JPH0482860A - フルオロアルキル基含有スチレン誘導体及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は新規なフルオロアルキル基含有スチレン誘導体
及びその製造方法に関する。

〈従来の技術〉 有機化合物中にフルオロアルキル基が導入された化合物
は、生理活性作用、撥水撥油作用等の有用な性質を示す
ものとして注目されている。特に芳香族化合物中にフル
オロアルキル基が心入されたフルオロアルキル基含有ス
チレン誘導体は、含フツ素モノマーとして、更には撥水
撥油剤、界面活性剤、潤滑剤、医薬、農薬等の合成中間
体として、また光機能性材料の原料として注目されてい
る。

前記フルオロアルキル基含有スチレン誘導体の製造方法
としては特開昭６０−８４．５９号公報に、スチレンモ
ノマーと過酸化フルオロアルカノイルとの反応によりス
チレンのビニル基にフルオロアルキル基を導入する方法
が報告されている。

しかしながら、ジビニルベンゼン類にフルオロアルキル
基を容易に、かつ高収率で導入する方法及び前記方法に
よって得られるフルオロアルキル基含有スチレン誘導体
は、殆ど知られていないのが現状である。

〈発明が解決しようとする課題〉 本発明の目的は、含フツ素モノマーとして、更には、撥
水撥油剤、界面活性剤、潤滑剤、医薬、農薬等の合成中
間体として、また光機能性材料の原料として利用可能な
フルオロアルキル基含有スチレン誘導体及びその製造方
法を提供することにある。

また本発明の別の目的は、反応触媒及び特殊な装置を用
いず、高収率かつ容易にフルオロアルキル基含有スチレ
ン誘導体を得ることができる製造方法を提供することに
ある。

〈課題を解決するための手段〉 本発明によれば下記一般式（Ｉ） ＣＨ＝ＣＨ２ 〔式中Ｒは、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を
示し、Ｒｐは、Ｘ（ＣＦ２±、、１１又は〔式中Ｒは、
水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を示し、ＲＦは
、ｘ　（ＣＦ　２＋。１又はを示す。（但しＸは、フッ
素原子、塩素原子若しくは水素原子を示す。またｎ、は
１〜１０の整数を示し、ｎ２はＯ〜８の整数を示す）ま
たＲＦ含有置換基は、ビニル基に対してメタ位又はノ＜
う位に置換している〕で表わされるフルオロアルキル基
含有スチレン誘導体が提供される。

また本発明によれば下記一般式（Ｈ） ＣＨ＝ＣＨ２ ■ を示す。（但しＸは、フッ素原子、塩素原子若しくは水
素原子を示す。またｎ□は１〜１０の整数を示し、ｎ２
は０〜８の整数を示す）またＲＦ含有置換基はビニル基
に対してメタ位又はパラ位に置換している〕で表わされ
るフルオロアルキル基含有スチレン誘導体が提供される
。

更に本発明によれば、下記一般式（ｍ）〔式中Ｒは、水
素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を示し、ＲＦは、
Ｘ　（ＣＦ２＋ｎ□又は♂Ｈ を示す。（但しＸは、フッ素原子、塩素原子若しくは水
素原子を示す。またｎ工は１〜１０の整数を示し、ｎ２
は０〜８の整数を示す）またＲＦ含有置換基は、ビニル
基に対してメタ位又はパラ位に置換している〕で表わさ
れるフルオロアルキル基含有スチレン誘導体が提供され
る。

更にまた本発明によれば、下記一般式（ＩＶ）〔式中Ｒ
Ｆは、Ｘ　（　Ｃ　Ｆ　２　＋　ｎｌ又はを示す。（但
しＸは，フッ素原子、塩素原子又は水素原子を示す。ま
たｎｌは１〜１０の整数を示し、ｎ２は０〜８の整数を
示す）〕で表わされる過酸化フルオロアルカノイルと、
下記一般式（Ｖ）ル基を示し、２つのビニル基はそれぞ
れメタ位又はパラ位に置換している）で表わされるジビ
ニルベンゼン類とを反応させることを特徴とする前記一
般式（１）で表わされるフルオロアルキル基含有スチレ
ン誘導体の製造方法が提供される。

また本発明によれば前記一般式（Ｉ）で表わされるフル
オロアルキル基含有スチレン誘導体を、アルカリで加水
分解することを特徴とする前記−般式（ＩＩ）で表わさ
れるフルオロアルキル基含有スチレン誘導体の製造方法
が提供される。

更に本発明によれば、前記一般式（ｎ）で表わされるフ
ルオロアルキル基含有スチレン誘導体を、酸性下で加熱
処理することを特徴とする前記一般式（ｍ）で表わされ
るフルオロアルキル基含有スチレン誘導体の製造方法が
提供される。

以下本発明を更に詳細に説明する。

本発明のフルオロアルキル基含有スチレン誘導体は、下
記一般式（１）、下記一般式（１１）又は下記一般式（
ｍ）で表わすことができ、（式中Ｒは、水素原子又は炭
素数１〜４のアルキ式中Ｒは、水素原子又は炭素数１〜
４のアルキル基を示し、ＲＦは、Ｘ（ＣＦ　２　＋　ｎ
−又はを示す。（但しＸは、フッ素原子、塩素原子、若
しくは水素原子を示す。またｎｌは１〜１ｏの整数を示
し、ｎ２はＯ〜８の整数を示す）またＲＦ含有置換基は
ビニル基に対してメタ位又はパラ位に置換している。ま
た、この際ｎ１が１０を超える場合、ｎ２が８を超える
場合、またＲが炭素数５以上のアルキル基の場合には製
造が困難である。

前記一般式（Ｉ）で表わされるフルオロアルキル基含有
スチレン誘導体としては、例えばｐ−（１トリフルオロ
アセチルオキシ−３，３，３−１−リフルオロプロピル
）スチレン、ｐ−（１−ペンタフルオロプロピオニルオ
キシ−３，３，４，４゜４−ペンタフルオロブチル）ス
チレン、ｐ−（１−へブタフルオロブチリルオキシ−３
，３，４゜４．５，５．５−ヘプタフルオロペンチル）
スチレン、ｐ−（１−１−リデカフルオロヘプタノイル
オキシ−３，３，４，４，５，５，６，６，７゜７．８
，８．８−１−リデカフルオロオクチル）スチレン、ｐ
−（１−ペンタデカフルオロオクタノイルオキシ−３，
３，４，４−，５，５，６，６゜７．７，８，８，９，
９．９−ペンタデカフルオロノニル）スチレン、ｍ−（
１−１−リフルオロアセチルオキシ−３，３，３−トリ
フルオロプロピル）スチレン、ｍ−（１−ペンタフルオ
ロプロピオニルオキシ−３，３，４，４，，４−ペンタ
フルオロブチル）スチレン、ｍ−（１−へブタフルオロ
ブチリルオキシ−３，３，４，４，５，５，５−ヘプタ
フルオロペンチル）スチレン、ｍ−（１トリデカフルオ
ロヘプタノイルオキシ−３，３゜４．４，５，５，６，
６，７，７，８，８．８トリデカフルオロオクチル）ス
チレン、ｍ−（１ペンタデカフルオロオクタノイルオキ
シ−３゜３、．４，４，５，５，６，６，７，７，８，
８゜９．９．９−ペンタデカフルオロノニル）スチレン
、１−ビニル−３−メチル−４−（１’　−へブタフル
オロブチリルオキシ−３’　、３’　、４．’４’　、
５’　、５’　、５’　−へブタフルオロペンチル）ベ
ンゼン、１−ビニル−３−メチル−４（１’−トリデカ
フルオロヘプタノイルオキシ−３’　、３’　、４’　
、４’　、５’　、５’　、６’６’　、７’　、７’
　、８’　、８’　、８’　−トリデカフルオロオクチ
ルベンゼン、ｐ−［１−（ペルフルオロ−２′−メチル
−３′−オキサヘキサノイルオキシ）−２−（ペルフル
オロ−１′−メチル−２′−オキサペンチル）−エチル
〕スチレン、ｍ−（１−（ペルフルオロ−２′−メチル
−３′−オキサヘキサノイルオキシ）−２−（ペルフル
オロ−１′−メチル−２′−オキサペンチル）エチル〕
スチレン、ｐ−［１−（ペルフルオロ２’　、５’　−
ジメチル−３’　、６’　−ジオキサノナノイルオキシ
−２−（ペルフルオロ−１′４′−ジメチル−２’　、
５’　−ジオキサオクチル）エチル〕スチレン、ｍ−（
１−（ペルフルオロ２’　、５’　−ジメチル−３’　
、６’　−ジオキサノナノイルオキシ−２−（ペルフル
オロ−１′４′−ジメチル−２’　、５’　−ジオキサ
オクチル）−エチル〕スチレン等を好ましく挙げること
ができる。

また前記一般式（ＩＩ）で表わされるフルオロアルキル
基含有スチレン誘導体としては、例えばｐ（１−ヒドロ
キシ−３，３，３−トリフルオロプロピル）スチレン、
ｐ−（１−ヒドロキシ−３゜］３ ３．４．．４．．４−ペンタフルオロブチル）スチレン
、ｐ−（１−ヒドロキシ−３，３，４，，４，５゜５．
５−ヘプタフルオロペンチル）スチレン、ｐ−（１−ヒ
ドロキシ−３，３，４，，４，，５，５゜６．６，７，
７，８，８．８−１−リデカフルオロオクチル）スチレ
ン、Ｐ−（１−ヒドロキシ−３゜３．４，４，５，５，
６，６，７，７，８，８゜９．９．９−ペンタデカフル
オロノニル）スチレン、ｍ−（１−ヒドロキシ−３，３
，３−ｈリフルオロプロピル）スチレン、ｍ−（１−ヒ
ドロキシ−３，３，４，，４，４−ペンタフルオロブチ
ル）スチレン、ｍ−（１−ヒドロキシ−３，３，４゜４
．５，５．５−へブタフルオロペンチル）スチレン、ｍ
−（１−ヒドロキシ−３，３，４，４，。

５．５，６，６，７，７，８，８．８−１〜リデカフル
オロオクチル）スチレン、ｍ−（１−ヒドロキシ−３，
３，４，４，５，５，６，６，７，７゜８．８，９，９
．９−ペンタデカフルオロノニル）スチレン、１−ビニ
ル−３−メチル−４−（１’ヒドロキシ−３’　、３’
　、４’　、４’　、５’５’　、５’−へブタフルオ
ロペンチル）ベンゼン、１−ビニル−３−メチル−４−
（１’　−ヒドロキシ−３’　、３’　、４’　、４’
　、５’　、５’　、６’〜 ６’　、７’　、７’　、８’　、８’　、９’　、９
’９′−ペンタデカフルオロオクチル）ベンゼン、ｐ−
〔１−ヒドロキシ−２−（ペルフルオロ１′−メチル−
２′−オキサペンチル）−エチル〕スチレン、ｍ−［１
−ヒドロキシ−２−（ペルフルオロ−１′−メチル−２
′−オキサペンチル）−エチル〕スチレン、ｐ　−（１
−ヒドロキシ−２（ペルフルオロ−１’、４．’　−ジ
メチル−２′５′−ジオキサオクチル）−エチル〕スチ
レン、ｍ−［１−ヒドロキシ−２−（ペルフルオロ１’
、４．’　−ジメチル−２’　、５’　−ジオキサオク
チル）−エチル〕スチレン等を好ましく挙げることがで
きる。

更に前記一般式（ｍ）で表わされるフルオロアルキル基
含有スチレン誘導体としては、例えばｐ−（β−トリフ
ルオロメチルビニル）スチレン、ｐ−（β−ペンタフル
オロエチルビニル）メチル＝１６ ン、ｐ−（β−へブタフルオロプロピルビニル）スチレ
ン、ｐ−（β−トリデカフル方コロヘキシルビニルスチ
レン、ｐ−（β−ペンタデカフルオロヘプチルビニル）
スチレン、ｍ−（β−トリフルオロメチルビニル）スチ
レン、ｍ−（β−ペンタフルオロエチルビニル）スチレ
ン、ｍ−（β−へブタフルオロプロピルビニル）スチレ
ン、ｍ（β−トリデカフルオロへキシルビニル）スチレ
ン、ｍ−（β−ペンタデカフルオロヘプチルビニル）ス
チレン、１−ビニル−３−メチル−４−（β−へブタフ
ルオロプロピルビニル）ベンゼン、１−ビニル−３−メ
チル−４−（β−ペンタデカフルオロヘキシルビニル）
ベンゼン、ｐ−（β−ペルフルオロ−１−メチル−２−
オキサペンチルビニル〕スチレン、ｍ−（β−ペルフル
オロ−１メチル−２−オキサペンチルビニル〕スチレン
、ｐ−Ｃβ−ペルフルオロ−１，４−ジメチル−２゜５
−ジオキサオクチルビニル〕スチレン、ｍ　−〔β−ペ
ルフルオロ−１，４−ジメチル−２，５ジオキサオクチ
ルビニル〕スチレン等を好ましく挙げることができる。

本発明における前記一般式（１）で表わされるフルオロ
アルキル基含有スチレン誘導体の製造方法（以下、製造
方法（Ｉ）と称す）は、特定の過酸化フルオロアルカノ
イルと、特定のジビニルベンゼン類とを反応させること
を特徴とする。

前記製造方法ＣＩ）において用いる前記特定の過酸化フ
ルオロアルカノイルは、下記一般式（ＩＶ）で表わすこ
とができ、 式中ＲＰは、Ｘ　（ＣＦ　２　＋　ｎｘ又はを示す。（
但しＸは１．フッ素原子、塩素原子若しくは水素原子を
示す。またｎ□は１〜１０の整数を示し、ｎ２はＯ〜８
の整数を示す）。前記ｎ１が１０を超える場合、もしく
はｎ２が８を超える場合には溶媒の存在下において反応
させる際に、溶媒に対する溶解性が低下して、溶媒存在
下での反応が困難であるので使用できない。前記一般式
（ＩＶ）で表わされる過酸化フルオロアルカノイルのＲ
２は、具体的には、ＣＦ３−、　Ｆ　（ＣＦ２−）−２
゜Ｆ　（ＣＦ２−）−、、Ｆ　（ＣＦ２−）−、、Ｆ　
（ＣＦ２＋５゜Ｆ　（ｃｐ２＋６．　Ｆ　（ＣＦ２−）
−、、Ｆ　（ＣＦ２−）−８゜Ｆ　（ＣＦ２−）−９，
Ｆ　（ＣＦ２−）−１ｏ、　ＨＣＦ２Ｈ（ＣＦ２＋２．
Ｈ（ＣＦ２＋３．Ｈ（ＣＦ２＋、。

Ｈ（ＣＦ２−）−５，Ｈ（ＣＦ２−）、、　Ｈ（ＣＦ２
−）−７゜Ｈ（ＣＦ２−）−、、Ｈ（ＣＦ２−）−３，
Ｈ（ＣＦ２＋１０゜ＣｌＣＦ２−、Ｃ１（’ＣＦ２−）
−２，Ｃ１（ＣＦ２＋３゜Ｃ１（ＣＦ２＋、、Ｃ１（ｃ
Ｆ２＋ｓ＋Ｃ１（ＣＦ２＋６．Ｃ］　（ＣＦ２＋７゜Ｃ
１（ＣＦ２−）−、、ＣＩ　　（ＣＦ２−）−９゜ＣＩ
　　（ＣＦ２＋１０１ である。

また前記製造方法（１）において、前記特定の過酸化フ
ルオロアルカノイルと反応させる前記特定のジビニルベ
ンゼン類は、下記一般式（Ｖ）で表わすことができ、 ＝１９ 式中Ｒは、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を示
し、２つのビニル基はそれぞれメタ位又はパラ位に置換
している。この際Ｒが炭素数５以上のアルキル基である
場合には製造が困難であるため使用できない。

前記一般式（Ｖ）で表わされるジビニルベンゼン類とし
ては、例えば、Ｐ−ジビニルベンゼン、ｍ−ジビニルベ
ンゼン、１，４−ジビニル−２メチルベンゼン、１．４
−ジビニル−２−エチルベンゼン、１，４−ジビニル−
２−プロピルベンゼン、１，４−ジビニル−２−ブチル
ベンゼン、１．３−ジビニル−５−メチルベンゼン、１
，３ジビニル−５−エチルベンゼン、１，３−ジビニル
−５−プロピルベンゼン、１，３−ジビニル５−ブチル
ベンゼン等を好ましく挙げることができる。

更に前記製造方法（Ｉ）において、前記過酸化フルオロ
アルカノイルと、前記ジビニルベンゼン類とを反応させ
る際の前記過酸化フルオロアルカノイルと、前記ジビニ
ルベンゼン類との仕込み比はモル比で、に０．５〜１０
が好ましく、特に１：０．８〜５であるのが好ましい。

前記ジビニルベンゼン類の仕込み比がモル比で０．５未
満の場合には生成するフルオロアルキル基含有スチレン
誘遵体の収率が低下し、１０を超えると反応終了後にお
いて未反応ジビニルベンゼン類が多量に残存し、目的と
する生成物の単離が困難となるので好ましくない。また
反応を行なう際の圧力は常圧で行なうことが可能であり
、かつ反応温度は通常−３０℃〜１５０℃の範囲である
ことが望ましい。前記反応温度が一３０℃未満の場合に
は反応時間に長時間を要し、１５０℃を超えると反応を
行なう際の圧力が高くなり、反応操作が困難となるので
好ましくない。更にまた反応時間は通常３０分〜２０時
間の範囲にて行なうことが好ましい。

反応時間が３０分未満の場合には、反応の進行が十分で
なく、２０時間を超えても反応の進行が認められないの
で好ましくない。

本発明における前記製造方法（１）においては、前記各
々の反応条件下において、前記過酸化フルオロアルカノ
イルと前記ジビニルベンゼン類とを反応させることによ
り、目的とする前記一般式（Ｉ）で表わされるフルオロ
アルキル基含有スチレン誘導体を得ることができるが、
前記過酸化フルオロアルカノイルの取り扱い及び反応を
より速やかに行なうために、反応を行なう際溶媒を用い
ることが好ましい。前記溶媒としては、ハロゲン系脂肪
族溶媒が好ましく、特に工業的には、１゜１．２−トリ
クロロ１ヘリフルオロエタンを好ましく挙げることがで
きる。また溶媒を用いて反応を行なう際の前記溶媒の仕
込み量は、前記過酸化ポリフルオロアルカノイルの濃度
が溶媒に対して１〜５ｏ重量％となるように調整するの
が好ましい。

また本発明における前記一般式（ＩＩ）で示されるフル
オロアルキル基含有スチレン誘導体の製造方法（以下製
造方法（Ｉ［）と称す）は、前記一般式（Ｉ）で表わさ
れるフルオロアルキル基含有スチレン誘導体をアルカリ
で加水分解することを特徴とする。

前記製造方法（ＩＴ）において用いるアルカリとしては
、例えば、水酸化すＩ〜リウム、水酸化カリウム、炭酸
水素す１−リウム等を好ましく挙げることができ、使用
に際しては単独若しくは混合物として用いることができ
る。この際前記アルカリと、前記一般式（１）で表わさ
れるフルオロアルキル基含有スチレン誘導体との仕込み
比は、モル比で０．５：１〜２０：１とするのが好まし
い。前記アルカリの仕込み比がモル比で０．５未満の場
合には、生成物の収率が低く、２０を超えると副生物の
生成が多くなるので工業的に好ましくない。

また前記製造方法（ｎ）において、アルカリで加水分解
する際の反応温度はＯ〜１００　’Ｃの範囲であるのが
好ましい。前記反応温度が０°Ｃ未満の場合には、収率
が低下し、１００℃を超えると副生物の生成が多くなる
ので工業的に好ましくない。

更にまた反応時間は３０分〜５０時間とするのが好まし
い。前記反応時間が３０分未満の場合には反応の進行が
十分でなく、５０時間を超えて反応を行なっても反応の
進行が認められないので好ましくない。

更に前記製造方法（ｎ）においては、反応操作の簡易化
及び反応をより速やかに行なうために溶媒を用いること
もできる。前記溶媒としては、ジオキサン、メタノール
、エタノール、アセトニトリル等を好ましく挙げること
ができる。この際溶媒の仕込み量は前記一般式（Ｉ）で
表わされるフルオロアルキル基含有スチレン誘導体１０
０重量部に対して０〜１００００重量部用いるのが好ま
しい。

更に本発明において前記一般式（ｍ）で表わされるフル
オロアルキル基含有スチレン誘導体の製造方法（以下製
造方法（ＩＩＩ）と称す）は、前記−般式（ｎ）で表わ
されるフルオロアルキル基含有スチレン誘導体を酸性下
で加熱処理することを特徴とする。

前記製造方法（ＩＩＩ）において用いる強酸性物として
は、ｐ−トルエンスルホン酸、硫酸、五酸化リン等を好
ましく挙げることができ、使用に際しては単独若しくは
混合物として用いることができる。この際強酸性物の仕
込み量は、前記一般式（ＩＩ）で表わされるフルオロア
ルキル基含有スチレン誘導体１００重量部に対して０．
１〜１００重量部とするのが好ましい。前記酸性物の仕
込み量が０．１重量部未満の場合には、反応が進行せず
、１００重量部を超えると前記一般式（ＩＴ）で表わさ
れるフルオロアルキル基含有スチレン誘導体が分解する
為好ましくない。

また前記製造方法（ＩＩＩ）において前記一般式（ＩＩ
）で表わされるフルオロアルキル基含有スチレン誘導体
を加熱処理する際の反応温度は５０〜２００℃とするの
が好ましい。前記反応温度が５０℃未満だと反応が進行
せず、２００　℃を超えると生成物の分解が生じる為好
ましくない。またこの際反応時間は、３０分〜５０時間
とするのが好ましく、３０分未満の場合には反応が十分
進行せず、５０時間を超えて反応を行なっても反応の進
行が認められないので好ましくない。

更に前記製造方法（ＩＩＩ）においては、反応操作の簡
易化及び反応をより速やかに行なう目的で、反応を行な
う際に溶媒を用いてもよい。前記溶媒２日 としでは、ベンゼン、トルエン、キシレン等を好ましく
挙げることができる。溶媒の仕込み量は、前記一般式（
ｍ）で表わされるフルオロアルキル基含有スチレン誘導
体１００重量部に対して０〜１０００重量部とするのが
好ましい。

本発明における製造方法（Ｉ）、製造方法（ＩＩ）及び
製造方法（ｍ）により得られる反応生成物は、蒸留、カ
ラムクロマトグラフィー等の公知の方法により容易に精
製することができる。

〈発明の効果〉 本発明のフルオロアルキル基含有スチレン誘導体は新規
な化合物であり、芳香族環中に炭素−炭素結合によりフ
ルオロアルキル基が導入されているので、含フツ素モノ
マーとして、また撥水撥油剤、界面活性剤、潤滑剤、医
薬、農薬等の合成中間体、更には光機能性材料として有
用である。

また本発明の製造方法によると、短時間で高収率且つ容
易に、しかも反応触媒及び特殊な装置等を使用せずにフ
ルオロアルキル基含有スチレン誘導体を製造することが
できる。

〈実施例〉 以下本発明を実施例により更に詳しく説明するが本発明
はこれらに限定されるものではない。

尖許析よ 過酸化ビス（ペルフルオロ−２−メチル−３オキサヘキ
サノイル）７．９０　ｇ（１２ｍｍｏＱ）を含む１，１
．２−トリクロロトリフルオロエタン溶液９０ｇ中に、
ｐ−ジビニルベンゼン１５ｍｍｏＱ（１，０２ｇ）を加
え、窒素気流下にて、４０℃で、５時間反応を行なった
。反応終了後、５％水酸化ナトリウム水溶液及び水を用
いてそれぞれ２回洗浄を行ない、硫酸マグネシウムで乾
燥した後、蒸留により下記構造を有する、ｐ　−［１−
（ペルフルオロ−２′−メチル−３′−オキサヘキサノ
イルオキシ−２−（ペルフルオロ−１７−メチル−２′
−オキサペンチル）−エチル〕スチレンを収率８５％で
得た。（収率は過酸化物に対する収率である）。得られ
た化合物についてマススペクトル、ＩＲｌｌＨ−ＮＭＲ
１１９Ｆ−ＮＭＲの分析結果について以下に示す。

ＭＡＳＳ　　　ｍ／ｚ　　　７４４　　（Ｍ”）Ｅｘａ
ｃｔ　　　ＭＡＳＳ　　　ｍ／ｚ　　　７４４．２７１
８（実測値） Ｃ２１Ｈ１ｆｌ　Ｆ　２２０．．７４．４．２７２４　
（理論値）’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｆ１３） δ２．Ｏ〜３．１　（２Ｈ，ｍ）。

５、Ｅ５　（ＩＨ，ｄ）、５．２　（ＩＨ，ｄ）、。

６．３　（ＩＨ，ｍ）、６．２　（ＬＨ，ｄｄ）。

７．３−７．８　（４Ｈ，ｍ） １９Ｆ−ＮＭＲ（ＣＤＣｕ、、ｅｘｔｅｒｎａｌＣＦ３
Ｃ○２　Ｈ） δ−２，１〜−９，８（１６Ｆ）。

−５１，９（２Ｆ）、−５３，３（４Ｆ）ＩＲ（ａｎ−
１）１２３０　（ＣＦ２）　、１３２０（ＣＦ３）、１
３４０　　（ＣＦ３）、１７８０（Ｃ○） 去】１鉗λ 実施例１で得られたｐ　−（１−（ペルフルオロ２′−
メチル−３′−オキサヘキサノイルオキシ−２−（ペル
フルオロ−１′−メチル−２７オキサペンチル）−エチ
ル〕スチレン２　ｍｍｏ　Ｄ、をジオキサン５ｍＱに溶
解し、これに水酸化ナトリウム４　ｍｍｏ　Ｑを加え、
室温にて５時間反応を行なった。反応終了後、水洗を行
ない、次いでエーテル抽出を行った。得られた抽出物を
硫酸マグネシウムを用いて脱水を行なった後、生成物を
カラムクロマトグラフィーを用いて精製した。得られた
生成物について実施例１と同様に分析を行なった結果、
下記構造式を有するｐ−〔１−ヒドロキシ−２−（ペル
フルオロ−１′−メチル−２′−オキサペンチル）−エ
チル〕スチレンを収率９１％で得た。

分析結果について以下に示す。

ＭＡＳＳ　　ｍ／ｚ　　４３２ Ｅｘａｃｔ　　ＭＡＳＳ　　ｍ／ｚ　　４３２．２３３
９（実測値） Ｃ１Ｓ　Ｈ１□Ｆ工、０２，４３２．２３３１　（理論
値）’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＱ３） δ２．３〜３．０　（２Ｈ，ｍ）。

５．５（ＩＨ，ｂ　ｒ）、５．６（ＬＨ，ｄ　ｄ）。

５．９（ＬＨ，ｄｄ）、６．９（ＬＨ，ｄｄ）。

７．０−７．３　（４Ｈ，ｍ） ”Ｆ−ＮＭＲ（ＣＤＣＱ３．　ｅ　ｘ　ｔ　ｅ　ｒ　ｎ
　ａ　ｌＣＦ３ＣＯ２Ｈ） δ−２，９〜−９，７（８Ｆ）、−５２，０〜−５６，
０（３Ｆ） ＩＲ（ａｎ−”）　　１２３０　（ＣＦ２）、１３２０
（ＣＦ３）、１３４０　　（ＣＦ３）’　、３４５０（
○Ｈ） 去１目澹劣 実施例２において得られたｐ−〔１−ヒドロキシ−２−
（ペルフルオロ−１′−メチル−２′オキサペンチル）
−エチル〕スチレン１　ｍｍｏ　Ｑを含むベンゼン溶液
２０ｍＱに五酸化リン５　ｍｍｏ　Ｑを加え、５時間還
流を行なった。次いで水洗及びエーテル抽出を行ない、
硫酸マグネシウムを用いて脱水した後、カラムクロマト
グラフィーにより精製を行なった。得られた生成物につ
いて実施例１と同様に分析を行なった結果、下記構造を
有するｐ−（β−ペルフルオロ−１−メチル−２−オキ
サペンチルビニル〕スチレンを収率９３％で得た。

分析結果を以下に示す。

ＭＡＳＳ　　　ｍ／ｚ　　　４１４（Ｍ＋）Ｅｘａｃｔ
　　　ＭＡＳＳ　　　ｍ／ｚ　　　４１４．２１２０（
実測値） Ｃ□５Ｈ，Ｆ□□０，４１４．２１７９　（理論値）’
Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ（１３） ６５．２　（ＩＨ，ｄｄ）、５．６　（ＩＨ，ｄｄ）。

６．０　（ＩＨ；　ｄｄ）、６．６　（ＬＨ，ｄｄ）。

７．８　（ＩＨ，ｄ）。

７．５−７．９　（４Ｈ，ｍ） １９Ｆ−ＮＭＲ（ＣＤＣｆｌ、、　ｅ　ｘ　ｔ　ｅ　ｒ
　ｎ　ａ　ｌＣＦ３Ｃｏ２Ｈ） ８−２．０−−９．１　（８Ｆ）、−５３，０（ＩＦ）
、−５４，２（２Ｆ） ＩＲ（ａｎ−’）　　１２５５　（ＣＦ２）、１３２０
（ＣＦ３）　、　１３４０　（ＣＦ３）来崖勇ム ｐ−ジビニルベンゼンをｍ−ジビニルベンゼンに代えた
以外は実施例１と同様に反応、精製及び分析を行ない、
ｍ−（１−（ペルフルオロ−２′−メチル−３′−オキ
サヘキサノイルオキシ−２−（ペルフルオロ−１′−メ
チル−２′−オキサペンチル）−エチル〕スチレンを収
率７２％で得た。

分析結果を以下に示す。

ＭＡＳＳ　　ｍ／ｅ　　７４４ Ｅｘａｃｔ　　ＭＡＳＳ　　ｍ／ｚ　　７４４．２７２
０（実測値） Ｃ２□Ｈ□。Ｆ２□○、、７４４．２７２４　（理論値
）’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＱ、３） δ２．３−３．４．（２Ｈ，ｍ）。

５．２　（ＩＨ，ｄ）、５．９　（ＩＨ，ｄ）、、６．
２　（ＩＨ，ｍ）、６．６　（ＬＨ，ｄｄ）。

７．０−７．４　（４Ｈ，ｍ） ”Ｆ−ＮＭＲ（ＣＤＣＱ３．　ｅ　ｘ　ｔ　ｅ　ｒ　ｎ
　ａ　１一 ＣＦ３Ｃ○２　Ｈ） δ−２，１〜−９，８（１６Ｆ）、−５１，９（２Ｆ）
、−５３，３（４，Ｆ） ＩＲ（ａｎ−”）　　　１２３０　　（ＣＦ２）、１３
２０（ＣＦ３）、１３４０　　（ＣＦ３）、１７９０（
Ｃ○） 実施例５ 実施例４で得られたｍ−（１−（ペルフルオロ−２フー
メチル−３７−オキサヘキサノイルオキシ−２−（ペル
フルオロ−１７−メチル−２７オキサペンチル）−エチ
ル〕スチレンを用いた以外は実施例２と同様に反応、精
製及び分析を行ない、ｍ−［１−ヒドロキシ−２−（ペ
ルフルオロ１′−メチル−２′−オキサペンチル）−エ
チル〕スチレンを収率９０％で得た。

分析結果を以下に示す。

ＭＡＳＳ　　　ｍ／ｚ　　　４−３２ Ｅｘａｃｔ　　　ＭＡＳＳ　　　ｍ／ｚ　　　４３２．
２３２４（実測値） Ｃ□５Ｈ□１Ｆよ、０２，４３２．２３３１　（理論値
）”Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｆ１．） δ２，１−２．６　（２Ｈ，ｍ）。

５．１．（ＩＨ，ｂ　ｒ）、５．２（１，Ｈ，ｄｄ）。

５．４（ＩＨ，ｄｄ）、６．２（ＩＨ，ｄｄ）。

７．２−７．６　（４Ｈ，ｍ） １９Ｆ−ＮＭＲ（ＣＤＣＱ３．ｅｘｔｅｒｎａｌＣＦ３
ＣＯ２Ｈ） δ−２，９〜−９，７（８Ｆ）、−５２，０−−５６，
０（３Ｆ） ＩＲ（Ｃ１ｌ＋−’）　　１２３０　（ＣＦ、）　、　
１３２０（ＣＦ３）、１３４０　（ＣＦ３）、３４００
（○Ｈ） 太凰孤旦 実施例５において得られたｍ−［１−ヒドロキシ−２−
（ペルフルオロ−１′−メチル−２′オキサペンチル）
−エチル］スチレンを用いた以＝３５− 外は実施例３と同様に反応、精製及び分析を行ない、ｍ
−（β−ペルフルオロ−１−メチル−２−オキサペンチ
ルビニル〕スチレンを収率９３％で得た。

分析結果を以下に示す。

ＭＡＳＳ　　ｍ／ｚ　　４１４　（Ｍ＋）Ｅｘａｃｔ　
　ＭＡＳＳ　　ｍ／ｚ　　４１４．２Ｌ５１（実測値） Ｃ□、Ｈ，Ｆｌｌｏ、４１４．２１７９　（理論値）”
Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｆ１３） δ５，６　（ＩＨ，、ｄｄ）。

５．９（ＬＨ，ｄｄ）、６．０（ＬＨ，ｄ）。

７．０　（ＩＨ，ｄｄ）、７．５（ＩＨ，ｄ）。

７．３−７．９（４Ｈ，ｍ） １９Ｆ−ＮＭＲ（ＣＤＣＱ３．ｅｘｔｅｒｎａｌＣＦ３
ＣＯ２Ｈ） δ−２，０〜−９，１（８Ｆ）、−５３，０（ＩＦ）、
−５４，２（２Ｆ） ＩＲ（ａｎ−”）　　　１２２５　　（ＣＦ２）、１３
２０（ＣＦ、）、１３４０　　（ＣＦ３）。

去１１」Ｌ 過酸化ペルフルオロ−２−メチル−３−オキサヘキサノ
イルを過酸化へブタフルオロブチリルに代えた以外は実
施例１と同様に反応、精製及び分析を行ない、ｐ−（１
−へブタフルオロブチリルオキシ−３，３，４，４，５
，５，５−へブタフルオロペンチル）スチレンを収率８
２％で得た。

各分析結果を以下に示す。

ＭＡＳＳ　　ｍ／ｅ　　５１２　（Ｍ＋）Ｅｘａｃｔ　
　ＭＡＳＳ　　ｍ／ｚ　　５１２．２４２＝３７ Ｏ（実測値） Ｃ１７Ｈ工。Ｆ、、０２，５１２．２４２４　（理論値
）１Ｈ−ＮＭＲＣＣＤＣＣ３） ６２．３−３．２　（２Ｈ，ｍ）。

５．３　（ＬＨ，ｄ）、５．８　（ＩＨ，ｄ、）。

６．４　（ＩＨ，ｍ）、６．７　（ＬＨ，ｄｄ）。

７．２〜７．５　（４Ｈ，ｍ） １９Ｆ−ＮＭＲ（ＣＤＣＣ３，ｅ　ｘ　ｔ　ｅ　ｒ　ｎ
　ａ　ＩＣＦ３Ｃ○２Ｈ） δ−３，５〜−５，１（６Ｆ）、−３３，０（４Ｆ）、
−５１，１，（４，Ｆ） ＩＲ（ａｎ−１）１２３５　（ＣＦ２）　、１３４０（
ＣＦ、）、１７８５　（Ｃ○）。

失族板旦 実施例７で得られたＰ−（１−へブタフルオロブチリル
オキシ−３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロ
ペンチル）スチレンを用いた以外は実施例２と同様に反
応、精製及び分析を行ない、ｐ−（１−ヒドロキシ−３
，３，４，４，５，５゜５−へブタフルオロペンチル）
スチレンを収率８ｐ−（１−ヒドロキシ−３，３，４，
４，５，５゜５−へブタフルオロペンチル）スチレンを
収率８９％で得た。

分析結果を以下に示す。

ＭＡＳＳ　　ｍ／ｚ　　３１６（Ｍ＋）Ｅｘａｃｔ　　
ＭＡＳＳ　　ｍ／ｚ　　３１６．２１７５（実測値） Ｃ１３Ｈ□□Ｆ７０，３１６．２１８１　（理論値）’
Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ（１３） ６２．２−２．８　（２Ｈ，ｍ）。

５．２（ＬＨ，ｂ　ｒ）、５．３　（ＩＨ，ｄｄ）。

５．８（ＩＨ，ｄｄ）、６．８（ＬＨ，ｄｄ）。

７．３−７．５　（４Ｈ，ｍ） １９Ｆ−ＮＭＲ（ＣＤＣＣ３，ｅｘｔｅｒｎａｌＣＦ、
ＣＯ２Ｈ） δ−３，５（３Ｆ）、−３３，０（２Ｆ）。

−５１，１（２Ｆ） ＩＲ（ａｎ−１）１２３０　　（ＣＦ２）、１３４０（
ＣＦ３）、３４００　（ＯＨ） 実施例９ 実施例８において得られたｐ−（１−ヒドロキシ−３，
３，４，４，５，５，５−へブタフルオロペンチル）ス
チレンを用いた以外は実施例３と同様に反応、精製及び
分析を行ない、ｐ−（β−ペルフルオロプロピルビニル
〕スメチンを収率９５％で得た。

分析結果を以下に示す。

ＭＡＳ　Ｓ　　ｍ／　ｚ　　２９８　（Ｍ＋）Ｅｘａｃ
ｔ　　ＭＡＳＳ　　ｍ／ｚ　　２９８．２０２２（実測
値） Ｃ１３Ｈ，Ｆ７，２９８．２０２９　（理論１ｆｉ）”
Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＲ３） ６５．３　　（ＬＨ，ｄｄ）。

５．８　　（ＩＴ（、ｄｄ）、６．２　　（ＬＨ，ｄ）
。

６．７　　（ＬＨ，ｄｄ）、７．５　　（ＩＨ，ｄ）。

７．４−７．６　　（４Ｈ，ｍ） １９Ｆ−ＮＭＲ（ＣＤＣＲ３，ｅ　ｘ　ｔ　ｅ　ｒ　ｎ
　ａ　ＩＣＦ３Ｃ○２　Ｈ） δ−３，５（３Ｆ）、−３３，９（２Ｆ）。

−５１，０（２Ｆ） ＩＲ（ａｎ−”）１２２５　　（ＣＦ２）、１３４０（
ＣＦ３） 実施例１０ 過酸化ビス（ペルフルオロ−２−メチル−３−オキサヘ
キサノイル）を過酸化ビス（ヘプタフルオロブチリル）
に代え、ｐ−ジビニルベンゼンをｍ−ジビニルベンゼン
に代えた以外は実施例１と同様に反応、精製及び分析を
行ない、ｍ−（１ヘプタフルオロブチリルオキシ−３，
３，４，，４゜５．５．５−へブタフルオロペンチル）
スチレンを収率８０％で得た。

分析結果を以下に示す。

ＭＡＳＳ　　ｍ／ｅ　　５１２　（Ｍ＋）Ｅｘａｃｔ　
　ＭＡＳＳ　　ｍ／ｚ　　５１２．２４１９（実測値） Ｃ１□Ｈ□。Ｆ１４０２，５１２．２４２４．（理論値
）１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＱ、３） ６２．３〜３．２　（２Ｈ，ｍ）。

５．２　（１Ｂ、ｄ）、５．９　（ＩＨ，ｄ）。

６．４　（ＬＨ，ｍ）、６．７　（ＩＨ，ｄ　ｄ）。

７．２−７．５　（４Ｈ，ｍ） ”Ｆ−ＮＭＲ（ＣＤＣＱ３．　ｅ　ｘ　ｔ　ｅ　ｒ　ｎ
　ａ　ＩＣＦ３Ｃ○２　Ｈ） δ−３，５〜−５，１（６Ｆ）、−３３，０（４Ｆ）、
−５１，１（４Ｆ） Ｉ　Ｒ（ｌ−１）　１２３５　（ＣＦ２）　、１３４０
（ＣＦ３）、１７７０　　（ｃｏ） 実施例１１ 実施例１０で得られたｍ−（１−へブタフルオロブチリ
ルオキシ−３，３，４，４，５，５，５へブタフルオロ
ペンチル）スチレンを用いた以外は実施例２と同様に反
応、精製及び分析を行ない、ｍ−（１−ヒドロキシ−３
，３，４，４，５゜５．５−へブタフルオロペンチル）
スチレンを収率９２％で得た。

分析結果を以下に示す。

ＭＡＳＳ　　ｍ／ｚ　　３１６ Ｅｘａｃｔ　　ＭＡ、ＳＳ　　ｍ／ｚ　　３１６．２１
７２（実測値） Ｃ１３Ｈ１１Ｆ、０，３１６．２１８１　（理論値）１
Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｆ１３） ３２．２〜２．ａ　（２Ｈ，ｍ）。

５．２　　（ＬＨ，ｂ　ｒ）、５．３（ＩＨ，ｄ　ｄ）
。

５．８（ＩＨ，ｄｄ）、６．８（ＩＨ，ｄｄ）。

７．３〜７．５　　（４Ｈ，ｍ） １９Ｆ−ＮＭＲ（ＣＤＣｆ１３．　　ｅ　ｘ　ｔ　ｅ　
ｒ　ｎ　ａ　ＩＣＦ、Ｃｏ２Ｈ） δ−３，５（３Ｆ）、−３３，０（２Ｆ）。

−５１，１（２Ｆ） ＩＲ（ａｎ−１）１２３０　　（ＣＦ２）、１３４０（
ＣＦ３）、３４５０　　（○Ｈ） 矢１１［し隻 実施例１１において得られたｍ−（１−ヒドロキシ−３
，３，４，４，５，５，５−へブタフルオロペンチル）
スチレンを用いた以外は実施例３と同様に反応、精製及
び分析を行ない、ｍ−［β−ペルフルオロプロピル〕−
ビニルスメチンを収率９０％で得た。

分析結果を以下に示す。

ＭＡ　Ｓ　Ｓ　　ｍ／　ｚ　　２９８　（Ｍ＋）Ｅｘａ
ｃｔ　　ＭＡＳＳ　　ｍ／ｚ　　２９８．２０２４（実
測値） Ｃ，、Ｈ，Ｆ７，２９８．２０２９　（理論値）１Ｈ−
ＮＭＲ（ＣＤ（１，） δ５．４　（ＩＨ，ｄｄ）。

５．７　（ＬＨ，ｄｄ）、６．４　（ＩＨ，ｄ）。

６．８　（ＩＨ，ｄｄ）、７．７　（ＩＨ，ｄ）。

７．３〜７．７　（４Ｈ，ｍ） １９Ｆ−ＮＭＲ（ＣＤＣＱ３．ｅｘｔｅｒｎａｌＣＦ、
Ｃｏ２　Ｈ） δ−３，５（３Ｆ）、−３３，９（２Ｆ）。

５１．０　（２Ｆ） ＩＲ（ａｎ−”）１２２５　（ＣＦ２）、１３４０（Ｃ
Ｆ３） ヌ】１朝↓」− 過酸化ビス（ペルフルオロ−２−メチル−３−オキサヘ
キサノイル）を過酸化ビス（トリデカフルオロヘプタノ
イル）に代えた以外は実施例１と同様に反応、精製及び
分析を行ない、ｐ　−（１−トリデカフルオロヘプタノ
イルオキシ−３，３゜４．４，５，５，６，６，７，７
，８，８．８−トリデカフルオロオクチル）スチレンを
収率６５％で得た。

す 分析結果を以下に示す。

ＭＡＳＳ　　ｍ／ｅ　　８１２ Ｅｘａｃｔ　　ＭＡＳＳ　　ｍ／ｚ　　８１２゜２８９
３（実測値） Ｃ２３Ｈ工。Ｆ２，０□、８１２．２８９２　（理論値
）１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ（１，） δ２．○−３，１（２Ｈ，ｍ）。

５．５　（ＩＨ，ｄ）、５．９　（ＩＨ，ｄ）。

６．３　（ＩＨ，ｍ）、６．５　（ＩＨ，ｄ　ｄ）　。

７．０−７．４　　（４Ｈ，ｍ） １９Ｆ−ＮＭＲ（ＣＤＣＱ３＋　　ｅｘｔｅｒｎａｌＣ
Ｆ３Ｃ○２Ｈ） δ−５，０−−５，５（６Ｆ）、−３２，５〜３３．０
　　（４Ｆ）、−４５，２〜−４９，１（１２Ｆ）、−
５０，０−−５０，４（４Ｆ）ＩＲ（ａｎ−１）１２２
５　　（ＣＦ２）、１３４０、（ＣＦ３）　　、　　１
７８０　　（Ｃ○）矢１１しし先 実施例１３で得られたｐ−（１−トリデカフルオロヘプ
タノイルオキシ−３，３，４，４，５゜５．６，６，７
，７，８，８．８−トリデカフルオロオクチル）スチレ
ンを用いた以外は実施例２と同様に反応、精製及び分析
を行ない、ｐ−（１−ヒドロキシ−３，３，４，４，５
，５，６，６゜７．７，８，８．８−トリデカフルオロ
オクチル）スチレンを収率８８％で得た。

分析結果を以下に示す。

ＭＡＳＳ　　ｍ／ｚ　　４６６ Ｅｘａｃｔ　　ＭＡＳＳ　　ｍ／ｚ　　４６６、２４１
０（実測値） Ｃ１６Ｈ□、Ｆ１３０，４６６、２４１５　（理論値）
”Ｈ−ＮＭＲ　（ＣＤＣΩ３） δ２．Ｏ〜２．６　（２Ｈ，ｍ）。

５、１（ＩＨ，ｂ　ｒ）、５．５（ＬＨ，ｄｄ）。

５、９（ＩＨ，ｄｄ）、６．７　（ＩＨ，ｄ）。

７、６　〜７．９（４Ｈ，ｍ） １９Ｆ−ＮＭＲ　（ＣＤＣＲ３，　ｅ　ｘ　ｔ　ｅ　ｒ
　ｎ　ａ　ＩＣＦ３Ｃ○２Ｈ） δ−５．０　（３Ｆ）、−３２．３　（２Ｆ）。

−４５．２−−４９．１　（６Ｆ）、−５０．４（２Ｆ
） Ｉ　Ｒ　　（ｄｌｌ−１）　　　１　２　３　０　　（
ＣＦ２）　　、１　３４　０（ＣＦ３）、３４００　　
（○Ｈ） 実施例１５ 実施例１４において得られたｐ　−　（１−ヒドロキシ
−３．３，４，４，５，５，６，６，７，７。

８、８．８−トリデカフルオロオクチル）スチレンを用
いた以外は実施例３と同様に反応、精製及び分析を行な
い、ｐ−（βーペルフルオロヘキシルビニル〕スメチン
を収率９３％で得た。

分析結果を以下に示す。

ＭＡ　Ｓ　Ｓ　　ｍ／　ｚ　　４　４　８　（Ｍ’）Ｅ
ｘａｃｔ　　ＭＡＳＳ　　ｍ／ｚ　　４４８．２２６０
（実測値） Ｃよ、Ｈ，Ｆ□３，４４８．２２６３　（理論値）１Ｈ
−ＮＭＲ　（ＣＤＣＱ．３） ６５、５　（ＬＨ，ｄｄ）。

５．８（ＬＨ，ｄｄ）、６．１　　（ＩＨ，ｄ）。

６．９　　（ＬＨ，ｄｄ）、７．８　　（ＩＨ，ｄ）。

７．５−８．０　　（４Ｈ，ｍ） １９Ｆ−ＮＭＲ（ＣＤＣｎ３．　　ｅ　ｘ　ｔ　ａ　ｒ
　ｎ　ａ　ＩＣＦ３Ｃ○２　Ｈ） δ−５，０（３Ｆ）、−３２，３（２Ｆ）。

−４５，２〜−４９，１（６Ｆ）、−５０，４（２Ｆ） Ｉ　Ｒ（ｃｎ−１）　　１３４０　　（ＣＦ３）　　。

実施例１６ 過酸化ビス（ペルフルオロ−２−メチル−３オキサヘキ
サノイル）を過酸化ビス（トリデカフルオロヘプタノイ
ル）に代え、ｐ−ジビニルベンゼンをｍ−ジビニルベン
ゼンに代えた以外は実施例１と同様に反応、精製及び分
析を行ない、ｍ−（１−トリデカフルオロヘプタノイル
オキシ−３゜３．４，４，５，５，６，６，７，７，８
，８゜８−トリデカフルオロオクチル）スチレンを収率
６２％で得た。

分析結果を以下に示す。

ＭＡＳＳ　　ｍ／ｅ　　８１２　（Ｍ＋）Ｅｘａｃｔ　
　ＭＡＳＳ　　ｍ／ｚ　　８１２．２８９９（実測値） Ｃ２３Ｉ（、、Ｆ２．０２，８１２．２８９２　（理論
値）１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＱ３） δ２．Ｏ−３，１（２Ｈ，ｍ）。

５．４　（ＬＨ，ｄ）、５．８　（ＩＨ，ｄ）。

６．４　（ＩＨ，ｍ）、６．７　（１８，ｄｄ）。

７．２−７．５　（４Ｈ，ｍ） １９−Ｆ−ＮＭＲ（ＣＤＣＱ３．　ｅ　ｘ　ｔ　ｅ　ｒ
　ｎ　ａ　ｌＣＦ３ＣＯ２Ｈ） δ−５，０〜−５，５（６Ｆ）、−３２，５〜−３３，
０（４Ｆ）、−４５，２〜−４９，１（１２Ｆ）、−５
０，０−−５０，４（４Ｆ）ＩＲ（■−１）１２２５　
　（ＣＦ２）、１３４０（ＣＦ３）、１７８０　　（Ｃ
ｏ） 去ｆ 実施例１６で得られたｍ−（１−トリデカフルオロヘプ
タノイルオキシ−３，３，４，４，５゜５．６，６，７
，７，８，８．８−トリデカフルオロオクチル）スチレ
ンを用いた以外は実施例２と同様に反応、精製及び分析
を行ない、ｍ−（１ヒドロキシー−３，３，４，４，５
，５，６，６゜７．７，８，８．８−トリデカフルオロ
オクチル）スチレンを収率８８％で得た。

分析結果を以下に示す。

ＭＡＳ　Ｓ　　ｍ／　ｚ　　４６６　（Ｍ＋）Ｅｘａｃ
ｔ　　ＭＡＳＳ　　ｍ／ｚ　　４６６．２４０９（実測
値） ＣＩＧＨ１□Ｆ　１３０，４６６．２４１５　（理論値
）−５２＝ １Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＱ、３） δ２．Ｏ−２，６（２Ｈ，ｍ）。

５．２　　（ＬＨ，ｂ　ｒ）、５．５（ＬＨ，ｄ　ｄ）
。

５．８　　（ＩＨ，ｄｄ）、６．６（ＩＨ，ｄｄ）。

７．５−７．８　　（４Ｈ，ｍ） １９Ｆ−ＮＭＲ（ＣＤＣＱ、、　　ｅ　ｘ　ｔ　ｅ　ｒ
　ｎ　ａ　ＩＣＦ３Ｃ○２　Ｈ） δ−５，０（３Ｆ）、−３２，３（２Ｆ）。

４５．２〜−４９．１　　（６Ｆ）、−５０，４（２Ｆ
） ＩＲ（ａｍ−’）　　　１２３０　（ＣＦ２）、１３３
５（ＣＦ３）、３４００　　（ＯＨ） ス１側［Ｌ団 実施例１７において得られたｍ−（１−ヒドロキシ−３
，３，４，４，５，５，６，６，７，７゜８．８．８−
）−リデカフルオロオクチル）スチレンを用いた以外は
実施例３と同様に反応、精製及び分析を行ない、ｍ〜〔
β−ペルフルオロヘキシルビニル〕スメチンを収率９３
％で得た。

（ＣＦ　３） 分析結果を以下に示す。

ＭＡＳＳ　　ｍ／ｚ　　４４８　（Ｍ”）Ｅｘａｃｔ　
　ＭＡＳＳ　　ｍ／ｚ　　４４８．２２５８（実測値） Ｃ□６Ｈ９Ｆ１．．４４８．２２６３　（理論値）１Ｈ
−ＮＭＲ（ＣＤＣＤ、３） ６５．５　（ＬＨ，ｄｄ）。

５．８（ＬＨ，ｄｄ）、６．１　（ＬＨ，ｄ）。

６．８（ＬＨ，ｄｄ）、７．７（ＩＨ，ｄ、）。

７．６−７．９（４Ｈ，ｍ） ”Ｆ−ＮＭＲ（ＣＤＣ（１３，ｅｘ　ｔ　ｅ　ｒｎ　ａ
　ｌＣＦ３ＣＯ２Ｈ） δ−５，０（３Ｆ）、−３２，３（２Ｆ）。

−４５，２〜−４９，１（６Ｆ）、−５０，４（２Ｆ）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）下記一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼・・・（ I ） 〔式中Ｒは、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を
   示し、Ｒ＿Ｆは、▲数式、化学式、表等があります▼又
   は ▲数式、化学式、表等があります▼ を示す。（但しＸは、フッ素原子、塩素原子若しくは水
   素原子を示す。またｎ＿１は１〜１０の整数を示し、ｎ
   ＿２は０〜８の整数を示す）またＲ＿Ｆ含有置換基はビ
   ニル基に対してメタ位又はパラ位に置換している〕で表
   わされるフルオロアルキル基含有スチレン誘導体。 ２）下記一般式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼・・・（II） 〔式中Ｒは、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を
   示し、Ｒ＿Ｆは、▲数式、化学式、表等があります▼又
   は ▲数式、化学式、表等があります▼ を示す。（但しＸは、フッ素原子、塩素原子若しくは水
   素原子を示す。またｎ＿１は１〜１０の整数を示し、ｎ
   ＿２は０〜８の整数を示す）またＲ＿Ｆ含有置換基はビ
   ニル基に対してメタ位又はパラ位に置換している〕で表
   わされるフルオロアルキル基含有スチレン誘導体。 ３）下記一般式（III） ▲数式、化学式、表等があります▼・・・（III） 〔式中Ｒは、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を
   示し、Ｒ＿Ｆは、▲数式、化学式、表等があります▼又
   は ▲数式、化学式、表等があります▼ を示す。（但しＸは、フッ素原子、塩素原子若しくは水
   素原子を示す。またｎ＿１は１〜１０の整数を示し、ｎ
   ＿２は０〜８の整数を示す）またＲ＿Ｆ含有置換基はビ
   ニル基に対してメタ位又はパラ位に置換している〕で表
   わされるフルオロアルキル基含有スチレン誘導体。 ４）下記一般式（IV） ▲数式、化学式、表等があります▼・・・（IV） 〔式中Ｒ＿Ｆは、▲数式、化学式、表等があります▼又
   は ▲数式、化学式、表等があります▼ を示す。（但しＸは、フッ素原子、塩素原子若しくは水
   素原子を示す。またｎ＿１は１〜１０の整数を示し、ｎ
   ＿２は０〜８の整数を示す）〕で表わされる過酸化フル
   オロアルカノイルと、下記一般式（Ｖ） ▲数式、化学式、表等があります▼・・・（Ｖ） （式中Ｒは、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を
   示し、２つのビニル基はそれぞれメタ位又はパラ位に置
   換している）で表わされるジビニルベンゼン類とを反応
   させることを特徴とする請求項１記載のフルオロアルキ
   ル基含有スチレン誘導体の製造方法。 ５）請求項１記載のフルオロアルキル基含有スチレン誘
   導体を、アルカリで加水分解することを特徴とする請求
   項２記載のフルオロアルキル基含有スチレン誘導体の製
   造方法。 ６）請求項２記載のフルオロアルキル基含有スチレン誘
   導体を、酸性下で加熱処理することを特徴とする請求項
   ３記載のフルオロアルキル基含有スチレン誘導体の製造
   方法。