JPH05109117A - 光デイスクおよびその製法 - Google Patents
光デイスクおよびその製法Info
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- JPH05109117A JPH05109117A JP3264611A JP26461191A JPH05109117A JP H05109117 A JPH05109117 A JP H05109117A JP 3264611 A JP3264611 A JP 3264611A JP 26461191 A JP26461191 A JP 26461191A JP H05109117 A JPH05109117 A JP H05109117A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】超高解像度再生方式の光ディスクを再生する際
に、安定したトラッキング制御をする。 【構成】透明基板２上に、サーボ領域ＳＡに対応してウ
ォブルピットＷＰ等を、データ領域ＤＡに対応して記録
ピットＲＰを形成する。この透明基板２上にデータ領域
ＤＡに対応して材料層３を形成した後、反射層４を全面
に形成する。材料層３は、読み出し光の熱により読み出
し光スポット内で部分的に状態変化を起こし、かつ読み
出し光通過後に初期状態に戻り、さらに状態変化によっ
て反射率が変化する。材料層３にＧｅ2Ｓｂ2Ｔｅ3三元
化合物を使用する。反射層４に反射率の高いＡｌを使用
する。レーザスポット内で光強度分布に応じて材料層３
の反射率が部分的に増加するため、記録ピットＲＰより
情報の読み出しが可能となる。レーザスポットがサーボ
領域ＳＡを走査する際、そのスポットから充分な反射光
量を得ることができ、安定したトラッキング制御等を行
ない得る。
に、安定したトラッキング制御をする。 【構成】透明基板２上に、サーボ領域ＳＡに対応してウ
ォブルピットＷＰ等を、データ領域ＤＡに対応して記録
ピットＲＰを形成する。この透明基板２上にデータ領域
ＤＡに対応して材料層３を形成した後、反射層４を全面
に形成する。材料層３は、読み出し光の熱により読み出
し光スポット内で部分的に状態変化を起こし、かつ読み
出し光通過後に初期状態に戻り、さらに状態変化によっ
て反射率が変化する。材料層３にＧｅ2Ｓｂ2Ｔｅ3三元
化合物を使用する。反射層４に反射率の高いＡｌを使用
する。レーザスポット内で光強度分布に応じて材料層３
の反射率が部分的に増加するため、記録ピットＲＰより
情報の読み出しが可能となる。レーザスポットがサーボ
領域ＳＡを走査する際、そのスポットから充分な反射光
量を得ることができ、安定したトラッキング制御等を行
ない得る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、例えば位相ピットが
形成された透明基板上に温度によって反射率が変化する
材料層が形成されてなり、高密度記録をするのに適用し
て好適な光ディスクおよびその製法に関する。
形成された透明基板上に温度によって反射率が変化する
材料層が形成されてなり、高密度記録をするのに適用し
て好適な光ディスクおよびその製法に関する。
【０００２】
【従来の技術】例えばディジタルオーディオディスク
（いわゆるコンパクトディスク）や、ビデオディスク等
の光ディスクは、予め情報信号に応じて位相ピットが形
成された透明基板上にアルミニウム反射膜を成膜し、そ
の上に保護膜等を形成することで構成されている。
（いわゆるコンパクトディスク）や、ビデオディスク等
の光ディスクは、予め情報信号に応じて位相ピットが形
成された透明基板上にアルミニウム反射膜を成膜し、そ
の上に保護膜等を形成することで構成されている。
【０００３】このような光ディスクでは、ディスク面に
読み出し光を照射して位相ピットの形成部での光の回折
による反射光量の大幅な減少を検出することによって信
号の読み出し（再生）を行なうようにしている。
読み出し光を照射して位相ピットの形成部での光の回折
による反射光量の大幅な減少を検出することによって信
号の読み出し（再生）を行なうようにしている。
【０００４】ところで、上述のような光ディスクにおい
て、信号再生の分解能は、ほとんど再生光学系の光源の
波長λと対物レンズの開口数ＮＡで決まり、空間周波数
２ＮＡ／λが再生限界となる。
て、信号再生の分解能は、ほとんど再生光学系の光源の
波長λと対物レンズの開口数ＮＡで決まり、空間周波数
２ＮＡ／λが再生限界となる。
【０００５】そのため、このような光ディスクにおいて
高密度化を実現するためには、再生光学系の光源（例え
ば半導体レーザ）の波長λを短くすること、あるいは対
物レンズの開口数ＮＡを大きくすることが必要となる。
高密度化を実現するためには、再生光学系の光源（例え
ば半導体レーザ）の波長λを短くすること、あるいは対
物レンズの開口数ＮＡを大きくすることが必要となる。
【０００６】しかし、光源の波長λや対物レンズの開口
数ＮＡの改善には自ずと限界があり、これによって記録
密度を飛躍的に高めることは難しいのが実情である。
数ＮＡの改善には自ずと限界があり、これによって記録
密度を飛躍的に高めることは難しいのが実情である。
【０００７】そこで、本出願人は、読み出し光の走査ス
ポット内の部分的相変化による反射率を利用すること
で、上述した波長λや開口数ＮＡによる制限以上の解像
度を得ることができる光ディスクを提案した（特願平２
−９４４５２号、特願平３−２４９５１１号参照）。
ポット内の部分的相変化による反射率を利用すること
で、上述した波長λや開口数ＮＡによる制限以上の解像
度を得ることができる光ディスクを提案した（特願平２
−９４４５２号、特願平３−２４９５１１号参照）。
【０００８】図４は、その一例の概略的断面図を示して
いる。図４の例の光ディスクは、情報信号に応じて位相
ピット１が形成された平滑な透明基板２上に、溶融後結
晶化し得る材料層３が形成されてなるものである。
いる。図４の例の光ディスクは、情報信号に応じて位相
ピット１が形成された平滑な透明基板２上に、溶融後結
晶化し得る材料層３が形成されてなるものである。
【０００９】この場合、読み出し光、例えば再生レーザ
光が材料層３に照射されるとき、読み出し光の走査スポ
ット内に温度分布が生じる。これにより、材料層３が部
分的に結晶状態から溶融状態となって反射率が低下する
と共に、読み出し後の常態では結晶状態に戻る。
光が材料層３に照射されるとき、読み出し光の走査スポ
ット内に温度分布が生じる。これにより、材料層３が部
分的に結晶状態から溶融状態となって反射率が低下する
と共に、読み出し後の常態では結晶状態に戻る。
【００１０】図４の例の光ディスクに再生レーザ光を照
射する場合を、図５を使用して説明する。
射する場合を、図５を使用して説明する。
【００１１】図５Ａにおいて、ＳＰはレーザスポットで
あり、ディスクの回転に伴って矢印ＳＣ方向に走査され
ている。この図５Ａでは、各位相ピット１が最短記録周
期ｑで配列されているが、この配列間隔およびピット長
は記録データに応じて変化することは勿論である。
あり、ディスクの回転に伴って矢印ＳＣ方向に走査され
ている。この図５Ａでは、各位相ピット１が最短記録周
期ｑで配列されているが、この配列間隔およびピット長
は記録データに応じて変化することは勿論である。
【００１２】また、図５Ｂにおいて、横軸はレーザスポ
ットＳＰの走査方向ＳＣに関する位置を示している。光
ディスクにレーザスポットＳＰが照射された状態を考え
ると（図５Ａ参照）、レーザスポットＳＰの光強度は破
線ａで示す分布となる。これに対して、光ディスクの材
料層３における温度分布は、実線ｂで示すようにレーザ
スポットＳＰの走査速度に応じてわずかに遅れたものと
なる。
ットＳＰの走査方向ＳＣに関する位置を示している。光
ディスクにレーザスポットＳＰが照射された状態を考え
ると（図５Ａ参照）、レーザスポットＳＰの光強度は破
線ａで示す分布となる。これに対して、光ディスクの材
料層３における温度分布は、実線ｂで示すようにレーザ
スポットＳＰの走査速度に応じてわずかに遅れたものと
なる。
【００１３】ここで、上述したようにレーザスポットＳ
Ｐが、図５Ａに示すように走査方向ＳＣに走査されてい
るとすると、光ディスクはレーザスポットＳＰの走査方
向先端側から次第に温度が上昇し、遂には材料層３の融
点ＭＰ以上の温度となる。
Ｐが、図５Ａに示すように走査方向ＳＣに走査されてい
るとすると、光ディスクはレーザスポットＳＰの走査方
向先端側から次第に温度が上昇し、遂には材料層３の融
点ＭＰ以上の温度となる。
【００１４】この段階で材料層３は、初期の結晶状態か
ら溶融状態となって反射率が低下する。そのため、レー
ザスポットＳＰ内には、反射率が低くて位相ピット１の
読み出しが不可能な領域Ｐｘ（図５Ａに斜線図示）と、
結晶状態を保持するため反射率が高くて位相ピット１の
読み出しが可能な領域Ｐｚとが並存する。
ら溶融状態となって反射率が低下する。そのため、レー
ザスポットＳＰ内には、反射率が低くて位相ピット１の
読み出しが不可能な領域Ｐｘ（図５Ａに斜線図示）と、
結晶状態を保持するため反射率が高くて位相ピット１の
読み出しが可能な領域Ｐｚとが並存する。
【００１５】したがって、図５Ａに示すように、同一レ
ーザスポットＳＰ内に、例えば２つの位相ピット１が存
在している場合においても、反射率の高い領域Ｐｚに存
在する１つの位相ピット１に関してのみ読み出しが行な
われる。そのため、読み出し光の波長λや対物レンズの
開口数ＮＡに制限されることなく、超高解像度をもって
読み出しを行なうことができ、これにより高密度記録が
可能となる。
ーザスポットＳＰ内に、例えば２つの位相ピット１が存
在している場合においても、反射率の高い領域Ｐｚに存
在する１つの位相ピット１に関してのみ読み出しが行な
われる。そのため、読み出し光の波長λや対物レンズの
開口数ＮＡに制限されることなく、超高解像度をもって
読み出しを行なうことができ、これにより高密度記録が
可能となる。
【００１６】なお、上述した光ディスク（ＦＡＤタイ
プ）では、材料層３が溶融状態で反射率が低く、結晶状
態で反射率が高くなるようにしたものである。しかし、
材料層３の構成や厚さ等の諸条件の選定によって、材料
層３は、溶融状態で反射率が高く、結晶状態で反射率が
低くなるようにも構成される。このような光ディスク
（ＲＡＤタイプ）にあっては、溶融状態となって反射率
が増加した領域（図５Ａの斜線部参照）のみ読み出し可
能となる。したがって、このＲＡＤタイプのものにおい
ても、ＦＡＤタイプのものと同様に、超高解像度の読み
出しを行なうことができ、これにより高密度記録が可能
となる。
プ）では、材料層３が溶融状態で反射率が低く、結晶状
態で反射率が高くなるようにしたものである。しかし、
材料層３の構成や厚さ等の諸条件の選定によって、材料
層３は、溶融状態で反射率が高く、結晶状態で反射率が
低くなるようにも構成される。このような光ディスク
（ＲＡＤタイプ）にあっては、溶融状態となって反射率
が増加した領域（図５Ａの斜線部参照）のみ読み出し可
能となる。したがって、このＲＡＤタイプのものにおい
ても、ＦＡＤタイプのものと同様に、超高解像度の読み
出しを行なうことができ、これにより高密度記録が可能
となる。
【００１７】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述したよ
うに位相ピット１が形成された透明基板２上に材料層３
が形成されてなる光ディスク（以下、「ＳＲディスク」
という）より、情報信号を再生する際、トラッキングサ
ーボとして３ビーム法を用いることが提案されている。
うに位相ピット１が形成された透明基板２上に材料層３
が形成されてなる光ディスク（以下、「ＳＲディスク」
という）より、情報信号を再生する際、トラッキングサ
ーボとして３ビーム法を用いることが提案されている。
【００１８】この３ビーム法においては、光ディスクの
記録面に、情報信号を再生するためのメインスポットの
他に、トラッキングエラー信号を得るための２個のサイ
ドスポットが形成される。例えば、サイドスポットの光
強度はメインスポットより弱くされて、サイドスポット
内で温度によって材料層３に状態変化を生じて反射率が
変化しないようにされる。
記録面に、情報信号を再生するためのメインスポットの
他に、トラッキングエラー信号を得るための２個のサイ
ドスポットが形成される。例えば、サイドスポットの光
強度はメインスポットより弱くされて、サイドスポット
内で温度によって材料層３に状態変化を生じて反射率が
変化しないようにされる。
【００１９】この場合、ＦＡＤタイプのＳＲディスクで
あるときは、状態変化前の初期反射率が高いため、サイ
ドスポットからの反射光に基づいて安定してエラー信号
を得ることができ、良好にトラッキング制御できる。
あるときは、状態変化前の初期反射率が高いため、サイ
ドスポットからの反射光に基づいて安定してエラー信号
を得ることができ、良好にトラッキング制御できる。
【００２０】しかし、ＲＡＤタイプのＳＲディスクであ
るときは、状態変化前の初期反射率が低いため、サイド
スポットからの反射光量が充分でなくなり、トラッキン
グ制御をすることが困難であった。
るときは、状態変化前の初期反射率が低いため、サイド
スポットからの反射光量が充分でなくなり、トラッキン
グ制御をすることが困難であった。
【００２１】そこで、この発明では、ＲＡＤタイプのＳ
Ｒディスクを再生する際にも、安定してトラッキング制
御できるようにするものである。
Ｒディスクを再生する際にも、安定してトラッキング制
御できるようにするものである。
【００２２】
【課題を解決するための手段】この発明による光ディス
クは、情報とこの情報を読み出すための制御情報を光学
的に読み出し可能に透明基板に記録し、この透明基板上
の少なくとも情報記録部に対応して温度によって反射率
が変化する材料層を形成してなるものである。
クは、情報とこの情報を読み出すための制御情報を光学
的に読み出し可能に透明基板に記録し、この透明基板上
の少なくとも情報記録部に対応して温度によって反射率
が変化する材料層を形成してなるものである。
【００２３】また、この発明による光ディスクの製法に
よれば、情報とこの情報を読み出すための制御情報を光
学的に読み出し可能に透明基板に記録する工程と、透明
基板上の情報記録部に対応して温度によって反射率が変
化する材料層を形成する工程と、透明基板上の少なくと
も制御情報記録部に対応して反射層を形成する工程とか
らなるものである。
よれば、情報とこの情報を読み出すための制御情報を光
学的に読み出し可能に透明基板に記録する工程と、透明
基板上の情報記録部に対応して温度によって反射率が変
化する材料層を形成する工程と、透明基板上の少なくと
も制御情報記録部に対応して反射層を形成する工程とか
らなるものである。
【００２４】
【作用】この発明に係る光ディスクは、例えば透明基板
２の情報記録部に対応して材料層３が形成されると共
に、制御情報記録部に対応して反射層４が形成されたも
のとなる。この場合、ＦＡＤタイプあるいはＲＡＤタイ
プのいずれであっても、読み出し光スポットが制御情報
記録部を走査する際には、その読み出し光スポットから
充分な反射光量を得ることができ、安定したトラッキン
グ制御等を行なうことが可能となる。
２の情報記録部に対応して材料層３が形成されると共
に、制御情報記録部に対応して反射層４が形成されたも
のとなる。この場合、ＦＡＤタイプあるいはＲＡＤタイ
プのいずれであっても、読み出し光スポットが制御情報
記録部を走査する際には、その読み出し光スポットから
充分な反射光量を得ることができ、安定したトラッキン
グ制御等を行なうことが可能となる。
【００２５】
【実施例】以下、図面を参照しながら、この発明の一実
施例について説明する。
施例について説明する。
【００２６】本例の光ディスク１０では、トラッキング
方法として、周知のサンプルサーボ方式が採用される。
そのため、本例の光ディスク１０では、トラックの一周
に複数箇所のサーボ領域が設けられる。
方法として、周知のサンプルサーボ方式が採用される。
そのため、本例の光ディスク１０では、トラックの一周
に複数箇所のサーボ領域が設けられる。
【００２７】図２は、本例の光ディスク１０の全体を示
している。同図に示すように、各トラックＴＲは複数の
セグメントＳＧでもって構成される。各セグメントＳＧ
には、先頭にサーボ領域ＳＡが設けられると共に、続い
てデータ領域ＤＡが設けられる。
している。同図に示すように、各トラックＴＲは複数の
セグメントＳＧでもって構成される。各セグメントＳＧ
には、先頭にサーボ領域ＳＡが設けられると共に、続い
てデータ領域ＤＡが設けられる。
【００２８】また、所定セグメントＳＧ毎にアドレスセ
グメントＡＤ・ＳＧが設けられる。詳細説明は省略する
が、アドレスセグメントＡＤ・ＳＧの先頭にも、セグメ
ントＳＧと同様にサーボ領域ＳＡが設けられる。
グメントＡＤ・ＳＧが設けられる。詳細説明は省略する
が、アドレスセグメントＡＤ・ＳＧの先頭にも、セグメ
ントＳＧと同様にサーボ領域ＳＡが設けられる。
【００２９】図３は、各セグメントＳＧのピット構成を
示すものである。サーボ領域ＳＡの先頭には、１６トラ
ック周期で変化するグレイコードＧＣが形成される。ま
た、このグレイコードＧＣに続いて、同期クロックを得
るためのクロックピットＣＰおよびトラッキングエラー
信号を得るウォブルピットＷＰが形成される。なお、図
３において、Ｓ・ＣＬＫはサーボクロックである。
示すものである。サーボ領域ＳＡの先頭には、１６トラ
ック周期で変化するグレイコードＧＣが形成される。ま
た、このグレイコードＧＣに続いて、同期クロックを得
るためのクロックピットＣＰおよびトラッキングエラー
信号を得るウォブルピットＷＰが形成される。なお、図
３において、Ｓ・ＣＬＫはサーボクロックである。
【００３０】図１は、本例の光ディスク１０の要部の概
略的断面を示している。この図１において、図４と対応
する部分には同一符号を付して示している。
略的断面を示している。この図１において、図４と対応
する部分には同一符号を付して示している。
【００３１】本例においては、透明基板２上に、サーボ
領域ＳＡに対応してグレイコードＧＣ、クロックピット
ＣＰおよびウォブルピットＷＰが形成される（図１に
は、クロックピットＣＰを図示せず）。また、データ領
域ＤＡに対応して情報信号に応じた記録ピットＲＰが形
成される。
領域ＳＡに対応してグレイコードＧＣ、クロックピット
ＣＰおよびウォブルピットＷＰが形成される（図１に
は、クロックピットＣＰを図示せず）。また、データ領
域ＤＡに対応して情報信号に応じた記録ピットＲＰが形
成される。
【００３２】このようにグレイコードＧＣ、クロックピ
ットＣＰ、ウォブルピットＷＰおよび記録ピットＲＰが
形成された透明基板２上で、データ領域ＤＡに対応する
部分に材料層３が積層形成される。また、このように材
料層３が形成された透明基板２上の全面に反射層４が積
層形成される。
ットＣＰ、ウォブルピットＷＰおよび記録ピットＲＰが
形成された透明基板２上で、データ領域ＤＡに対応する
部分に材料層３が積層形成される。また、このように材
料層３が形成された透明基板２上の全面に反射層４が積
層形成される。
【００３３】本例においては、透明基板２として、ポリ
カーボネート基板を使用し、グレイコードＧＣ、クロッ
クピットＣＰ、ウォブルピットＷＰおよび記録ピットＲ
Ｐとして位相ピットを用いた。
カーボネート基板を使用し、グレイコードＧＣ、クロッ
クピットＣＰ、ウォブルピットＷＰおよび記録ピットＲ
Ｐとして位相ピットを用いた。
【００３４】そして、本例においては、トラックピッチ
Ｐ＝１．６μｍ、ピット深さＤｐ≒１２０ｎｍ、記録ピ
ットＲＰのピット幅Ｗ１＝ＲＰが０．３μｍ、グレイコ
ードＧＣ、クロックピットＣＰおよびウォブルピットＷ
Ｐのピット幅Ｗ２＝０．６μｍの設定条件で形成した。
Ｐ＝１．６μｍ、ピット深さＤｐ≒１２０ｎｍ、記録ピ
ットＲＰのピット幅Ｗ１＝ＲＰが０．３μｍ、グレイコ
ードＧＣ、クロックピットＣＰおよびウォブルピットＷ
Ｐのピット幅Ｗ２＝０．６μｍの設定条件で形成した。
【００３５】なお、透明基板２の材料としては、アクリ
ル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ガラス等を用いるこ
とができる。
ル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ガラス等を用いるこ
とができる。
【００３６】また、材料層３としては、以下の条件を満
足するものが使用される。すなわち、読み出し光の熱に
より、読み出し光スポット内で部分的に状態変化を起こ
し、かつ読み出し光通過後に初期状態に戻り、さらに状
態変化によって反射率が変化するものである。
足するものが使用される。すなわち、読み出し光の熱に
より、読み出し光スポット内で部分的に状態変化を起こ
し、かつ読み出し光通過後に初期状態に戻り、さらに状
態変化によって反射率が変化するものである。
【００３７】ここでいう状態変化とは、結晶から液体、
非晶質から液体となる融点を境界とする変化である。こ
の場合、結晶から液体になるものは、反射率の変化が大
きいので望ましい。
非晶質から液体となる融点を境界とする変化である。こ
の場合、結晶から液体になるものは、反射率の変化が大
きいので望ましい。
【００３８】上述した条件を満足するものとして、Ｓ
ｅ、Ｔｅ、Ｂｉ、Ｃｅ、Ｓｂ、Ｐｂ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｓ
ｎ、Ｉｎ等の単体、もしくはこれらの２種類以上を合金
としたものが挙げられる。本例においては、材料層３と
して、Ｇｅ2Ｓｂ2Ｔｅ3三元化合物を使用した。
ｅ、Ｔｅ、Ｂｉ、Ｃｅ、Ｓｂ、Ｐｂ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｓ
ｎ、Ｉｎ等の単体、もしくはこれらの２種類以上を合金
としたものが挙げられる。本例においては、材料層３と
して、Ｇｅ2Ｓｂ2Ｔｅ3三元化合物を使用した。
【００３９】上述したようにサーボ領域ＳＡに対応する
部分に材料層３が積層しないようにするため、本例にお
いては材料層３の成膜後にフォトリソグラフィを用い
て、サーボ領域ＳＡに対応する部分の材料層３を取り除
いた。
部分に材料層３が積層しないようにするため、本例にお
いては材料層３の成膜後にフォトリソグラフィを用い
て、サーボ領域ＳＡに対応する部分の材料層３を取り除
いた。
【００４０】サーボ領域ＳＡに材料層３が積層しないよ
うにするには、この他に、成膜時に遮蔽板を取り付ける
方法や、サーボ領域ＳＡにリフトオフ層を設けて材料層
３の形成後に除去する方法等を用いることができる。
うにするには、この他に、成膜時に遮蔽板を取り付ける
方法や、サーボ領域ＳＡにリフトオフ層を設けて材料層
３の形成後に除去する方法等を用いることができる。
【００４１】また、反射層４としては、Ａｌ、Ａｕ、Ａ
ｇ、Ｐｔ等の反射率の高い金属が用いられる。本例にお
いては、反射層４としてＡｌを使用した。
ｇ、Ｐｔ等の反射率の高い金属が用いられる。本例にお
いては、反射層４としてＡｌを使用した。
【００４２】このように形成された光ディスク１０に対
して、レーザ光を照射すると、レーザスポット内で光強
度分布に応じて温度が上昇する。そして、融点を越えた
部分で反射率が増加し、データ領域ＤＡの記録ピットＲ
Ｐより情報の読み出しが可能となる。すなわち、本例の
光ディスク１０は、ＲＡＤタイプのＳＲディスクを構成
することとなる。
して、レーザ光を照射すると、レーザスポット内で光強
度分布に応じて温度が上昇する。そして、融点を越えた
部分で反射率が増加し、データ領域ＤＡの記録ピットＲ
Ｐより情報の読み出しが可能となる。すなわち、本例の
光ディスク１０は、ＲＡＤタイプのＳＲディスクを構成
することとなる。
【００４３】また、サーボ領域ＳＡに対応する部分に
は、材料層３が積層されないようにすると共に反射層４
が積層されるので、レーザスポットがサーボ領域ＳＡを
走査する際には、そのレーザスポットから充分な反射光
量を得ることができるので、安定したトラッキング制御
等を行なうことができる。
は、材料層３が積層されないようにすると共に反射層４
が積層されるので、レーザスポットがサーボ領域ＳＡを
走査する際には、そのレーザスポットから充分な反射光
量を得ることができるので、安定したトラッキング制御
等を行なうことができる。
【００４４】なお、図１の例においては、サーボ領域Ｓ
Ａに対応部分に材料層３が積層しないようにしたもので
あるが、材料層３の材料構成や厚さ等の諸条件の選定に
よって、光ディスク１０が材料層３の初期反射率の高い
ＦＡＤタイプのものとなるときは、サーボ領域ＳＡに対
応する部分にも材料層３を積層し、この材料層３による
反射を利用する構成とすることもできる。この場合、反
射層４は不要となる。
Ａに対応部分に材料層３が積層しないようにしたもので
あるが、材料層３の材料構成や厚さ等の諸条件の選定に
よって、光ディスク１０が材料層３の初期反射率の高い
ＦＡＤタイプのものとなるときは、サーボ領域ＳＡに対
応する部分にも材料層３を積層し、この材料層３による
反射を利用する構成とすることもできる。この場合、反
射層４は不要となる。
【００４５】これに対して、初期反射率の低いＲＡＤタ
イプのものでは、サーボ領域ＳＡに対応する部分に材料
層３を積層する構成とすることはできない。この場合、
融点を越えた部分で反射率が増加するが、その反射率の
増加領域は狭く歪んでおり、反射光量が不安定かつ不充
分となるため、トラッキング制御等を良好に行なうこと
は不可能である。
イプのものでは、サーボ領域ＳＡに対応する部分に材料
層３を積層する構成とすることはできない。この場合、
融点を越えた部分で反射率が増加するが、その反射率の
増加領域は狭く歪んでおり、反射光量が不安定かつ不充
分となるため、トラッキング制御等を良好に行なうこと
は不可能である。
【００４６】なお、図１の例において、サーボ領域ＳＡ
に対応する部分に材料層３を積層した光ディスク形成し
て、これを再生する実験をしたが、制御不能となって再
生を行なうことができなかった。
に対応する部分に材料層３を積層した光ディスク形成し
て、これを再生する実験をしたが、制御不能となって再
生を行なうことができなかった。
【００４７】また、図１の例においては、全面に反射層
４を積層したものであるが、データ領域ＤＡに対応する
部分には積層しないように構成してもよい。
４を積層したものであるが、データ領域ＤＡに対応する
部分には積層しないように構成してもよい。
【００４８】さらに、図１の例においては、記録ピット
ＲＰ等として位相ピットを用いているが、これに限定さ
れるものではなく、光学的に読み出し可能なものであれ
ばよい。
ＲＰ等として位相ピットを用いているが、これに限定さ
れるものではなく、光学的に読み出し可能なものであれ
ばよい。
【００４９】
【発明の効果】この発明によれば、例えば透明基板の情
報記録部に対応して材料層が形成されると共に、制御情
報記録部に対応して反射層が形成されたものとなり、Ｆ
ＡＤタイプあるいはＲＡＤタイプのいずれであっても、
読み出し光スポットが制御情報記録部を走査する際に
は、その読み出し光スポットから充分な反射光量を得る
ことができ、安定したトラッキング制御等を行なうこと
ができる。
報記録部に対応して材料層が形成されると共に、制御情
報記録部に対応して反射層が形成されたものとなり、Ｆ
ＡＤタイプあるいはＲＡＤタイプのいずれであっても、
読み出し光スポットが制御情報記録部を走査する際に
は、その読み出し光スポットから充分な反射光量を得る
ことができ、安定したトラッキング制御等を行なうこと
ができる。
【図１】実施例の構成を示す要部概略断面図である。
【図２】実施例の全体構成を示す図である。
【図３】セグメントのピット構成を示す図である。
【図４】光ディスクの一例の構成を示す要部概略断面図
である。
である。
【図５】レーザスポットの光強度分布と光ディスクの温
度分布（反射率）との関係を示す図である。
度分布（反射率）との関係を示す図である。
２ 透明基板 ３ 材料層 ４ 反射層 １０ 光ディスク ＳＧ セグメント ＤＡ データ領域 ＳＡ サーボ領域 ＧＣ グレイコード ＣＰ クロックピット ＷＰ ウォブリングピット ＲＰ 記録ピット
Claims (3)
- 【請求項１】 情報とこの情報を読み出すための制御情
報を光学的に読み出し可能に透明基板に記録し、この透
明基板上の少なくとも上記情報記録部に対応して温度に
よって反射率が変化する材料層を形成してなる光ディス
ク。 - 【請求項２】 上記情報は、位相ピットをもって記録す
ることを特徴とする請求項１記載の光ディスク。 - 【請求項３】 情報とこの情報を読み出すための制御情
報を光学的に読み出し可能に透明基板に記録する工程
と、 上記透明基板上の上記情報記録部に対応して温度によっ
て反射率が変化する材料層を形成する工程と、 上記透明基板上の少なくとも上記制御情報記録部に対応
して反射層を形成する工程とからなる光ディスクの製
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26461191A JP3166238B2 (ja) | 1991-10-14 | 1991-10-14 | 光記録媒体および光記録媒体の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26461191A JP3166238B2 (ja) | 1991-10-14 | 1991-10-14 | 光記録媒体および光記録媒体の製法 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05109117A true JPH05109117A (ja) | 1993-04-30 |
| JP3166238B2 JP3166238B2 (ja) | 2001-05-14 |
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ID=17405734
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26461191A Expired - Fee Related JP3166238B2 (ja) | 1991-10-14 | 1991-10-14 | 光記録媒体および光記録媒体の製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3166238B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5809006A (en) * | 1996-05-31 | 1998-09-15 | Cagent Technologies, Inc. | Optical disk with copy protection, and apparatus and method for recording and reproducing same |
| US6329036B1 (en) | 1998-12-09 | 2001-12-11 | Tdk Corporation | Optical recording medium and use |
| US6461710B1 (en) | 1998-12-09 | 2002-10-08 | Tdk Corporation | Optical recording medium |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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-
1991
- 1991-10-14 JP JP26461191A patent/JP3166238B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5809006A (en) * | 1996-05-31 | 1998-09-15 | Cagent Technologies, Inc. | Optical disk with copy protection, and apparatus and method for recording and reproducing same |
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| US6461710B1 (en) | 1998-12-09 | 2002-10-08 | Tdk Corporation | Optical recording medium |
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