JPH05105850A - エレクトロニクス用接着テープ - Google Patents

エレクトロニクス用接着テープ

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JPH05105850A
JPH05105850A JP3267709A JP26770991A JPH05105850A JP H05105850 A JPH05105850 A JP H05105850A JP 3267709 A JP3267709 A JP 3267709A JP 26770991 A JP26770991 A JP 26770991A JP H05105850 A JPH05105850 A JP H05105850A
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JP
Japan
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dianhydride
adhesive
adhesive tape
bis
resin
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Application number
JP3267709A
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English (en)
Inventor
Toshio Suzuki
敏夫 鈴木
Takuya Tochimoto
卓哉 栃本
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Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 耐熱性フィルム基材と該基材の片面または両
面の接着層とからなる接着テープにおいて、該接着層を
形成する樹脂がガラス転移温度が350℃以下の3,3',4,4'
-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、4,4'-オキ
シジフタル酸二無水物、エチレングリコールビストリメ
リット酸エステル二無水物、および3,3',4,4'-ビフェニ
ルテトラカルボン酸二無水物から選ばれた1種または2
種以上のテトラカルボン酸二無水物と、2,2-ビス(4-(4-
アミノフェノキシ)フェニル)プロパンおよび1,3-ビス(3
-アミノフェノキシ)ベンゼンから選ばれた1種または2
種のジアミンを必須成分として形成されたポリイミド樹
脂である接着テープ。 【効果】 耐熱性と接着作業性を両立させた信頼性の高
いフィルム接着剤を得ることができ、半導体実装材料な
どのエレクトロニクス用途において工業的に極めて利用
価値が高い。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、耐熱性に優れたエレク
トロニクス用途、特に半導体実装材料として適したシリ
コン基板や金属に対する接着力が優れた接着テープに関
するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、半導体素子は高機能大容量化によ
って大型化と高細精化が進んでいる。実装技術に対して
もより一層精密でかつ量産性に優れたするものが求めら
れている。その中で接着テープは、ハンドリングの良さ
とイオン性不純物が少ないことから金属半田に替って使
用される場面が増えている。例えばリードの固定、半導
体チップとリードフレームとの接着などである。この接
着テープにはリードフレームや半導体チップに対し優れ
た接着力を示し、特に吸湿時に界面が剥離しないこと、
リフロー半田時や温度サイクルなどの熱応力を受けた時
に界面が剥離しないこと、など優れた接着力が要求され
る。また、加熱接着時に揮発成分が多いことは、作業環
境やリードなどを汚染することから好ましくない。さら
に量産性を考えると接着はできる限り短時間で可能ある
ことが望まれる。
【0003】従来、これらの用途にはペースト状の接着
剤や耐熱性基材に接着剤を塗布したものが使用されてい
る。接着剤としてはエポキシ樹脂系、アクリル樹脂系、
ゴム−フェノール樹脂系の熱硬化型樹脂が使用されてい
るが、イオン性不純物が多い、加熱硬化に長時間を要し
生産性が悪い、加熱硬化時の揮発分が多い、吸湿性が高
い、など上記の要求を満たしているとは言い難く、満足
できる材料が見あたらない。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、短時間で接
着可能な耐熱性に優れた接着テープを得るべく鋭意研究
を重ねた結果、特定のポリイミド樹脂を耐熱性フィルム
に塗布した接着テープが上記課題を解決することを見出
し本発明に到達したものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、耐熱性樹脂フ
ィルムの片面、または両面にガラス転移温度が350℃以
下のポリイミド結合を有する樹脂を塗布して得られる短
時間で接着可能な耐熱性の接着テープである。
【0006】接着層を形成するポリイミド結合を有する
樹脂は、3,3',4,4'-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二
無水物(式(1)、Z=CO、以下BTDAと略す)、4,
4'-オキシジフタル酸二無水物(式(1)、Z=O、以下O
DPAと略す)、3,3',4,4'-ビフェニルテトラカルボン
酸二無水物(式(2)、以下BPDAと略す)、およびエ
チレングリコールビストリメリット酸二無水物テトラカ
ルボン酸二無水物(式(3)、以下TMEGと略す)から
選ばれた1種または2種以上のテトラカルボン酸二無水
物と2,2-ビス(4-(4-アミノフェノキシ)フェニル)プロパ
ン(式(4)、以下BAPPと略す)および/または1,3-
ビス(3-アミノフェノキシ)ベンゼン(式(5)、以下AP
Bと略す)を必須成分とする。
【0007】
【化1】
【0008】さらに本発明では酸成分として上記のテト
ラカルボン酸二無水物の他に、例えば1,2,4,5-ベンゼン
テトラカルボン酸二無水物(PMDA)、2,2'-ビス(4-
(3,4-ジカルボキシフェニルカルボキシ)フェニル)プロ
パンなどのテトラカルボン酸二無水物、さらには分子量
調節剤として無水フタル酸などのジカルボン酸無水物を
使用することができるが、必須成分であるテトラカルボ
ン酸二無水物は全酸成分の50モル%以上、より好ましく
は70モル%以上である。必須成分が50モル%以下の場合
にはガラス転移温度が高くなり接着に際し著しく高い温
度を必要とする、あるいは接着力が劣るため好ましくな
い。
【0009】同様にジアミンも上記必須成分以外の、例
えば1,3-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4'-ジ
アミノジフェニルエーテル(4,4'-DDE)、3,3'-ジア
ミノジフェニルエーテル(3,3'-DDE)、3,4'-ジアミ
ノジフェニルエーテル(3,4'-DDE)、4,4'-ジアミノ
ジフェニルスルフォン(4,4'-DDS)、3,3'-ジアミノ
ジフェニルスルフォン(4,4'-DDS)、2,2-ビス-4-ア
ミノフェニルヘキサフルオロプロパン(bis-A
F)、2,2-ビス-4-アミノフェノキシフェニルヘキサフ
ルオロプロパン(bis-AF-A)、ビス-4-(4-アミノ
フェノキシ)フェニルスルフォン(BAPS)、ビス-4-
(3-アミノフェノキシ)フェニルスルフォン(BAPS
M)、4,4'-ジアミノベンズアニリド(DABAN)、
m-フェニレンジアミン、p-フェニレンジアミン、4,4'
-ジアミノジフェニルメタンなどのジアミンを使用する
ことができるが、必須成分であるジアミン化合物は全ジ
アミン成分の50モル%以上、より好ましくは70モル%以
上である。この場合も酸成分と同様、50モル%以下の場
合にはガラス転移温度が高くなり接着に際し著しく高い
温度を必要とする、接着力が劣るなどの欠点が生じるた
め好ましくない。
【0010】テトラカルボン酸二無水物とジアミンとの
反応は、非プロトン性極性溶媒中で公知の方法で行われ
る。非プロトン性極性溶媒は、N,N-ジメチルホルムアミ
ド(DMF)、N,N-ジメチルアセトアミド(DMA
C)、N-メチル-2-ピロリドン(NMP)、テトラヒド
ロフラン(THF)、ジグライムなどである。非プロト
ン性極性溶媒は、一種類のみ用いてもよいし、二種類以
上を混合して用いてもよい。この時、上記非プロトン性
極性溶媒と相溶性がある非極性溶媒を混合して使用して
も良い。トルエン、キシレン、ソルベントナフサなどの
芳香族炭化水素が良く使用される。混合溶媒における非
極性溶媒の割合は、30重量%以下であることが好まし
い。これは非極性溶媒が30重量%以上では溶媒の溶解力
が低下しポリアミック酸が析出するためである。
【0011】テトラカルボン酸二無水物とジアミンとの
反応は、良く乾燥したジアミン成分を脱水精製した溶媒
に溶解し、これに閉環率98%、より好ましくは99%以
上の良く乾燥したテトラカルボン酸二無水物を添加して
反応を進める。
【0012】重縮合反応における酸成分とアミン成分の
モル比は、得られるポリアミック酸の分子量を決定する
重要な因子である。ポリマの分子量と物性、特に数平均
分子量と機械的性質の間に相関があることは良く知られ
ている。数平均分子量が大きいほど機械的性質が優れて
いる。したがって、接着剤として実用的に優れた強度を
得るためには、ある程度高分子量であることが必要であ
る。本発明では、酸モノマとアミンモノマのモル比rが 0.950 ≦ r ≦ 1.02 より好ましくは、 0.975 ≦ r ≦ 1.02 の範囲にあることが好ましい。ただし、r=[全酸成分
のモル数]/[全アミン成分のモル数]である。rが0.
950以下では分子量が低くて脆くなるため接着力が弱く
なる。また酸が過剰にあると未反応のカルボン酸が加熱
時に脱炭酸してガス発生、発泡の原因となり好ましくな
いことがある。
【0013】このようにして得たポリアミック酸溶液を
耐熱性基材に塗布し、続いてこれを加熱脱水環化しポリ
イミドに転化し接着テープとする。または溶液状態で加
熱脱水環化しポリイミド溶液とし、これを耐熱性基材に
塗布して接着テープとする。なお、ポリアミック酸溶
液、ポリイミド溶液に表面平滑性を出すための平滑剤、
レベリング剤、脱泡剤などの各種添加剤を必要に応じて
添加することができる。
【0014】本発明において使用する耐熱性基材は、ポ
リイミド樹脂フィルムが熱膨張係数が小さく温度変化に
対する寸法安定性に優れていること、可撓性に富み取扱
い易いこと、本発明の接着樹脂との密着力などの点で最
も好ましい。特に、式(6)、または式(7)で示される構造
のポリイミド樹脂からなるフィルムが好ましい。
【0015】
【化2】
【0016】ワニスの基材への塗布乾燥は、熱風乾燥炉
とロールコーターを組み合わせた装置などを用いること
ができる。接着樹脂ワニスを塗工後、熱風乾燥炉に導き
該接着樹脂ワニスがポリアミック酸ワニスであるときは
イミド化に十分な高温で、該接着樹脂ワニスがポリイミ
ドワニスであるときは溶剤を揮散させるに十分な温度と
風速でもって乾燥する。
【0017】本発明の接着テープの使用方法は特に限定
されるものではないが、所定の形状に切断した接着テー
プを加熱したヒートブロックで熱圧着して接着する。以
下実施例で本発明を詳細に説明するが、これらの実施例
に限定されるものではない。
【0018】
【実施例】
(実施例1)乾燥窒素ガス導入管、塩化カルシウム乾燥
管付き冷却器、温度計、撹拌機を備えた四口フラスコに
脱水精製したNMP1170gとキシレン130gを入れ、窒
素ガスを流しながら10分間激しくかき混ぜる。次に2,2-
ビス(4-(4-アミノフェノキシ)フェニル)プロパン73.08
g(0.25モル)と1,3-ビス(3-アミノフェノキシ)ベンゼ
ン102.63g(0.25モル)を投入し、系を60℃に加熱し均
一になるまでかき混ぜる。均一に溶解後、系を氷水浴で
5℃に冷却し、3,3',4,4'-ビフェニルテトラカルボン酸
二無水物101.43g(0.345モル)と3,3',4,4'-ベンゾフ
ェノンテトラカルボン酸二無水物47.61g(0.148モル)
を粉末状のまま15分間かけて添加し、その後3時間撹拌
を続けた。この間フラスコは5℃に保った。
【0019】このようにして調製したポリアミック酸溶
液を厚さ50μmのポリイミドフィルム(ユーピレックス
S,宇部興産株式会社製)に塗布し、熱風循環式乾燥機
で120℃で1時間、200℃で1時間、300℃で1時間加熱
処理した。冷却後フィルムの厚みを測定し、接着層の厚
みを計算したところ22μmであった。得られたフィルム
の接着面は、室温では全く粘着性を示さずタックフリー
であった。
【0020】この接着フィルムを25mm×50mmの大きさに
切り接着テープとし、35μm電解銅箔の黒処理をしてい
ない金属光沢のある面にリン青銅製のヒートブロックを
有する熱プレスで接着して試験片を作製した。接着条件
は、310℃20秒間で、接着面にかかる圧力はゲージ圧力
と接着面積から計算の結果7kg/cm2であった。この試
験片の180度ピール強度は1.50kgf/cmであった。また、
85℃85%の環境下で168時間処理後の180度ピール強度は
1.39kgf/cmであり、銅に対し優れた接着力を示した。
破断面は接着樹脂層が凝集破壊し、基材のポリイミドフ
ィルムに対しても優れた接着力を示していることが分か
った。これらの結果を第1表に示す。
【0021】(実施例2〜5、比較例1〜4)実施例1
と同様の方法にて接着テープを得た。これらの接着テー
プの性能を第1表、第2表に示す。
【0022】
【表1】
【0023】
【表2】
【0024】実施例1〜5に示すように、本発明の必須
成分からなるポリイミド樹脂を接着剤とするものは、銅
に対する優れた接着力を示すとともに、基材のポリイミ
ドフィルムに対しても優れた接着力を示す。一方、比較
例では接着性が極めて劣ることが分かる。
【0025】
【発明の効果】本発明によれば、耐熱性と接着作業性を
両立させた信頼性の高いフィルム接着剤を提供すること
が可能で、半導体実装材料として工業的に極めて利用価
値が高い。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成4年4月13日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正内容】
【書類名】 明細書
【発明の名称】 エレクトロニクス用接着テープ
【特許請求の範囲】
【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、耐熱性に優れたエレク
トロニクス用途、特に半導体実装材料として適したシリ
コン基板や金属に対する接着力が優れた接着テープに関
するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、半導体素子は高機能大容量化によ
って大型化と高精細化が進んでいる。実装技術に対して
もより一層精密でかつ量産性に優れたものが求められて
いる。その中で接着テープは、ハンドリングの良さとイ
オン性不純物が少ないことから金属半田に替って使用さ
れる場面が増えている。例えばリードの固定、半導体チ
ップとリードフレームとの接着などである。この接着テ
ープにはリードフレームや半導体チップに対し優れた接
着力を示し、特に吸湿時に界面が剥離しないこと、リフ
ロー半田時や温度サイクルなどの熱応力を受けた時に界
面が剥離しないことなど優れた接着力が要求される。ま
た、加熱接着時に揮発成分が多いことは、作業環境やリ
ードなどを汚染することから好ましくない。さらに量産
性を考えると接着はできる限り短時間で可能あることが
望まれる。
【0003】従来、これらの用途にはペースト状の接着
剤や耐熱性基材に接着剤を塗布したものが使用されてい
る。接着剤としてはエポキシ樹脂系、アクリル樹脂系、
ゴム−フェノール樹脂系の熱硬化型樹脂が使用されてい
るが、イオン性不純物が多い、加熱硬化に長時間を要し
生産性が悪い、加熱硬化時の揮発分が多い、吸湿性が高
い、など上記の要求を満たしているとは言い難く、満足
できる材料が見あたらない。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、短時間で接
着可能な耐熱性に優れた接着テープを得るべく鋭意研究
を重ねた結果、特定のポリイミド樹脂を耐熱性フィルム
に塗布した接着テープが上記課題を解決することを見出
し本発明に到達したものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、耐熱性樹脂フ
ィルムの片面、または両面にガラス転移温度が350℃以
下のポリイミド結合を有する樹脂を塗布して得られる短
時間で接着可能な耐熱性の接着テープである。ガラス転
移温度が350℃以下であるため、接着剤や基材を構成す
る有機化合物の分解を防ぐことが可能で、ガスの発生、
分解生成物の被着材への付着がなく、また被着材の熱に
よる変質をも防ぐことが可能である。
【0006】接着層を形成するポリイミド結合を有する
樹脂は、3,3',4,4'-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二
無水物(式(1)、Z=CO、以下BTDAと略す)、4,
4'-オキシジフタル酸二無水物(式(1)、Z=O、以下O
DPAと略す)、3,3',4,4'-ビフェニルテトラカルボン
酸二無水物(式(2)、以下BPDAと略す)、およびエ
チレングリコールビストリメリット酸エステル二無水物
(式(3)、以下TMEGと略す)から選ばれた1種また
は2種以上のテトラカルボン酸二無水物と2,2-ビス(4-(4-
アミノフェノキシ)フェニル)プロパン(式(4)、以下B
APPと略す)および/または1,3-ビス(3-アミノフェ
ノキシ)ベンゼン(式(5)、以下APBと略す)を必須成
分とする。
【0007】
【化1】
【0008】さらに本発明では酸成分として上記のテト
ラカルボン酸二無水物の他に、例えば1,2,4,5-ベンゼン
テトラカルボン酸二無水物(PMDA)、2,2'-ビス(4-
(3,4-ジカルボキシフェニルカルボキシ)フェニル)プロ
パンなどのテトラカルボン酸二無水物、さらには分子量
調節剤として無水フタル酸などのジカルボン酸無水物を
併せて使用することができるが、必須成分であるテトラ
カルボン酸二無水物は全酸成分の50モル%以上、より好
ましくは70モル%以上である。必須成分が50モル%未満
の場合には、ガラス転移温度が高くなり接着に際し著し
く高い温度を必要とし、あるいは接着力が劣るため好ま
しくない。
【0009】同様にジアミンも上記必須成分以外の、例
えば1,3-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4'-ジ
アミノジフェニルエーテル(4,4'-DDE)、3,3'-ジア
ミノジフェニルエーテル(3,3'-DDE)、3,4'-ジアミ
ノジフェニルエーテル(3,4'-DDE)、4,4'-ジアミノ
ジフェニルスルフォン(4,4'-DDS)、3,3'-ジアミノ
ジフェニルスルフォン(3,3'-DDS)、2,2-ビス-4-ア
ミノフェニルヘキサフルオロプロパン(bis-A
F)、2,2-ビス-4-アミノフェノキシフェニルヘキサフ
ルオロプロパン(bis-AF-A)、ビス-4-(4-アミノ
フェノキシ)フェニルスルフォン(BAPS)、ビス-4-
(3-アミノフェノキシ)フェニルスルフォン(BAPS
M)、4,4'-ジアミノベンズアニリド(DABAN)、
m-フェニレンジアミン、p-フェニレンジアミン、4,4'
-ジアミノジフェニルメタンなどのジアミンを使用する
ことができるが、必須成分であるジアミン化合物は全ジ
アミン成分の50モル%以上、より好ましくは70モル%以
上である。この場合も酸成分と同様、50モル%以下の場
合にはガラス転移温度が高くなり接着に際し著しく高い
温度を必要とする、接着力が劣るなどの欠点が生じるた
め好ましくない。
【0010】テトラカルボン酸二無水物とジアミンとの
反応は、非プロトン性極性溶媒中で公知の方法で行われ
る。非プロトン性極性溶媒は、N,N-ジメチルホルムアミ
ド(DMF)、N,N-ジメチルアセトアミド(DMA
C)、N-メチル-2-ピロリドン(NMP)、テトラヒド
ロフラン(THF)、ジグライムなどである。非プロト
ン性極性溶媒は、一種類のみ用いてもよいし、二種類以
上を混合して用いてもよい。この時、上記非プロトン性
極性溶媒と相溶性がある非極性溶媒を混合して使用して
も良い。トルエン、キシレン、ソルベントナフサなどの
芳香族炭化水素が良く使用される。混合溶媒における非
極性溶媒の割合は、30重量%以下であることが好まし
い。これは非極性溶媒が30重量%以上では溶媒の溶解力
が低下しポリアミック酸が析出するためである。
【0011】テトラカルボン酸二無水物とジアミンとの
反応は、良く乾燥したジアミン成分を脱水精製した溶媒
に溶解し、これに閉環率98%、より好ましくは99%以上
の良く乾燥したテトラカルボン酸二無水物を添加して反
応を進める。
【0012】重縮合反応における酸二無水物成分とジア
ミン成分のモル比は、得られるポリアミック酸の分子量
を決定する重要な因子である。ポリマの分子量と物性、
特に数平均分子量と機械的性質の間に相関があることは
良く知られている。数平均分子量が大きいほど機械的性
質が優れている。したがって、接着剤として実用的に優
れた強度を得るためには、ある程度高分子量であること
が必要である。本発明では、酸二無水物成分とジアミン
成分のモル比rが 0.950 ≦ r ≦ 1.02 より好ましくは、 0.975 ≦ r ≦ 1.02 の範囲にあることが好ましい。ただし、r=[全酸成分
のモル数]/[全アミン成分のモル数]である。rが0.
950未満では、分子量が低くて脆くなるため接着力が弱
くなる。また1.02を越えると、未反応のカルボン酸が加
熱時に脱炭酸してガス発生、発泡の原因となり好ましく
ないことがある。
【0013】このようにして得たポリアミック酸溶液を
耐熱性基材に塗布し、続いてこれを加熱脱水環化しポリ
イミドに転化し接着テープとする。または溶液状態で加
熱脱水環化しポリイミド溶液とし、これを耐熱性基材に
塗布して接着テープとする。なお、ポリアミック酸溶
液、ポリイミド溶液に表面平滑性を出すための平滑剤、
レベリング剤、脱泡剤などの各種添加剤を必要に応じて
添加することができる。
【0014】本発明において使用する耐熱性基材は、耐
熱性樹脂フィルム、金属箔、ガラス基材エポキシ樹脂積
層板などがあげられる。中でもポリイミド樹脂フィルム
が熱膨張係数が小さく温度変化に対する寸法安定性に優
れていること、可撓性に富み取扱い易いこと、本発明の
接着樹脂との密着力などの点で最も好ましい。特に、式
(6)、または式(7)で示される構造のポリイミド樹脂から
なるフィルムが好ましい。
【0015】
【化2】
【0016】ワニスの基材への塗布乾燥は、熱風乾燥炉
とロールコーターを組み合わせた装置などを用いること
ができる。樹脂ワニスを塗工後、熱風乾燥炉に導き、該
樹脂ワニスがポリアミック酸ワニスであるときはイミド
化に十分な高温で、該樹脂ワニスがポリイミドワニスで
あるときは溶剤を揮散させるに十分な温度と風速でもっ
て乾燥する。
【0017】イミド化の条件は、ポリイミド皮膜が形成
される以前に、始めから強い加熱を行うと、粗面となっ
たり引きつったりするので、加熱は低温から徐々に高く
する様にした方が好ましい。例えば、100℃から350℃ま
で0.5時間以上かけて連続的に加熱する。0.5時間未満で
あると膜厚にもよるが、脱溶媒が不充分であったり、イ
ミドの閉環が不充分で特性が発揮されないことがある。
また例えば、100℃で30分、次いで150℃で30分、200℃
で30分、250℃で30分、300℃で30分、350℃で30分とい
う具合に段階的に昇温してもよい。
【0018】本発明の接着テープの使用方法は特に限定
されるものではないが、所定の形状に切断した接着テー
プを加熱したヒートブロックで熱圧着して接着する。本
発明の接着層を形成するポリイミド樹脂のガラス転移温
度は350℃以下であり、ポリイミド樹脂やポリイミド樹
脂中に微量含まれる溶剤、基材を構成する有機化合物の
分解がないため、接着作業環境や被着材を汚染すること
がない。このため加熱時の発生ガスに起因する接着不良
を著しく改善することができる。また、被着材の変質を
も防ぐことができる。以下実施例で本発明を詳細に説明
するが、これらの実施例に限定されるものではない。
【0019】
【実施例】 (実施例1)乾燥窒素ガス導入管、塩化カルシウム乾燥
管付き冷却器、温度計、撹拌機を備えた四口フラスコに
脱水精製したNMP1170gとキシレン130gを入れ、窒
素ガスを流しながら10分間激しくかき混ぜる。次に2,2-
ビス(4-(4-アミノフェノキシ)フェニル)プロパン73.08
g(0.25モル)と1,3-ビス(3-アミノフェノキシ)ベンゼ
ン102.63g(0.25モル)を投入し、系を60℃に加熱し均
一になるまでかき混ぜる。均一に溶解後、系を氷水浴で
5℃に冷却し、3,3',4,4'-ビフェニルテトラカルボン酸
二無水物101.43g(0.345モル)と3,3',4,4'-ベンゾフ
ェノンテトラカルボン酸二無水物47.61g(0.148モル)
を粉末状のまま15分間かけて添加し、その後3時間撹拌
を続けた。この間フラスコは5℃に保った。
【0020】このようにして調製したポリアミック酸溶
液を厚さ50μmのポリイミドフィルム(ユーピレックス
S,宇部興産株式会社製)に塗布し、熱風循環式乾燥機
で120℃で1時間、200℃で1時間、300℃で1時間加熱
処理した。冷却後フィルムの厚みを測定し、接着層の厚
みを計算したところ22μmであった。得られたフィルム
の接着面は、室温では全く粘着性を示さずタックフリー
であった。
【0021】この接着フィルムを25mm×50mmの大きさに
切り接着テープとし、35μm電解銅箔の黒処理をしてい
ない金属光沢のある面にリン青銅製のヒートブロックを
有する熱プレスで接着して試験片を作製した。接着条件
は、310℃20秒間で、接着面にかかる圧力はゲージ圧力
と接着面積から計算の結果7kg/cm2であった。この試
験片の180度ピール強度は1.50kgf/cmであった。また、
85℃85%の環境下で168時間処理後の180度ピール強度は
1.39kgf/cmであり、銅に対し優れた接着力を示した。
破断面は接着樹脂層が凝集破壊し、基材のポリイミドフ
ィルムに対しても優れた接着力を示していることが分か
った。これらの結果を第1表に示す。
【0022】(実施例2〜5、比較例1〜4)実施例1
と同様の方法にて接着テープを得た。これらの接着テー
プの性能を第1表、第2表に示す。
【0023】
【表1】
【0024】
【表2】
【0025】実施例1〜5に示すように、本発明の必須
成分からなるポリイミド樹脂を接着剤とするものは、銅
に対する優れた接着力を示すとともに、基材のポリイミ
ドフィルムに対しても優れた接着力を示す。一方、比較
例では接着性が極めて劣ることが分かる。
【0026】
【発明の効果】本発明によれば、耐熱性と接着作業性を
両立させた信頼性の高いフィルム接着剤を提供すること
が可能で、半導体実装材料として工業的に極めて利用価
値が高い。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 耐熱性基材と、該基材の片面または両面
    の接着層とからなる接着テープにおいて、該接着層を形
    成する樹脂がガラス転移温度が350℃以下のポリイミド
    結合を有する樹脂であることを特徴とする接着テープ。
  2. 【請求項2】 耐熱性基材がポリイミド樹脂フィルムで
    あることを特徴とする請求項1記載の接着テープ。
  3. 【請求項3】 ポリイミド結合を有する樹脂が3,3',4,
    4'-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、4,4'-オ
    キシジフタル酸二無水物、エチレングリコールビストリ
    メリット酸二無水物、および3,3',4,4'-ビフェニルテト
    ラカルボン酸二無水物から選ばれた1種または2種以上
    のテトラカルボン酸二無水物と、2,2-ビス(4-(4-アミノ
    フェノキシ)フェニル)プロパンおよび1,3-ビス(3-アミ
    ノフェノキシ)ベンゼンから選ばれた1種または2種の
    アミンを必須成分とするポリイミド樹脂であることを特
    徴とする請求項1および請求項2記載の接着テープ。
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