JPH0489385A - 化合物単結晶の育成方法 - Google Patents
化合物単結晶の育成方法Info
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- JPH0489385A JPH0489385A JP20169490A JP20169490A JPH0489385A JP H0489385 A JPH0489385 A JP H0489385A JP 20169490 A JP20169490 A JP 20169490A JP 20169490 A JP20169490 A JP 20169490A JP H0489385 A JPH0489385 A JP H0489385A
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Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
この発明は、原料融液が化学量論組成或は調和融液組成
を有する化合物の単結晶育成方法に関するものであり、
特に組成づれの少ない単結晶を育成する方法に関する。
を有する化合物の単結晶育成方法に関するものであり、
特に組成づれの少ない単結晶を育成する方法に関する。
(従来の技術)
従来、単体の融液或は化学量論組成や調和融液組成をも
つ化合物の融液などから単結晶を育成する方法としては
引き上げ法(チョクラルスキー法、CZ法)が−船釣で
、特別な不都合のない限りこの方法が専用されている。
つ化合物の融液などから単結晶を育成する方法としては
引き上げ法(チョクラルスキー法、CZ法)が−船釣で
、特別な不都合のない限りこの方法が専用されている。
CZ法は第3図に示すように、ルツボ3中で融解された
原料融液6に、回転引き、上げ軸5の先端に取り付けた
種結晶7を浸して、その先端に融液な凝固させつつ回転
しながら引き上げ、結晶化させて育成結晶を得る方法で
ある[J、 Czochralski :Z、Phys
、Chem、 、Vol、98.219 f19771
.1゜この方法は、(1)原料の形が粉末や塊状など自
由に選べて特別な成形が要らない、(2)結晶そのもの
だけが得られる、(3)比較的容易に大型結晶が得られ
る、(4)種結晶の使用により結晶の方位が選択できる
、(5)温度環境の制御が比較的自由で、良品質な結晶
が育成できる、など多くの利点をもつ結晶育成法である
。
原料融液6に、回転引き、上げ軸5の先端に取り付けた
種結晶7を浸して、その先端に融液な凝固させつつ回転
しながら引き上げ、結晶化させて育成結晶を得る方法で
ある[J、 Czochralski :Z、Phys
、Chem、 、Vol、98.219 f19771
.1゜この方法は、(1)原料の形が粉末や塊状など自
由に選べて特別な成形が要らない、(2)結晶そのもの
だけが得られる、(3)比較的容易に大型結晶が得られ
る、(4)種結晶の使用により結晶の方位が選択できる
、(5)温度環境の制御が比較的自由で、良品質な結晶
が育成できる、など多くの利点をもつ結晶育成法である
。
この方法は原料が単体の場合及び原料の相平衡図が化学
量論組成或は調和融液組成をもつ化合物の場合に適用で
き、シリコン(Si)を始めとする産業用結晶の多くは
この方法で育成されている。
量論組成或は調和融液組成をもつ化合物の場合に適用で
き、シリコン(Si)を始めとする産業用結晶の多くは
この方法で育成されている。
また、化学量論組成或は調和融液組成をもたない化合物
の結晶成長においてもこの有利なCZ法を適用しようと
する努力がなされ、フラックスを併用したり、相平衡図
上の初品域を利用するなど、CZ法を基にした結晶育成
方法が提案されている。
の結晶成長においてもこの有利なCZ法を適用しようと
する努力がなされ、フラックスを併用したり、相平衡図
上の初品域を利用するなど、CZ法を基にした結晶育成
方法が提案されている。
原料が化学量論組成或は調和融液組成をもちながらC2
法が適用できない例は、砒化ガリウム(GaAs)のよ
うに融液が著しい蒸発性をもつ場合で、これには、融液
封止剤でルツボ内原料融液の表面を覆って蒸発を抑える
、いわゆる液体封止引き上げ法(LEC法)や、CZ法
とは別に、ブリラマン法、グラデイエンド・フリージン
グ法などが採用されている。
法が適用できない例は、砒化ガリウム(GaAs)のよ
うに融液が著しい蒸発性をもつ場合で、これには、融液
封止剤でルツボ内原料融液の表面を覆って蒸発を抑える
、いわゆる液体封止引き上げ法(LEC法)や、CZ法
とは別に、ブリラマン法、グラデイエンド・フリージン
グ法などが採用されている。
このうち、ブリラマン法は温度勾配を利用して原料融液
を徐冷、結晶化するものであり、その−例は第4図に示
すように、電熱線lOを内装し且つ温度差隔壁11を設
けた電気炉9内に温度差隔壁11を中心として融点を挟
む温度勾配を設定し、アンプル12に封入した原料を隔
壁上部高温域で融解し、移動銀13を用いて下方へ移動
させ、尖端から冷却し結晶化させるものである[P、W
、 Bridgman:Proc、Amer、Acad
、Arts、Sci、、Vol、60.305(192
5)]。
を徐冷、結晶化するものであり、その−例は第4図に示
すように、電熱線lOを内装し且つ温度差隔壁11を設
けた電気炉9内に温度差隔壁11を中心として融点を挟
む温度勾配を設定し、アンプル12に封入した原料を隔
壁上部高温域で融解し、移動銀13を用いて下方へ移動
させ、尖端から冷却し結晶化させるものである[P、W
、 Bridgman:Proc、Amer、Acad
、Arts、Sci、、Vol、60.305(192
5)]。
方、グラデイエンド・フリージング法は、温度勾配を利
用して結晶化させる点ではブリッマン法と類似している
が、密封ルツボ15は第5図に示すように電気炉9内の
ルツボ台14上に固定されており、温度勾配中のアンプ
ル移動を機械的に行う代わりに電気的に温度勾配を走査
してルツボ15内の原料を融解、結晶化させるものであ
る[J、 P、 Garandet et、al、:J
、Cryst、Grovth、Vol、96.888(
1989)。
用して結晶化させる点ではブリッマン法と類似している
が、密封ルツボ15は第5図に示すように電気炉9内の
ルツボ台14上に固定されており、温度勾配中のアンプ
ル移動を機械的に行う代わりに電気的に温度勾配を走査
してルツボ15内の原料を融解、結晶化させるものであ
る[J、 P、 Garandet et、al、:J
、Cryst、Grovth、Vol、96.888(
1989)。
この方法は、ブリッジマン法では難しい種付は操作が容
易で、密封アンプルの他に、開封ルツボを使用してその
周りを閉管で囲い蒸気圧を制御することも可能であるな
どブリッジマン法に優れる利点が見られる。
易で、密封アンプルの他に、開封ルツボを使用してその
周りを閉管で囲い蒸気圧を制御することも可能であるな
どブリッジマン法に優れる利点が見られる。
方、ニオブ酸リチウム(LiNbOz)に代表される複
合酸化物等の化合物結晶の多くは、電気光学・音響光学
・非線形光学・焦電効果などに優れた特性をもち広い用
途が期待できるため、C7法を用いた結晶の育成が盛ん
に研究されている。その中でもLiNbO3結晶は音響
表面波素子の材料として実用段階にあり、大型結晶が比
較的安定に提供されるようになってきた。これに伴って
結晶の新たな用途も拡大し、更に高度な技術的要求にも
応える、より高品質な結晶が求められ始めている。例え
ば、0EICや非線形光学などの光用途のL i Nb
0−結晶では屈折率の均一性、大きな光損傷しきい値、
誘電相転移温度の一様性など厳しい条件が要求される。
合酸化物等の化合物結晶の多くは、電気光学・音響光学
・非線形光学・焦電効果などに優れた特性をもち広い用
途が期待できるため、C7法を用いた結晶の育成が盛ん
に研究されている。その中でもLiNbO3結晶は音響
表面波素子の材料として実用段階にあり、大型結晶が比
較的安定に提供されるようになってきた。これに伴って
結晶の新たな用途も拡大し、更に高度な技術的要求にも
応える、より高品質な結晶が求められ始めている。例え
ば、0EICや非線形光学などの光用途のL i Nb
0−結晶では屈折率の均一性、大きな光損傷しきい値、
誘電相転移温度の一様性など厳しい条件が要求される。
これらを支配する要因は現在未だ完全には明らかではな
いが、結晶内の組成のばらつきが原因の一つとされてい
る。
いが、結晶内の組成のばらつきが原因の一つとされてい
る。
(発明の解決しようとする問題点)
ところが、Siやゲルマニウム(Ge)などの半導体結
晶がCZ法で成功裡に育成されて以来、CZ法は結晶育
成法の中心をなし、化合物の結晶にも適用されてきたが
、原料の融解状態を考えると、SlやGeのような単体
の場合と異なり、化合物融液には下記のような複雑な問
題があり、化合物結晶をCZ法で育成するには組成のば
らつきが生じ易いなどの問題がある。
晶がCZ法で成功裡に育成されて以来、CZ法は結晶育
成法の中心をなし、化合物の結晶にも適用されてきたが
、原料の融解状態を考えると、SlやGeのような単体
の場合と異なり、化合物融液には下記のような複雑な問
題があり、化合物結晶をCZ法で育成するには組成のば
らつきが生じ易いなどの問題がある。
即ち、化合物は原料試薬を所定の割合で反応させて合成
されるが、結晶育成用の原料は、粉末の原料試薬なルツ
ボ内で融解して一気に反応させる直接合成と、融点以下
で同相反応で焼成した焼結体をルツボ充填原料とする方
法が一般的なため、秤量が正確であっても反応が不完全
だったり、融液温度が高いなどの場合には、原料化合物
の未反応成分やクラッキング成分が存在し、それらは独
自の蒸発速度や異なる密度をもっており、これが化合物
結晶組成のばらつきを生ずる原因となっている。特に、
融液中の成分間の蒸発速度の違いについては、CZ法で
は結晶引き上げに伴ってルツボ内の融液面が低下し、熱
条件が変化するため、口径の大きなルツボを用いる傾向
があり、しかも熱対流や種結晶、ルツボなどの回転によ
り融液は常に流動状態にあり、融液中の成分間に少しで
も蒸発速度の違いがあれば、ルツボ内融液の流動は蒸発
速度差を拡大する方向に働き、組成のずれが増長される
ことになる。
されるが、結晶育成用の原料は、粉末の原料試薬なルツ
ボ内で融解して一気に反応させる直接合成と、融点以下
で同相反応で焼成した焼結体をルツボ充填原料とする方
法が一般的なため、秤量が正確であっても反応が不完全
だったり、融液温度が高いなどの場合には、原料化合物
の未反応成分やクラッキング成分が存在し、それらは独
自の蒸発速度や異なる密度をもっており、これが化合物
結晶組成のばらつきを生ずる原因となっている。特に、
融液中の成分間の蒸発速度の違いについては、CZ法で
は結晶引き上げに伴ってルツボ内の融液面が低下し、熱
条件が変化するため、口径の大きなルツボを用いる傾向
があり、しかも熱対流や種結晶、ルツボなどの回転によ
り融液は常に流動状態にあり、融液中の成分間に少しで
も蒸発速度の違いがあれば、ルツボ内融液の流動は蒸発
速度差を拡大する方向に働き、組成のずれが増長される
ことになる。
また、ルツボの融液は撹拌されているとは言え結晶育成
の定常状態では融液は定常流に近く、上述のように融液
成分間での比重の違いが存在すると、融液成分の分離や
結晶組成の変動につながることになる。
の定常状態では融液は定常流に近く、上述のように融液
成分間での比重の違いが存在すると、融液成分の分離や
結晶組成の変動につながることになる。
このように、化合物結晶をcz法で育成するには組成の
厳密さの点で問題があるが、この発明はこのような化合
物結晶に特有な問題を解決すべくなされたものである。
厳密さの点で問題があるが、この発明はこのような化合
物結晶に特有な問題を解決すべくなされたものである。
(問題点を解決するための手段)
以上の問題点を解決するために、この発明では出発原料
から化合物の結晶体を育成し、得られた結晶体をルツボ
内に充填し、このルツボをその上限が上記結晶体の融点
付近で且つ上高下低なる温度分布に設定した炉内に設置
し、該炉内で上記ルツボ内の結晶体を融解、徐冷して再
結晶化させる化合物単結晶の育成方法を提案するもので
ある。
から化合物の結晶体を育成し、得られた結晶体をルツボ
内に充填し、このルツボをその上限が上記結晶体の融点
付近で且つ上高下低なる温度分布に設定した炉内に設置
し、該炉内で上記ルツボ内の結晶体を融解、徐冷して再
結晶化させる化合物単結晶の育成方法を提案するもので
ある。
(作用)
この発明では、出発原料から化合物の結晶体を育成し、
得られた結晶体をルツボ充填原料とし、しかも結晶体の
融点近傍に限定された温度範囲で且つ上高下低なる温度
勾配を設定した電気炉内で原料を融解させる。このため
、従来のCZ法のように未反応成分や過加熱によるクラ
ッキング成分が生ずる余地が無く原料融液が均質となり
、組成成分間の比重差に原因する流動が抑えられ、しか
も上高下低に設定された炉内の温度分布のために熱対流
に原因する融液の流動も抑えられる。
得られた結晶体をルツボ充填原料とし、しかも結晶体の
融点近傍に限定された温度範囲で且つ上高下低なる温度
勾配を設定した電気炉内で原料を融解させる。このため
、従来のCZ法のように未反応成分や過加熱によるクラ
ッキング成分が生ずる余地が無く原料融液が均質となり
、組成成分間の比重差に原因する流動が抑えられ、しか
も上高下低に設定された炉内の温度分布のために熱対流
に原因する融液の流動も抑えられる。
このようにして、原料自体の組成成分のばらつきや融液
の流動に伴って生ずる組成のずれが抑制されるが、例え
原料融液自体に微量な蒸発が不可避な場合でも、融液の
流動を制御することにより蒸発は融液表面に限定され、
内部からの蒸発が封じられる。
の流動に伴って生ずる組成のずれが抑制されるが、例え
原料融液自体に微量な蒸発が不可避な場合でも、融液の
流動を制御することにより蒸発は融液表面に限定され、
内部からの蒸発が封じられる。
・以上の条件が総合的に作用してこの発明では組成ずれ
の少ない化合物結晶を育成することができるのである。
の少ない化合物結晶を育成することができるのである。
なお、この発明に使用するルツボとしては外部からの不
純物の、混入或は融液成分の外気への蒸発等を考慮して
原料融液表面と外気との接触の少ない縦型ルツボを使用
することが好ましい。
純物の、混入或は融液成分の外気への蒸発等を考慮して
原料融液表面と外気との接触の少ない縦型ルツボを使用
することが好ましい。
(実施例)
次に図面にしたがって、この発明の詳細な説明する。
第1図はこの発明の要部をなす原料結晶の生成例をLi
NbO5の場合について示す。
NbO5の場合について示す。
出発原料には炭酸リチウム(Li*CO−]と酸化ニオ
ブfNb、oslの結晶用高純度試薬を用い、従来のL
iNb0.結晶の育成法と同様に以下の反応式に従って
、ルツボ中で直接合成、或は混合−ブレス−焼結のサイ
クルによる焼結法により原料を合成しルツボに充填する
。
ブfNb、oslの結晶用高純度試薬を用い、従来のL
iNb0.結晶の育成法と同様に以下の反応式に従って
、ルツボ中で直接合成、或は混合−ブレス−焼結のサイ
クルによる焼結法により原料を合成しルツボに充填する
。
LizCOi+NbaOs −12LiNbOs +C
Oi Tルツボには蓋付白金ルツボ17を用い、それを
電気炉9内に設置し、過加熱に注意してゆっ(り昇温し
て融解する。融液状態において白金撹拌棒16で融液を
均一に撹拌した後(第1a図)、成分の蒸発を抑えるよ
うルツボ17に蓋18をして電気炉9内に納め、更に電
気炉9に蓋19をしてルツボ徐冷法で結晶化させる(第
1b図)。
Oi Tルツボには蓋付白金ルツボ17を用い、それを
電気炉9内に設置し、過加熱に注意してゆっ(り昇温し
て融解する。融液状態において白金撹拌棒16で融液を
均一に撹拌した後(第1a図)、成分の蒸発を抑えるよ
うルツボ17に蓋18をして電気炉9内に納め、更に電
気炉9に蓋19をしてルツボ徐冷法で結晶化させる(第
1b図)。
温度条件の一例は、1240℃迄は冷却速度0.7℃/
h、1000℃迄は3.5℃/h、300℃迄はlO℃
/h、その後炉冷する。その結果、LiNb0.の結晶
8はルツボ融液固化物の表面部に比較的大型な結晶塊と
して固化し、これを分離、洗浄、乾燥して結晶育成用の
原料とする。
h、1000℃迄は3.5℃/h、300℃迄はlO℃
/h、その後炉冷する。その結果、LiNb0.の結晶
8はルツボ融液固化物の表面部に比較的大型な結晶塊と
して固化し、これを分離、洗浄、乾燥して結晶育成用の
原料とする。
上述のようにして得られる結晶を原料として、目的とす
る結晶育成を行う、育成法は原理的には徐冷法が本発明
の主旨に一致し、装置的にはブリフチマン類やグラデイ
エンド・フリージング用電気炉がほぼそのまま使用でき
る。
る結晶育成を行う、育成法は原理的には徐冷法が本発明
の主旨に一致し、装置的にはブリフチマン類やグラデイ
エンド・フリージング用電気炉がほぼそのまま使用でき
る。
第2図にグラデイエンド・フリージング用電気炉を使用
したLiNbO5単結晶の育成例を示す。
したLiNbO5単結晶の育成例を示す。
口径10a+m、長さ約50mm、厚さ0.1amの縦
型白金ルツボ20を使用し、その先端に種結晶7を装着
し、それに続いて上述の方法で得た原料結晶を充填して
、電気炉9内に納める。1気炉9内は独立に温度設定可
能な5ゾーンの加熱領域をもち、温度分布は炉内中央部
公約7c+aにおいて、温度勾配2〜lO℃/C■であ
る。ルツボに充填された原料結晶は空気間隙が多く熱伝
導が極めて悪いため、過加熱に注意し1000℃迄は6
時間、その後融解まで6℃/hで昇温し、種結晶の先端
部分の融解を確認後、950℃迄12日間かけて結晶成
長させ、その後5日間で300℃迄降温し、炉冷する。
型白金ルツボ20を使用し、その先端に種結晶7を装着
し、それに続いて上述の方法で得た原料結晶を充填して
、電気炉9内に納める。1気炉9内は独立に温度設定可
能な5ゾーンの加熱領域をもち、温度分布は炉内中央部
公約7c+aにおいて、温度勾配2〜lO℃/C■であ
る。ルツボに充填された原料結晶は空気間隙が多く熱伝
導が極めて悪いため、過加熱に注意し1000℃迄は6
時間、その後融解まで6℃/hで昇温し、種結晶の先端
部分の融解を確認後、950℃迄12日間かけて結晶成
長させ、その後5日間で300℃迄降温し、炉冷する。
育成結晶は白金ルツボを剥いで取り出した。この結果、
組成の均一な大型のLxNbOsの単結晶を得ることが
できた。
組成の均一な大型のLxNbOsの単結晶を得ることが
できた。
(発明の効果)
以上要するに、この発明によれば、従来法では組成の均
一性に問題があった複合酸化物等の化合物結晶について
、光吸収特性が良好で均質組成を伺わせる大型単結晶が
育成できるのである。
一性に問題があった複合酸化物等の化合物結晶について
、光吸収特性が良好で均質組成を伺わせる大型単結晶が
育成できるのである。
第1図(a)(b)は本発明の要部をなす原料用結晶の
育成例を示す図、第2図はグラデイエンド・フリージン
グ法用の電気炉を利用した本発明の詳細な説明図、第3
図は従来より行われている引き上げ法を説明する図、第
4図は従来より行われているブリッジマン法の説明図、
第5図は従来より行われているグラデイエンド・フリー
ジング法の説明図である6 図中、6は原料融液、7は種結晶、8は育成結晶、9は
電気炉、lOは電熱線、14は移動ルツボ台、15は密
封型ルツボ、16は白金撹拌棒、17は白金ルツボ、1
8はルツボ蓋、19は電気炉蓋、20は縦型白金ルツボ
。 第1図(a) 第2図 第1図(′b) 原料融液 種結晶 育成結晶 電気炉 電熱線 移動ルツボ台 絣型白金ルツボ 第3図 高周波コイル ルツボ 回転引き上げ軸 原料融液 種結晶 育成結晶 第5図 原料融液 種結晶 育ji結晶 電気炉 電熱線 移動ルツど台 密封型ルツボ 第4図 原料融液 育成結晶 電気炉 電熱線 温度差隔壁 密封アンプル 移動鎖 四エエ= 手続補正書 (方式) %式% 発明の名称 化合物単結晶の育成方法 補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 東京都千代田区霞が関1丁目3番1号氏名(11
41工業技術院長 杉油 賢平成2年10月30日 (発送日) 7゜ 補正の内容 別紙の通り ニー\ 第1図 (a) 第1図 (b) 第3図 ◎ 1高周波コイル 3ルツボ 5回転引き−1−げ軸 6原料融液 7種結晶 8育成結晶 第2図 6原料融液 7種結晶 8育成結晶 9電気炉 10電熱線 14移動ルツボ台 20縦型白金ルツボ 第4図 6原料融液 8内成結晶 9電気炉 1o電熱線 11温度差隔壁 12密封アンフル 13移動鎖
育成例を示す図、第2図はグラデイエンド・フリージン
グ法用の電気炉を利用した本発明の詳細な説明図、第3
図は従来より行われている引き上げ法を説明する図、第
4図は従来より行われているブリッジマン法の説明図、
第5図は従来より行われているグラデイエンド・フリー
ジング法の説明図である6 図中、6は原料融液、7は種結晶、8は育成結晶、9は
電気炉、lOは電熱線、14は移動ルツボ台、15は密
封型ルツボ、16は白金撹拌棒、17は白金ルツボ、1
8はルツボ蓋、19は電気炉蓋、20は縦型白金ルツボ
。 第1図(a) 第2図 第1図(′b) 原料融液 種結晶 育成結晶 電気炉 電熱線 移動ルツボ台 絣型白金ルツボ 第3図 高周波コイル ルツボ 回転引き上げ軸 原料融液 種結晶 育成結晶 第5図 原料融液 種結晶 育ji結晶 電気炉 電熱線 移動ルツど台 密封型ルツボ 第4図 原料融液 育成結晶 電気炉 電熱線 温度差隔壁 密封アンプル 移動鎖 四エエ= 手続補正書 (方式) %式% 発明の名称 化合物単結晶の育成方法 補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 東京都千代田区霞が関1丁目3番1号氏名(11
41工業技術院長 杉油 賢平成2年10月30日 (発送日) 7゜ 補正の内容 別紙の通り ニー\ 第1図 (a) 第1図 (b) 第3図 ◎ 1高周波コイル 3ルツボ 5回転引き−1−げ軸 6原料融液 7種結晶 8育成結晶 第2図 6原料融液 7種結晶 8育成結晶 9電気炉 10電熱線 14移動ルツボ台 20縦型白金ルツボ 第4図 6原料融液 8内成結晶 9電気炉 1o電熱線 11温度差隔壁 12密封アンフル 13移動鎖
Claims (2)
- (1)出発原料から化合物の結晶体を育成し、得られた
結晶体をルツボ内に充填し、該ルツボをその上限が上記
結晶体の融点近傍で且つ上高下低なる温度分布に設定し
た炉内に設置し、該炉内で上記ルツボ内の結晶体を融解
、徐冷して再結晶化させることを特徴とする化合物単結
晶の育成方法。 - (2)ルツボとして縦型ルツボを使用することを特徴と
する特許請求の範囲第1項記載の化合物単結晶の育成方
法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20169490A JPH0489385A (ja) | 1990-07-30 | 1990-07-30 | 化合物単結晶の育成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20169490A JPH0489385A (ja) | 1990-07-30 | 1990-07-30 | 化合物単結晶の育成方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0489385A true JPH0489385A (ja) | 1992-03-23 |
Family
ID=16445364
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20169490A Pending JPH0489385A (ja) | 1990-07-30 | 1990-07-30 | 化合物単結晶の育成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0489385A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0714783A2 (en) | 1994-11-28 | 1996-06-05 | Riso Kagaku Corporation | Stencil discharging apparatus |
JP2013513545A (ja) * | 2009-12-13 | 2013-04-22 | エーエックスティー,インコーポレーテッド | マイクロピット密度(mpd)が低いゲルマニウムのインゴット/ウェハ、ならびに、その製造システムおよび製造方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62223088A (ja) * | 1986-03-26 | 1987-10-01 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 化合物単結晶の育成方法 |
-
1990
- 1990-07-30 JP JP20169490A patent/JPH0489385A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62223088A (ja) * | 1986-03-26 | 1987-10-01 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 化合物単結晶の育成方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0714783A2 (en) | 1994-11-28 | 1996-06-05 | Riso Kagaku Corporation | Stencil discharging apparatus |
JP2013513545A (ja) * | 2009-12-13 | 2013-04-22 | エーエックスティー,インコーポレーテッド | マイクロピット密度(mpd)が低いゲルマニウムのインゴット/ウェハ、ならびに、その製造システムおよび製造方法 |
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