後、反応器の内温を１２０〜１３０℃の範囲に調
節した。次いで、このシロキサン混合物に５０ｐｐｍの
ＫＯＨを添加し、１２０〜１３０℃の温度範囲で８時間
の間、重合を行い、更に生成したポリシロキサンに中和
剤としてエチレンクロルヒドリンを上記ＫＯＨ量の中和
当量の３倍量添加し、中和反応を行った。その後、反応
器の内温を１９５〜２０５℃の範囲に調節するととも
に、反応器の内圧を１０〜２０ｍｍＨｇの範囲に調節し
た。
脱水の操作を実施した。但し、水蒸気の供給は反応器の
内温が１１０〜１２０℃の範囲において行い、また、水
蒸気供給条件は、圧力２ｋｇ／ｃｍ2・Ｇ、供給速度３
重量％／Ｈｒ、供給時間１時間であった。ここで、上記
の工程で得られたポリシロキサンにおいては、粘度は２
１０ｃｓ（２５℃）、加熱減量は１３．４％（１０５
℃，３時間）、臭気は無臭であり、蟻酸含有量は１ｐｐ
ｍ＞であった 〔実施例６〕実施例１と同様な反応器にオクタメチルテ
トラシクロシロキサン、テトラメチルジビニルジシロキ
サン〔（ＣＨ2＝ＣＨ）（ＣＨ3）2ＳｉＯＳｉ（ＣＨ3）
2（ＣＨ ＝ＣＨ2）〕をそれぞれ１８００ｋｇ、１９ｋｇ
入れた後、反応器の内温を１２０〜１３０℃の範囲に調
節した。次いで、このシロキサン混合物に５０ｐｐｍの
ＫＯＨを添加し、１２０〜１３０℃の温度範囲で８時間
の間、重合を行い、更に生成したポリシロキサンに中和
剤としてエチレンクロルヒドリンを上記ＫＯＨ量の中和
当量の３倍量添加し、中和反応を行った。その後、反応
器の内温を１９５〜２０５℃の範囲に調節するととも
に、反応器の内圧を１０〜２０ｍｍＨｇの範囲に調節し
た。
【００５２】更に上記のように調節された反応器内に圧
力２ｋｇ／ｃｍ2・Ｇの水蒸気を上記ポリシロキサンに
対して１重量％／Ｈｒの速度で１時間の間、供給した。
水蒸気の供給によりオクタメチルテトラシクロシロキサ
ンを中心とした環状ポリシロキサン類、水蒸気、過剰エ
チレンクロルヒドリン等が反応器より溜出してくるが、
これらは反応器上部に設置した水冷コンデンサにより凝
縮させた後、反応器外へ溜出した。ここで、上記の工程
で得られたポリシロキサンにおいては、粘度は１２００
ｃｓ（２５℃）であり、一般式〔（ＣＨ3）2ＳｉＯ〕n
（但し、ｎ＝３〜２０）で示される環状ポリシロキサン
含有量は表１に示す値であった。
力２ｋｇ／ｃｍ2・Ｇの水蒸気を上記ポリシロキサンに
対して１重量％／Ｈｒの速度で１時間の間、供給した。
水蒸気の供給によりオクタメチルテトラシクロシロキサ
ンを中心とした環状ポリシロキサン類、水蒸気、過剰エ
チレンクロルヒドリン等が反応器より溜出してくるが、
これらは反応器上部に設置した水冷コンデンサにより凝
縮させた後、反応器外へ溜出した。ここで、上記の工程
で得られたポリシロキサンにおいては、粘度は１２００
ｃｓ（２５℃）であり、一般式〔（ＣＨ3）2ＳｉＯ〕n
（但し、ｎ＝３〜２０）で示される環状ポリシロキサン
含有量は表１に示す値であった。
【００５３】〔比較例１〕実施例６と同様な原料、反応
器を用い、同様な工程・操作により中和反応まで終了さ
せた。その後、反応器の内温を１９５〜２０５℃の範囲
に調節するとともに、反応器の内圧を１０〜２０ｍｍＨ
ｇの範囲に調節した。更に上記のように調節された反応
器内に圧力２ｋｇ／ｃｍ2・Ｇの窒素ガスを２Ｎｍ3／Ｈ
ｒの速度のもとで１時間の間、供給した。溜出物の処置
については実施例６と同様にした。ここで、上記の工程
で得られたポリシロキサンにおいては粘度は１１８０ｃ
ｓ（２５℃）であり、実施例６と同様な環状ポリシロキ
サン含有量は表１に示す値であった。
器を用い、同様な工程・操作により中和反応まで終了さ
せた。その後、反応器の内温を１９５〜２０５℃の範囲
に調節するとともに、反応器の内圧を１０〜２０ｍｍＨ
ｇの範囲に調節した。更に上記のように調節された反応
器内に圧力２ｋｇ／ｃｍ2・Ｇの窒素ガスを２Ｎｍ3／Ｈ
ｒの速度のもとで１時間の間、供給した。溜出物の処置
については実施例６と同様にした。ここで、上記の工程
で得られたポリシロキサンにおいては粘度は１１８０ｃ
ｓ（２５℃）であり、実施例６と同様な環状ポリシロキ
サン含有量は表１に示す値であった。
【００５４】
【表１】
【００５５】〔実施例７〕実施例４と同様な原料、反応
器を用い、同様な工程・操作により脱水処理まで終了さ
せ、実施例４と同様な物性を有するポリシロキサンを得
た。次いで、反応器の内温を１００℃未満に調節した
後、純水を上記のポリシロキサンに対して５重量％添加
した。その後、撹拌下で加熱し、反応器の内温度を１３
０℃まで上昇させた。加熱により水蒸気が発生し、この
水蒸気とともにオクタメチルテトラシクロシロキサンを
中心とした環状ポリシロキサン類、炭化水素等が反応器
より溜出してくるが、これらは反応器上部に設置した水
冷コンデンサにより凝縮させ、シロキサン類のみを反応
器内へ還流ラインより戻し、その他の流体は反応器外へ
溜出させた。ここで上記の工程で得られたポリシロキサ
ンにおいては、粘度は９．０ｃｓ（２５℃）、加熱減量
は２４．０％（１０５℃，３時間）、臭気は無臭であ
り、ヘキサン、ヘキセンの含有量はともに１０ｐｐｍ＞
であった。
器を用い、同様な工程・操作により脱水処理まで終了さ
せ、実施例４と同様な物性を有するポリシロキサンを得
た。次いで、反応器の内温を１００℃未満に調節した
後、純水を上記のポリシロキサンに対して５重量％添加
した。その後、撹拌下で加熱し、反応器の内温度を１３
０℃まで上昇させた。加熱により水蒸気が発生し、この
水蒸気とともにオクタメチルテトラシクロシロキサンを
中心とした環状ポリシロキサン類、炭化水素等が反応器
より溜出してくるが、これらは反応器上部に設置した水
冷コンデンサにより凝縮させ、シロキサン類のみを反応
器内へ還流ラインより戻し、その他の流体は反応器外へ
溜出させた。ここで上記の工程で得られたポリシロキサ
ンにおいては、粘度は９．０ｃｓ（２５℃）、加熱減量
は２４．０％（１０５℃，３時間）、臭気は無臭であ
り、ヘキサン、ヘキセンの含有量はともに１０ｐｐｍ＞
であった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鈴木 勝 群馬県安中市磯部２丁目13番１号 信越化 学工業株式会社磯部工場内 (72)発明者 丸山 政雄 群馬県安中市磯部２丁目13番１号 信越化 学工業株式会社磯部工場内 (72)発明者 古谷 勝昭 東京都千代田区大手町二丁目６番１号 信 越化学工業株式会社内
Claims (1)
- 【請求項１】 精製すべきシロキサン類に水蒸気を接触
させ、該シロキサン類中に存在する除去すべき不純物を
水蒸気とともに溜出させ、該シロキサン類から分離する
ことを特徴とするシロキサン類の精製方法。
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