JPH05129259A - 研削装置 - Google Patents

研削装置

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JPH05129259A
JPH05129259A JP29128891A JP29128891A JPH05129259A JP H05129259 A JPH05129259 A JP H05129259A JP 29128891 A JP29128891 A JP 29128891A JP 29128891 A JP29128891 A JP 29128891A JP H05129259 A JPH05129259 A JP H05129259A
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JP
Japan
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grindstone
grinding
work
silicon wafer
roughening
Prior art date
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Application number
JP29128891A
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English (en)
Inventor
Masaaki Kuniyoshi
真暁 国吉
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
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Publication of JPH05129259A publication Critical patent/JPH05129259A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】ワーク面に対する仕上げ加工とともに面粗しし
て、仕上げ用砥石のドレッシング効果を得て、研削作業
効率の向上を図るとともに、必要機構の簡素化をなし、
併せて装置の小型軽量化を促進して、低コスト化を得る
研削装置を提供する。 【構成】回転駆動されるワークチャック2に支持される
シリコンウエハSの一側面に精研砥石3を摺接してその
面を仕上げ加工し、さらに面粗し砥石4でシリコンウエ
ハS面を面粗しして、精研砥石3の砥粒に対するドレッ
シング効果を得る。上記精研砥石は、シリコンウエハの
中心位置にかかる回転軌跡を形成し、上記面粗し砥石
は、精研砥石の回転軌跡を除く面一部に圧接し、かつシ
リコンウエハの回転にともなって連れ回りする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ワークとして、たとえ
ばシリコンウエハを適用し、特に、その裏面側を研削す
る研削装置に関する。
【0002】
【従来の技術】ワークである、たとえばシリコンウエハ
の裏面側を研削し、所定の厚さおよび平坦度を得るため
の研削装置は、従来、図4に示すように構成されてい
る。
【0003】すなわち、装置本体aに、第1のワークチ
ャックbと第2のワークチャックcとが所定間隔を存し
て配置されている。これらワークチャックb,cは、そ
れぞれ図示しない回転駆動源に連結され、回転駆動され
るようになっている。
【0004】また、各ワークチャックb,cは、その上
面側にワークである、ここではシリコンウエハS,Sを
支持する。上記シリコンウエハSは、シリコンインゴッ
トから所定の工程を経てスライスされた極く薄板状に形
成されるものであり、その表面側に所定の回路が設けら
れる以前の工程として、その裏面側を研削するための研
削装置である。
【0005】したがって、それぞれのワークチャック
b,cに支持されるシリコンウエハS,Sは、裏面側を
上面側にして支持されることとなる。第1のワークチャ
ックbに支持されるシリコンウエハSの裏面側には、粗
研砥石dが摺接するようになっている。第2のワークチ
ャックcに支持されるシリコンウエハSの裏面側には精
研砥石eが摺接するようになっている。
【0006】これら粗研,精研砥石d,eは、それぞれ
回転駆動するとともに昇降自在な切込み機構f,gに支
持される。それぞれの切込み機構f,gが粗研,精研砥
石d,eを下降回転駆動する送り状態で、砥石d,eの
下端面がシリコンウエハS,Sに当接するとともに研削
作用をなし、砥石d,eを上昇してシリコンウエハS,
Sと離間することにより、シリコンウエハS,Sのワー
クチャックb,cからの交換が可能となっている。
【0007】同図に示す研削装置は、いわゆる2スピン
ドルタイプのものであり、第1のワークチャックbに支
持されるシリコンウエハSは粗研砥石dによる粗い研削
加工がなされ、第2のワークチャックcに支持されるシ
リコンウエハSは精研砥石eによる仕上げ研削加工がな
される。
【0008】また、従来、3スピンドルタイプの研削装
置のものもあり、この場合は、粗加工、中仕上げ加工、
仕上げ加工の順に、3工程で加工を行っていて、適応す
る砥石が備えられる。
【0009】このようなシリコンウエハSの裏面側を仕
上げ研削する場合、表面粗さは、0.5〜1.0μm程
度が要求されるのが一般的であり、仕上げ用砥石として
使用される精研砥石eは、#2000程度の細粒のもの
が用いられる。
【0010】しかしながら、上記#2000程度の細粒
の砥石でシリコンウエハSを連続加工すると、早急に目
詰まりや目つぶれが発生し、長期の連続加工は不可能と
なる。このことから、精研砥石eで研削する前に、#4
00程度の粗い砥石(粗研砥石d)を用いて粗研削を行
い、その後、残り10μm程度を精研砥石eで仕上げ研
削するようになっている。
【0011】そして、粗研削時の表面粗さが3〜4μm
程度になっているため、粗い加工面によって精研砥石e
の砥粒の目立てをなす、いわゆるドレッシング効果があ
る。すなわち、目つぶれを起こした砥石の表面を削り落
とし、切れ味の低下した砥石の表面に新しい切刃である
砥粒を再生させることが可能となる。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】このようにして、所定
の作用をなし、かつ効果を得られる研削装置であるが、
それぞれの砥石d,eによる研削加工作業を別位置でな
すため、装置本体a内に対応するワークチャックb、c
を直列的に並べて配置しなければならない。
【0013】したがって、装置自体、大なる配置スペー
スを用する大型で、かつ大重量にならざるを得ない。そ
して、その影響は価格面に現われるところとなり、極め
て高価格化が避けられない。
【0014】さらに、この種装置は、単体で用いられる
ことはほとんど無く、たとえばダイシング装置など、他
の装置と加工ラインを組んで作業するようになっている
が、上記研削装置は加工能率が大き過ぎて、他の装置と
の作業バランスを取るのが非常に困難であった。
【0015】本発明は、このような事情によりなされた
ものであり、その目的とするところは、仕上げ研削とと
もにワーク面を面粗しし、仕上げ用砥石に対するドレッ
シング効果を得るようにして、研削作業効率の向上を図
るとともに、必要機構の簡素化をなし、併せて装置の小
型軽量化を促進して、低コスト化を得る研削装置を提供
することにある。
【0016】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
第1の発明は、回転駆動されるワークチャックに支持さ
れるワークの一側面に摺接してその面を仕上げ加工する
回転駆動される精研砥石と、この精研砥石とともにワー
クの一側面に摺接しワーク面を面粗しして精研砥石の砥
粒に対するドレッシング効果を得る面粗し砥石とを具備
したことを特徴とする研削装置である。
【0017】第2の発明は、上記精研砥石は、ワークの
中心位置近傍にかかる回転軌跡を形成し、上記面粗し砥
石は、精研砥石の回転軌跡を除くワーク面一部に圧接
し、かつワークの回転にともなって連れ回りするよう回
転自在に支持されることを特徴とする請求項1記載の研
削装置である。
【0018】第3の発明は、上記面粗し砥石は、粗い砥
粒のダイヤモンド砥石、スティック砥石、一般砥石のい
ずれかの砥石であることを特徴とする請求項1記載の研
削装置である。
【0019】
【作用】単体のワークチャックにワークを支持し、この
ワークに対して精研砥石と面粗し砥石による研削作業を
同時に行って、所定の研削仕上げをなす。したがって、
機構が簡素化し、装置が小型軽量になる。さらに、面粗
し砥石は精研砥石の砥粒に対するドレッシング効果を得
る。
【0020】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図面にもとづいて
説明する。図1は、装置本体1である。この装置本体1
は、後述する理由により、従来のものよりも小型です
む。
【0021】上記装置本体1内には、図示しない回転駆
動源に連結される1組のワークチャック2が配置されて
いる。上記ワークチャック2は、その上面側に、ワーク
である、ここではシリコンウエハSを支持する。上記シ
リコンウエハSは、先に説明したものと同一で、極く薄
板状で、かつ裏面側を上面側にして支持されることとな
る。
【0022】このワークチャック2に支持されるシリコ
ンウエハSの裏面側には、それぞれストレートカップ形
の砥石である、精研砥石3および面粗し砥石4が摺接す
るようになっている。
【0023】上記精研砥石3は、回転駆動され、さらに
昇降自在な切込み機構5に支持される。この切込み機構
5が精研砥石3を下降回転駆動する送り状態で、砥石3
の下端面がシリコンウエハSに当接するとともに研削作
用をなし、砥石3を上昇してシリコンウエハSと離間す
ることにより、シリコンウエハSのワークチャック2か
らの交換が可能となっている。
【0024】上記面粗し砥石4は、軸受け具6に回転自
在に枢支され、かつ軸受け具6は図示しない昇降駆動に
連結される。したがって、この砥石4を下降駆動して、
砥石4下端面をシリコンウエハSに当接させると、ワー
クチャック2によって回転駆動されるシリコンウエハS
の回転にともない、砥石4が同一方向に連れ回りするよ
うになっている。
【0025】軸受け具6および面粗し砥石4を上昇駆動
させれば、砥石4下端面がシリコンウエハSと離間し
て、シリコンウエハSのワークチャック2からの交換が
可能となる。
【0026】図2に示すように、上記シリコンウエハS
は円形であり、精研砥石3と面粗し砥石4は、互いに研
磨面は円環状で、かつ直径が異なるストレートカップ形
砥石であり、シリコンウエハSに対する摺接部位を異な
らせている。
【0027】すなわち、精研砥石3の外径周縁3aはシ
リコンウエハSの回転中心Oの近傍位置にあり、かつ内
径周縁3bはシリコンウエハSの回転中心Oと周端縁S
aとの略中間位置にある。
【0028】一方、面粗し砥石4の外径周縁4aは、シ
リコンウエハSの回転中心Oと周端縁Saとの略中間位
置にあり、かつ内径周縁4bはシリコンウエハSの周端
縁Saに近い位置にある。
【0029】たとえば、上記精研砥石3は、#2000
で、直径200φ 、切込み機構5により2000rp
m程度の回転駆動がなされ、シリコンウエハSに対する
切込み速度を30μm/分に設定される。
【0030】上記シリコンウエハSは、直径5インチ
で、ワークチャック2により100〜150rpm程度
の回転駆動がなされる。面粗し砥石4は、#400〜5
00で、直径100φ 程度とする。
【0031】しかして、ワークチャック2にシリコンウ
エハSを支持して、ワークチャック2を回転駆動すると
ともに切込み機構5は精研砥石3を設定された切込み条
件で駆動する。
【0032】また、面粗し砥石4は、シリコンウエハS
にある程度圧接状態になっており、シリコンウエハSの
回転にともなって連れ回りする。この砥石4が当接する
シリコンウエハSの一部は、砥石4によって面粗しがな
される。
【0033】そして精研砥石3は、一部が面粗しされた
シリコンウエハSに摺接して、面粗し部分による砥石面
に対するドレッシング効果を受けながら、摺接面である
裏面側の仕上げ研削加工をなす。
【0034】なお説明すれば、図3に示すように、面粗
し砥石4はシリコンウエハSの中心O側を除く周端側一
部に当接する軌跡を残して、この軌跡部分を面粗しする
ことになる。
【0035】上記精研砥石3は、シリコンウエハSの中
心O側から周端側にかけた回転軌跡を残して仕上げ研削
するが、シリコンウエハSの面粗しされた部分に対して
は、互いに円弧状の端部が交差する状態となる。
【0036】このようなシリコンウエハSと精研砥石3
は、互いに反対方向に回転しているところから、精研砥
石3はその円環状の全周面に亘って砥石面に対するドレ
ッシング効果を受け、同時にシリコンウエハSに対する
仕上げ研削をなす。
【0037】一方、装置本体1内に必要な構成部品とし
て、1組のワークチャック2を備え、ここに支持するシ
リコンウエハSに対して精研砥石3と面粗し砥石4を同
時に摺接して所定の作用をなすようにしたから、装置と
して、従来のものよりもはるかに小型で配置スペースを
足らずにすむ。
【0038】また、面粗し砥石4は、シリコンウエハS
の回転にともなって連れ回りするよう軸受け具6に回転
自在に枢支する構造ですみ、従来と同様の切込み機構5
は、精研砥石3側にのみ備えればよいので、機構的に簡
素化され、かつ装置本体1の小型化にともなって全体重
量が軽減する。
【0039】なお、上記実施例においては、面粗し砥石
4をシリコンウエハSに連れ回りするようにしたが、こ
れに限定されるものではなく、独立した駆動源に連結し
て回転駆動するようにしてもよい。さらにまた、この砥
石4はストレートカップ形砥石を用いるよう説明した
が、その形状構造は限定されない。たとえば、粗い砥粒
のダイヤモンド砥石、スティック砥石、一般砥石に代え
てもよい。
【0040】上記ワークとして、薄板状のシリコンウエ
ハSを対象とし、この裏面側を研削する場合について説
明したが、他の種類のワークであって、かつ異なる状態
の研削面であっても、同様の研削状態が適用できる。
【0041】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、回
転駆動されるワークチャックに支持されるワークの一側
面を精研砥石で仕上げ研削加工し、同時に面粗し砥石で
ワーク面を面粗しして、精研砥石の砥粒に対するドレッ
シング効果を得るようにしたから、研削作業効率の向上
を図るとともに、必要機構の簡素化をなし、併せて装置
の小型軽量化を促進して、低コスト化を得るなどの効果
を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例を示す、研削装置の概略構成
図。
【図2】同実施例の、ワークに対する面粗し砥石と精研
砥石の平面図。
【図3】同実施例の、面粗し砥石と精研砥石の回転軌跡
を説明する図。
【図4】本発明の従来例を示す、研削装置の概略構成
図。
【符号の説明】
2…ワークチャック、S…ワーク(シリコンウエハ)、
3…精研砥石、4…面粗し砥石。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】回転駆動されるワークチャックに支持され
    るワークの一側面に摺接してその面を仕上げ加工する回
    転駆動される精研砥石と、この精研砥石とともにワーク
    の一側面に摺接しワーク面を面粗しして精研砥石の砥粒
    に対するドレッシング効果を得る面粗し砥石とを具備し
    たことを特徴とする研削装置。
  2. 【請求項2】上記精研砥石は、ワークの中心位置近傍に
    かかる回転軌跡を形成し、上記面粗し砥石は、精研砥石
    の回転軌跡を除くワーク面一部に圧接し、かつワークの
    回転にともなって連れ回りするよう回転自在に支持され
    ることを特徴とする請求項1記載の研削装置。
  3. 【請求項3】上記面粗し砥石は、粗い砥粒のダイヤモン
    ド砥石、スティック砥石、一般砥石のいずれかの砥石で
    あることを特徴とする請求項1記載の研削装置。
JP29128891A 1991-11-07 1991-11-07 研削装置 Pending JPH05129259A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007194471A (ja) * 2006-01-20 2007-08-02 Disco Abrasive Syst Ltd ウェーハの研磨方法
CN108500799A (zh) * 2018-03-19 2018-09-07 湖北乾奥建设工程有限公司 建筑实体面料一体化加工设备
CN110900313A (zh) * 2018-09-13 2020-03-24 株式会社冈本工作机械制作所 基板磨削装置以及基板磨削方法

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