JPH0497538A - クライオスタット - Google Patents
クライオスタットInfo
- Publication number
- JPH0497538A JPH0497538A JP2215298A JP21529890A JPH0497538A JP H0497538 A JPH0497538 A JP H0497538A JP 2215298 A JP2215298 A JP 2215298A JP 21529890 A JP21529890 A JP 21529890A JP H0497538 A JPH0497538 A JP H0497538A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- refrigerator
- stage
- freezer
- temperature
- heater
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 abstract 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002470 thermal conductor Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D8/00—Cold traps; Cold baffles
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04B—POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
- F04B37/00—Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00
- F04B37/06—Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00 for evacuating by thermal means
- F04B37/08—Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00 for evacuating by thermal means by condensing or freezing, e.g. cryogenic pumps
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S417/00—Pumps
- Y10S417/901—Cryogenic pumps
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
- Investigating Or Analyzing Materials Using Thermal Means (AREA)
- Devices That Are Associated With Refrigeration Equipment (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Containers, Films, And Cooling For Superconductive Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、例えば半導体中に含まれる不純物を測定する
場合などにおいて使用されるクライオスタットに関する
。
場合などにおいて使用されるクライオスタットに関する
。
例えば半導体中に含まれる不純物を測定する場合、試料
である半導体を所定の温度下に保持すると共に、その温
度を高温から低温までコントロールする必要があるとこ
ろから、従来より、第2図に示すようなりライオスタン
ドが用いられている。
である半導体を所定の温度下に保持すると共に、その温
度を高温から低温までコントロールする必要があるとこ
ろから、従来より、第2図に示すようなりライオスタン
ドが用いられている。
第2図において、1は外気と断熱された真空室で、適宜
のベース2上に設けられており、図外の真空排気装置に
よって所定の真空状態になるように構成されると共に、
その内部には半導体などの試料(図外)を載置する試料
台3およびこの試料台3を冷却する冷凍機4が設けられ
ている。なお、この真空室1には開閉自在の試料出し入
れ口(図外)が試料台3の近傍に形成されている。
のベース2上に設けられており、図外の真空排気装置に
よって所定の真空状態になるように構成されると共に、
その内部には半導体などの試料(図外)を載置する試料
台3およびこの試料台3を冷却する冷凍機4が設けられ
ている。なお、この真空室1には開閉自在の試料出し入
れ口(図外)が試料台3の近傍に形成されている。
前記冷凍機4は例えば1段目冷凍機5の上部に2段目冷
凍機6を連設してなる2段型冷凍機よりなり、1段目冷
凍1i5が2段目冷凍機6をある一定の温度にまで冷却
し、2段目冷凍機6が試料台3を所定の温度になるよう
に冷却するもので、1段目冷凍115は配管7.8を介
して図外のコンプレッサ、ヘリウムガス貯留部、ポンプ
などに接続されている。また、2段目冷凍1i6の上部
には良熱伝導体9が設けてあり、前記試料台3はこの良
熱伝導体9を介して冷凍機4と熱的に結合されるように
して良熱伝導体9の上部に保持されている。
凍機6を連設してなる2段型冷凍機よりなり、1段目冷
凍1i5が2段目冷凍機6をある一定の温度にまで冷却
し、2段目冷凍機6が試料台3を所定の温度になるよう
に冷却するもので、1段目冷凍115は配管7.8を介
して図外のコンプレッサ、ヘリウムガス貯留部、ポンプ
などに接続されている。また、2段目冷凍1i6の上部
には良熱伝導体9が設けてあり、前記試料台3はこの良
熱伝導体9を介して冷凍機4と熱的に結合されるように
して良熱伝導体9の上部に保持されている。
そして、前記良熱伝導体9の周囲には試料台3の温度コ
ントロール用のヒータ10が巻設しであると共に、試料
台3にはその温度を検出する温度センサ11が設けであ
る。また、12は温度センサ11からの信号に基づいて
ヒータ10を適宜発熱させて試料台3の温度を所定の温
度になるように温度制御する装置で、例えば真空室1の
外部に設けられている。
ントロール用のヒータ10が巻設しであると共に、試料
台3にはその温度を検出する温度センサ11が設けであ
る。また、12は温度センサ11からの信号に基づいて
ヒータ10を適宜発熱させて試料台3の温度を所定の温
度になるように温度制御する装置で、例えば真空室1の
外部に設けられている。
而して、この種のクライオスタットにおいて例えば試料
を取り替えたりする場合、前記試料出し入れ口を開くこ
とにより真空室1が大気開放状態となるが、試料台3お
よび冷凍機4が例えば0°C以下の低温状態であると、
これら試料台3および冷凍機4が結露する。そこで、前
記大気開放に先立って試料台3および冷凍I!14を結
露が生しない温度まで上昇する必要があるが、上記構成
のクライオスタットにおいては、試料台3の温度コント
ロール用のヒータ10シか設けられてなく、しかも、そ
の発熱量が小さいため、試料台3および冷凍機4の昇温
スピードが極めて遅く、特に、冷凍機4が2段型冷凍機
よりなるため、試料台3に比べて冷凍1i4の昇温に時
間がかかりすぎるといった問題点があった。
を取り替えたりする場合、前記試料出し入れ口を開くこ
とにより真空室1が大気開放状態となるが、試料台3お
よび冷凍機4が例えば0°C以下の低温状態であると、
これら試料台3および冷凍機4が結露する。そこで、前
記大気開放に先立って試料台3および冷凍I!14を結
露が生しない温度まで上昇する必要があるが、上記構成
のクライオスタットにおいては、試料台3の温度コント
ロール用のヒータ10シか設けられてなく、しかも、そ
の発熱量が小さいため、試料台3および冷凍機4の昇温
スピードが極めて遅く、特に、冷凍機4が2段型冷凍機
よりなるため、試料台3に比べて冷凍1i4の昇温に時
間がかかりすぎるといった問題点があった。
本発明は、上述の事柄に留意してなされたもので、その
目的とするところは、試料台および冷凍機の温度を短時
間でしかもほぼ同時に所定値まで上昇させることができ
、従つて、試料の取替えなど本来の測定以外に要する時
間を可及的に短縮することができるクライオスタットを
提供することにある。
目的とするところは、試料台および冷凍機の温度を短時
間でしかもほぼ同時に所定値まで上昇させることができ
、従つて、試料の取替えなど本来の測定以外に要する時
間を可及的に短縮することができるクライオスタットを
提供することにある。
〔課題を解決するための手段]
上述の目的を達成するため、本発明においては次の手段
を採用している。すなわち、真空室内に冷凍機とこの冷
凍機によって冷却される試料台とを設けると共に、この
試料台の温度コントロール用ヒータを設けてなるクライ
オスタットにおいて、前記冷凍機にもヒータを設けてい
る。
を採用している。すなわち、真空室内に冷凍機とこの冷
凍機によって冷却される試料台とを設けると共に、この
試料台の温度コントロール用ヒータを設けてなるクライ
オスタットにおいて、前記冷凍機にもヒータを設けてい
る。
そして、前記冷凍機を多段型冷凍機で構成した場合、各
段の冷凍機にそれぞれ専用のヒータを設けるようにして
もよい。
段の冷凍機にそれぞれ専用のヒータを設けるようにして
もよい。
本発明によれば、冷凍機にもヒータを設けているので、
例えば真空室の大気開放に先立って試料台および冷凍機
の温度を上昇させる場合、これらを短時間でしかもほぼ
同時に所定値まで上昇させることができる。従って、試
料の取替えなど本来の測定以外に要する時間を可及的に
短縮することができる。
例えば真空室の大気開放に先立って試料台および冷凍機
の温度を上昇させる場合、これらを短時間でしかもほぼ
同時に所定値まで上昇させることができる。従って、試
料の取替えなど本来の測定以外に要する時間を可及的に
短縮することができる。
以下、本発明の実施例を図面を参照しながら説明する。
第1図は本発明の一実施例を示し、この図において、第
2図における符号と同一符号は同一物を示している。
2図における符号と同一符号は同一物を示している。
第1図において、13.14はそれぞれ1段目冷凍機5
.2段目冷凍機6の外周に巻設された冷凍機用ヒータで
ある。すなわち、本発明においては、冷凍機4にもそれ
ぞれ専用のヒータ13. ’14が設けられている。こ
れらのヒータ13.14は例えば温度制御装置12によ
って制御されるようにしてあり、各ヒータ13.14の
発熱量は、1段目冷凍機5.2段目冷凍機6の熱容量や
熱伝導率にそれぞれ適合するように設定されると共に、
前記ヒータ10が試料台3を昇温させるときの速度にほ
ぼ合致するように設定されている。
.2段目冷凍機6の外周に巻設された冷凍機用ヒータで
ある。すなわち、本発明においては、冷凍機4にもそれ
ぞれ専用のヒータ13. ’14が設けられている。こ
れらのヒータ13.14は例えば温度制御装置12によ
って制御されるようにしてあり、各ヒータ13.14の
発熱量は、1段目冷凍機5.2段目冷凍機6の熱容量や
熱伝導率にそれぞれ適合するように設定されると共に、
前記ヒータ10が試料台3を昇温させるときの速度にほ
ぼ合致するように設定されている。
而して、上記構成のクライオスタットにおいては、例え
ば試料を取り替えるに際して真空室1を大気開放する前
に試料台3および冷凍814を所定温度以上に昇温させ
る必要があるときは、試料台3に対するヒータ10およ
び1段目冷凍機5,2段目冷凍機6にそれぞれ対するヒ
ータ13.14を発熱させることにより、試料台3およ
び冷凍[14をそれぞれ短時間にしかもほぼ同時に所定
の温度以上に昇温させることかできる。
ば試料を取り替えるに際して真空室1を大気開放する前
に試料台3および冷凍814を所定温度以上に昇温させ
る必要があるときは、試料台3に対するヒータ10およ
び1段目冷凍機5,2段目冷凍機6にそれぞれ対するヒ
ータ13.14を発熱させることにより、試料台3およ
び冷凍[14をそれぞれ短時間にしかもほぼ同時に所定
の温度以上に昇温させることかできる。
そして、上記実施例のように、冷凍114を二段型冷凍
機で構成した場合、各段の冷凍機5.6にそれぞれ専用
のヒータ13.14を設けているので、冷凍機4と試料
台3との間に温度の差がほとんど生ずることがない。
機で構成した場合、各段の冷凍機5.6にそれぞれ専用
のヒータ13.14を設けているので、冷凍機4と試料
台3との間に温度の差がほとんど生ずることがない。
上述の実施例においては、ヒータ10および1314は
それぞれ良熱伝導体9および各段の冷凍機5゜6の外周
に巻設されているが、このようにすることは必ずしも必
要ではなく、少なくとも、それぞれのヒータlOおよび
13.14が試料台3および各段の冷凍機5,6を昇温
できるようにしてあればよい。
それぞれ良熱伝導体9および各段の冷凍機5゜6の外周
に巻設されているが、このようにすることは必ずしも必
要ではなく、少なくとも、それぞれのヒータlOおよび
13.14が試料台3および各段の冷凍機5,6を昇温
できるようにしてあればよい。
そして、冷凍1i4は単一段の冷凍機からなるものであ
ってもよいことは云うまでもない。また、冷凍l14を
多段型冷凍機で構成した場合において、各段の冷凍機に
必ずしも専用のヒータを設ける必要がなく、その場合、
各段の冷凍機の熱容量や熱伝導率を考慮してヒータの設
置する位置(段)や発熱量を決定すればよい。
ってもよいことは云うまでもない。また、冷凍l14を
多段型冷凍機で構成した場合において、各段の冷凍機に
必ずしも専用のヒータを設ける必要がなく、その場合、
各段の冷凍機の熱容量や熱伝導率を考慮してヒータの設
置する位置(段)や発熱量を決定すればよい。
本発明は以上のように構成されるので、試料台および冷
凍機の温度を短時間でしかもほぼ同時に所定値まで上昇
させることができ、従って、試料の取替えなど本来の測
定以外に要する時間を可及的に短縮することができる。
凍機の温度を短時間でしかもほぼ同時に所定値まで上昇
させることができ、従って、試料の取替えなど本来の測
定以外に要する時間を可及的に短縮することができる。
第1図は本発明の一実施例に係るクライオスタットを示
す図である。 第2図は従来のクライオスタットを示す図である。 1・・・真空室、3・・・試料台、4・・・冷凍機、5
,6・・・各段の冷凍機、10・・・試料台の温度コン
トロール用ヒータ、13.14・・・冷凍機用ヒータ。 出 願 人 株式会社 堀場製作所出 願人 岩
谷産業株式会社
す図である。 第2図は従来のクライオスタットを示す図である。 1・・・真空室、3・・・試料台、4・・・冷凍機、5
,6・・・各段の冷凍機、10・・・試料台の温度コン
トロール用ヒータ、13.14・・・冷凍機用ヒータ。 出 願 人 株式会社 堀場製作所出 願人 岩
谷産業株式会社
Claims (2)
- (1)真空室内に冷凍機とこの冷凍機によって冷却され
る試料台とを設けると共に、この試料台の温度コントロ
ール用ヒータを設けてなるクライオスタットにおいて、
前記冷凍機にもヒータを設けたことを特徴とするクライ
オスタット。 - (2)前記冷凍機を多段型冷凍機で構成すると共に、各
段の冷凍機にそれぞれ専用のヒータを設けたことを特徴
とする請求項(1)に記載のクライオスタット。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2215298A JPH0497538A (ja) | 1990-08-14 | 1990-08-14 | クライオスタット |
US07/742,389 US5207069A (en) | 1990-08-14 | 1991-08-08 | Cryostat vacuum chamber |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2215298A JPH0497538A (ja) | 1990-08-14 | 1990-08-14 | クライオスタット |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0497538A true JPH0497538A (ja) | 1992-03-30 |
Family
ID=16670007
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2215298A Pending JPH0497538A (ja) | 1990-08-14 | 1990-08-14 | クライオスタット |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5207069A (ja) |
JP (1) | JPH0497538A (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0601725B1 (en) | 1992-11-25 | 1997-10-29 | Loctite Corporation | Adhesion promoter compositions |
US6909273B1 (en) * | 2000-05-05 | 2005-06-21 | Chartered Semiconductor Manufacturing Ltd. | Zero-temperature-gradient zero-bias thermally stimulated current technique to characterize defects in semiconductors or insulators |
DE20318094U1 (de) * | 2003-11-22 | 2004-02-12 | Leica Microsystems Nussloch Gmbh | Kryostat mit einer Wärmeplatte |
GB0424713D0 (en) * | 2004-11-09 | 2004-12-08 | Council Cent Lab Res Councils | Cryostat |
DE102011054746B4 (de) * | 2011-10-24 | 2013-09-26 | Gsi Helmholtzzentrum Für Schwerionenforschung Gmbh | Teilchenbeschleunigersegmenteinrichtung mit Positionsüberwachungsvorrichtung |
JP2014156952A (ja) * | 2013-02-15 | 2014-08-28 | High Energy Accelerator Research Organization | 連続回転系で極低温を実現する装置 |
CN111855736B (zh) * | 2020-03-18 | 2022-02-18 | 同济大学 | 一种电卡性能测试系统 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3680335D1 (de) * | 1986-06-23 | 1991-08-22 | Leybold Ag | Kryopumpe und verfahren zum betrieb dieser kryopumpe. |
US5001903A (en) * | 1987-01-27 | 1991-03-26 | Helix Technology Corporation | Optimally staged cryopump |
EP0336992A1 (de) * | 1988-04-13 | 1989-10-18 | Leybold Aktiengesellschaft | Verfahren und Vorrichtung zur Überprüfung der Funktion einer refrigeratorbetriebenen Kryopumpe |
-
1990
- 1990-08-14 JP JP2215298A patent/JPH0497538A/ja active Pending
-
1991
- 1991-08-08 US US07/742,389 patent/US5207069A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5207069A (en) | 1993-05-04 |
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