JPH0498826A - 拡散炉の温度設定方法 - Google Patents
拡散炉の温度設定方法Info
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- JPH0498826A JPH0498826A JP21634290A JP21634290A JPH0498826A JP H0498826 A JPH0498826 A JP H0498826A JP 21634290 A JP21634290 A JP 21634290A JP 21634290 A JP21634290 A JP 21634290A JP H0498826 A JPH0498826 A JP H0498826A
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- quartz tube
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- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 title claims description 7
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- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 36
- 238000002791 soaking Methods 0.000 claims description 12
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、半導体製造装置の拡散炉の温度設定方法に間
する。
する。
〈従来の技術〉
例えば半導体ウェハに酸化膜を形成したり不純物を拡散
させる場合は1石英管中にウェハを配!し、必要なガス
を流しながら行う。この場合の温度管理は品質に大きく
影響する。
させる場合は1石英管中にウェハを配!し、必要なガス
を流しながら行う。この場合の温度管理は品質に大きく
影響する。
第2図はこの様な石英管の内部の温度を制御するための
従来例を示す構成説明図である。第2図において1は石
英管であり、この石英管の内部には複数の第1の測温体
Tp1.Tpc、TpI2が配!されている。2は石英
管1の外周を囲んで配置された均熱管であり、この均熱
管の外周には複数のヒータ3a〜3Cが配置されている
。HL。
従来例を示す構成説明図である。第2図において1は石
英管であり、この石英管の内部には複数の第1の測温体
Tp1.Tpc、TpI2が配!されている。2は石英
管1の外周を囲んで配置された均熱管であり、この均熱
管の外周には複数のヒータ3a〜3Cが配置されている
。HL。
Hc 、HRはヒータの温度制御器である。TCL。
TCC,TC12は均熱管の外周の温度を測定する複数
の第2測温体、4は温度調節器であり、この温度調節器
4はり、C,Hの独立した3つの調節器から構成されて
いる。5は第1測温体のそれぞれの出力を監視する測温
器である。
の第2測温体、4は温度調節器であり、この温度調節器
4はり、C,Hの独立した3つの調節器から構成されて
いる。5は第1測温体のそれぞれの出力を監視する測温
器である。
上記の構成において1石英管1中にウェハ(図示せず)
が設置され、温度層n器4の設定値(例えば1000℃
)が人またはコンピュータ等により入力される。
が設置され、温度層n器4の設定値(例えば1000℃
)が人またはコンピュータ等により入力される。
そして、その設定温度に基づいてヒータ3a〜3cが加
熱され、均熱管2を介して石英管1の温度が上昇する。
熱され、均熱管2を介して石英管1の温度が上昇する。
このとき石英管1中にはガスGが送り込まれている。
〈発明が解決しようとする課題〉
一般にこの様な拡散炉では石英管1の各部の温度は同一
値(±0.5℃以内)が望ましいが、均熱管2と石英管
1との温度差や石英管1に流入するガスの流量によって
設定値と測定値は異なり。
値(±0.5℃以内)が望ましいが、均熱管2と石英管
1との温度差や石英管1に流入するガスの流量によって
設定値と測定値は異なり。
さらに炉の入口側か中央部か奥かによっても温度が異な
る。炉中の温度を均一にするためには設定温度を微妙に
変化させる必要があるが、経験を必要とし、また、コン
ピュータによる自動システムを用いる場合も人間と同様
にカントアンドドライを繰り返すものが多い(例えば第
1の測温体TpL、TPC,TPRの温度を1000℃
にする為にはSTL 、STc 、STRの設定温度は
STt、;030℃、STc:990℃、STR;
1010℃のようになる)。
る。炉中の温度を均一にするためには設定温度を微妙に
変化させる必要があるが、経験を必要とし、また、コン
ピュータによる自動システムを用いる場合も人間と同様
にカントアンドドライを繰り返すものが多い(例えば第
1の測温体TpL、TPC,TPRの温度を1000℃
にする為にはSTL 、STc 、STRの設定温度は
STt、;030℃、STc:990℃、STR;
1010℃のようになる)。
従って石英管1内の温度を一定にするために温度調節器
4の設定値を変えた場合1石英管1内の温度が安定する
までには相当の時間を要するので石英管内の温度調整に
は数時間を要する場合もあった。
4の設定値を変えた場合1石英管1内の温度が安定する
までには相当の時間を要するので石英管内の温度調整に
は数時間を要する場合もあった。
本発明は上記従来技術の問題を解決するために成された
もので、より短い時間で炉内の温度調整が可能な拡散炉
の温度設定方法を提供することを目的とする。
もので、より短い時間で炉内の温度調整が可能な拡散炉
の温度設定方法を提供することを目的とする。
く課題を解決するための手段〉
上記従来技術の問題を解決する為の本発明の温度設定方
法は1石英管の内周に配置された複数の第1測温体と、
前記石英管の外周に配置された均熱管と、その均熱管の
外周を加熱する複数のしりと、前記石英管の外周の温度
を測定する複数の第2測温体と、前記ヒータの温度を調
節する温度調節器を備えた拡散炉の温度設定方法におい
て前記第1測温体の出力と設定値を前記温度調節器に入
力し1次に前記第2の測温体の温度を測定し、その第2
の測温体の温度を前記温度調節器の設定値として入力す
ることを特徴とするものである。
法は1石英管の内周に配置された複数の第1測温体と、
前記石英管の外周に配置された均熱管と、その均熱管の
外周を加熱する複数のしりと、前記石英管の外周の温度
を測定する複数の第2測温体と、前記ヒータの温度を調
節する温度調節器を備えた拡散炉の温度設定方法におい
て前記第1測温体の出力と設定値を前記温度調節器に入
力し1次に前記第2の測温体の温度を測定し、その第2
の測温体の温度を前記温度調節器の設定値として入力す
ることを特徴とするものである。
く作用〉
石英管内に配置された第1測fA体からの出力と設定値
を温度調節器に入力するので石英管内の温度は設定値と
同様に制御される。このときそれぞれのヒータで加熱さ
れた第2の測温体の出力は石英管内の設定温度を維持す
る為の出力となる。
を温度調節器に入力するので石英管内の温度は設定値と
同様に制御される。このときそれぞれのヒータで加熱さ
れた第2の測温体の出力は石英管内の設定温度を維持す
る為の出力となる。
〈実施例〉
以下1図面に従い本発明を説明する。第1図は本発明の
一実施例を示す構成説明図である。なお第2図と同一要
素には同一符号を付して重複する説明は省略する。
一実施例を示す構成説明図である。なお第2図と同一要
素には同一符号を付して重複する説明は省略する。
第1図において石英管1内には一定温度のガスが一定速
度で流入している。そして、複数の第1測温体Tp c
、Tpc 、TpRの出力は温度調節器4に入力されて
いる。この温度調節器4には設定値ST1 、STc
、STR(f3’lえば1000℃)か入力されており
、ヒータ3a〜3Cにヒータ制御器HL、HC,HRを
介してその差を0にするような出力がなされる0石英管
1内の温度が安定したら第2測温体Tc +−,Tcc
、TCRにより均熱管2の外周の温度を測定して測温
器5に伝送する。この温度は石英管内の温度とは必ずし
も一致しないが1石英管1内の温度を設定値に維持する
温度となっている。
度で流入している。そして、複数の第1測温体Tp c
、Tpc 、TpRの出力は温度調節器4に入力されて
いる。この温度調節器4には設定値ST1 、STc
、STR(f3’lえば1000℃)か入力されており
、ヒータ3a〜3Cにヒータ制御器HL、HC,HRを
介してその差を0にするような出力がなされる0石英管
1内の温度が安定したら第2測温体Tc +−,Tcc
、TCRにより均熱管2の外周の温度を測定して測温
器5に伝送する。この温度は石英管内の温度とは必ずし
も一致しないが1石英管1内の温度を設定値に維持する
温度となっている。
そして石英管1内の温度が安定した時点で第1測温体T
p L、Tpc 、TPRの出力を測温器5に接続する
0次に第2測温体TCL、TCC,TCRの出力を温度
調節器4に入力し、設定値として第2〆温体が示してい
た温度をそれぞれ設定する。この切替えは石英管内の温
度はウェハの出し入れ等により温度変化が激しいので、
その毎に測定値が変動しヒータへの供給電力が変動する
のを防止するものであり、第2測温体の温度変動は小さ
いのでヒータへの供給電力は比較的に安定である。
p L、Tpc 、TPRの出力を測温器5に接続する
0次に第2測温体TCL、TCC,TCRの出力を温度
調節器4に入力し、設定値として第2〆温体が示してい
た温度をそれぞれ設定する。この切替えは石英管内の温
度はウェハの出し入れ等により温度変化が激しいので、
その毎に測定値が変動しヒータへの供給電力が変動する
のを防止するものであり、第2測温体の温度変動は小さ
いのでヒータへの供給電力は比較的に安定である。
なお1本実施例においては第1.第2測温体及びヒータ
の数を3としたかこれらの数は本実施例に限ることなく
増減可能である。
の数を3としたかこれらの数は本実施例に限ることなく
増減可能である。
〈発明の効果〉
以上実施例とともに具体的に説明した様に本発明によれ
ば、予め石英管内の温度が設定値になるように制御し、
そのときの均熱管の外周の温度を測定し1次にその外周
の温度になるように設定値を設定するので、短時間で石
英管内の温度を所望の温度に制御することができる。
ば、予め石英管内の温度が設定値になるように制御し、
そのときの均熱管の外周の温度を測定し1次にその外周
の温度になるように設定値を設定するので、短時間で石
英管内の温度を所望の温度に制御することができる。
第1図は本発明の一実施例を示す構成説明図。
第2図は従来装置の構成図である。
1・・・石英管、2・・・均熱管、3a〜3C・・・ヒ
ータ。 4・・・温度調節器、5・・・測温器、TPL、TPC
TPR”’第1測温体、’rc L+ Tcc 、TC
R−’−第2測温体、HL、He 、 HR・・・ヒー
タ。 2、 均熱管\ 第1 代理人 弁理士 小 沢 信 助
ータ。 4・・・温度調節器、5・・・測温器、TPL、TPC
TPR”’第1測温体、’rc L+ Tcc 、TC
R−’−第2測温体、HL、He 、 HR・・・ヒー
タ。 2、 均熱管\ 第1 代理人 弁理士 小 沢 信 助
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 石英管の中に配置された複数の第1測温体と、前記石英
管の外周に配置された均熱管と、前記均熱管の外周に配
置された複数のヒータと、前記均熱管の外周の温度を測
定する複数の第2測温体と、前記ヒータの温度を調節す
る温度調節器を備えた拡散炉の温度設定方法において、 1)前記第1測温体で前記石英管の中の温度を測定して
その出力を前記温度調節器に入力し、2)前記温度調節
器に設定値を入力し、 3)前記第2の測温体で均熱管の温度を測定し、4)前
記第2の測温体で測定した均熱管の温度を前記温度調節
器の設定値として入力する、ことを特徴とする拡散炉の
温度設定方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21634290A JPH0498826A (ja) | 1990-08-16 | 1990-08-16 | 拡散炉の温度設定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21634290A JPH0498826A (ja) | 1990-08-16 | 1990-08-16 | 拡散炉の温度設定方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0498826A true JPH0498826A (ja) | 1992-03-31 |
Family
ID=16687050
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21634290A Pending JPH0498826A (ja) | 1990-08-16 | 1990-08-16 | 拡散炉の温度設定方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0498826A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100363077B1 (ko) * | 1995-11-20 | 2003-02-11 | 삼성전자 주식회사 | 반도체 제조장치의 온도 확인장치 |
-
1990
- 1990-08-16 JP JP21634290A patent/JPH0498826A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100363077B1 (ko) * | 1995-11-20 | 2003-02-11 | 삼성전자 주식회사 | 반도체 제조장치의 온도 확인장치 |
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