JPH0480085A - 情報記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の分野］ 本発明は、光により記録が可能な情報記録媒体に関する
ものである。

［発明の技術的背景］ 近年において、レーザー光等の高エネルギー密度のビー
ムを用いる情報記録媒体が開発され、実用化されている
。この情報記録媒体は光ディスクと称され、ビデオ・デ
ィスク、オーディオ・ディスク、さらには大容量静止画
像ファイルおよび大容量コンピュータ用ディスク・メモ
リーとして使用されうるものである。これらの情報記録
媒体のうちで、音楽等のオーディオ再生用としてコンパ
クトディスク（ＣＤ）が広く実用化されている。

一般のＤ　ＲＡ　Ｗ　（Ｄｉｒｅｃｔ　Ｒｅａｄ　Ａｆ
ｔｅｒ　Ｗｒｉｔｅ　。

書き込み可能）型の情報記録媒体は、基本構造としてプ
ラスチック、ガラス等からなる円盤状の透明基板と、こ
の上に設けられたＢｉ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｔｅ等の金属また
は半金属、あるいはシア二色素等の色素類からなる記録
層とを有する。記録媒体への情報の書き込みは、たとえ
ばレーザービームを記録媒体に照射することにより行な
われ、記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温
度上昇する結果、ピット形成等の物理的変化あるいは化
学的変化を生じてその光学的特性を変えることにより情
報か記録される。光ディスクからの情報の読み取りもま
た、レーザービームを光ディスクに照射することにより
行なわれ、記録層の光学的特性の変化に応した反射光ま
たは透過光を検出することにより情報か再生される。

航記情報再生用の光ディスクであるコンパクトディスク
は、一般にＣＤフォーマット信号等のＥ　Ｆ　Ｍ　（Ｅ
ｉｇｈｔ　ｔｏ　Ｆｏｕｒｔ、ｅｅｎ　Ｍｏｄｕｌａｔ
ｉｏｎ）デジタルオーディオ信号情報を有する孔（ビッ
ト）か予め形成されているプラスチックの円盤状透明基
板と、この上に設けられたＡｆｉ等の反射性薄膜および
保護膜とから構成されている。ＣＤからの情報の読み取
りは、レーザービームを光ティスフに照射することによ
り行なわれ、ビ・ソトの有無による反射率の変化によっ
てＣＤフォーマ・ント信号等か読み取られる。このよう
なＣＤは、ＣＤ規格に基ついて、ＣＤを１．２〜ｉ、４
ｍ／秒の定線速度で回転させて記録することにより、信
号面内径４５ｍｍおよび信号面外径１１６ｍｍの範囲内
て、ビット幅０．８μｍ、トラックピッチ１６μｍにて
最大７４分の記録時間を仔することか要求されている。

従来において、このようなオーティオ用ＣＤは上記のよ
うに予め基板にピットか形成された再生専用のものであ
る。また最近ては、音楽情報の代わりに、各種文δ、静
止画像なとの情報か予め記録されたＣＤ−ＲＯＭ　（Ｒ
ｅａｄ　ＯｎｌｙＭｅｍｏｒｙ）も実用化されている。

このような光ティスフは、当然情報の記録、編集等がで
きないとの欠点を有している。従って、Ｄ　ＲＡ　Ｗ　
（Ｄｉｒｅｃｔ　Ｒｅａｄ　Ａｆｔ、ｅｒ　Ｗｒｉｔ、
ｅ　、書き込み可能）型ＣＤの開発か行なわれており一
部実用化されている。

上記ＤＲＡＷ型ＣＤは、記録した情報を市販のＣＤプレ
ーヤーで再生できることか必要とされている。ＣＤプレ
ーヤーで再生を行なうためには、光ディスクに高い反射
率を有することか要求されることから、高反射率の光テ
ィスフか望まれている。また、このような高反射率を有
する光ティスフは、一般に記録された信号の強度といし
て太きな値が得られ易いため、種々の光ドライブで情報
の再生を行なうことかでき、光ドライブへの通用性が大
きくなるとの利点がある。従って、高い反射率を有する
光ディスクは、ＣＤの分野のみならず、一般のＤＲＡＷ
型光ティスクにおいても有用である。

情報記録媒体の記録層を形成する記録材料として上記の
ように金属類や色素等が知られている。

色素は金属に比べて塗布により容易に記録層を形成する
ことができるとの利点を有する。しかしながら、色素記
録層の反射率は一般に３０〜４０％程度と低い。金属記
録層についても、すこし高いものもあるが一般に同程度
である。このため、反射率を高くする目的で記録層の上
にさらに金属反射層を設けることが一般的に行なわれて
いる。このような例が、日経エレクトロニクス（１０７
頁、１９８９年１月２３日発行）に記載されており、こ
れによるとポリカーボネート基板上に色素記録層、さら
にその上にＡｕの反射層が積層された構造の光ディスク
か示されている。モしてＥＰＣ特許公開公報３５３３９
３号にも、この反射層付き光ティスフか開示されており
、色素記録層の材料として、種々のシアニン色素を用い
ることか示されている。これにより、Ｃ／Ｎ等の記録再
生特性に優れ、けつ向トした反射率を有する光ディスク
を得ることかできる。

しかしなから、このような記録層上に反射層を設けるこ
とは、製造工程か増加する、あるいは般に記録感度が低
下し易い等の問題がある。

特開平１−２４２２８７号公報に、イミタゾキノキサリ
ン系色素を用いて基板上に色素記録層を形成することに
より、反射層を設けることなく高反射率の光ディスクを
得ることができることか開示されている。このような光
ティスフは、基板上に単に色素を溶剤に溶解した塗布液
を塗布乾燥することにより得ることかできることから、
製造上極めて有利なものであると言える。しかしながら
、−本発明者等の検討によると、基板上に記録層を形成
する際、使用する色素の種類、溶剤および塗布条件など
の違いにより、必ずしも高い反射率か畳られないことか
明らかになった。

［発明の目的コ 本発明は、光により情報を記録することかてきＩ」つ高
い反射率をイラーする情報記録媒体を提供することをそ
の目的とする。

また、本発明は、ＣＤフォーマット信号を光記録するこ
とか可能なりＲＡＷ梨の情報記録媒体を提供することを
その目的とする。

さらに本発明は、市販のＣＤプレーヤーにより再生可能
なＣＤフォーマット信号か記録されたＤＲＡＷ型の情報
記録媒体を提供することを目的とする。

［発明の要旨］ 本発明は、基板上に、レーサーによる情報の書き込みか
可能な記録層か設けられてなる情報記録媒体であって、 該記録層か、色素からなる層であり且つ下記の条件（１
） ｋ、　＞ｎｒ　＋　１　　（＋） ［但し、ｎ、は記録または再生に使用されるＩノーザー
の発振波長における記録層の複素屈折率の実数部分およ
びｋｒは３複素屈折率の虚数部分を表わす。］ を満足する層であることを特徴とする情報記録媒体にあ
る。

上記本発明の情報記録媒体の好ましい、態様は以下の通
りである。

１）上記記録層か、下記の条件（２） ｋ、＞２ｎ、＋　１　　　　　　　（２）［但し、ｎｌ
は記録または再生に使用されるレーサーの発振波長にお
ける記録層の複素屈折率の実数部分およびに、は該複素
屈折率の虚数部分を表わす。］ を満足することを特徴とする上記情報記録媒体。

２）上記記録層の層厚か、５０〜２００ｎｍの範囲にあ
ることを特徴とする上記情報記録媒体。

３）−Ｆ記色素か、シアニン色素、オキソノール色素、
メロシアニン色素、ピリリウム色素、チオピリリウム色
素およびヘテロアヌレン色素からなる群より選ばれる少
なくとも一種であることを特徴とする上記情報記録媒体
。

４）記録層の吸収極大か、７００〜９００ｎｍの波長範
囲にあることを特徴とする上記情報記録媒体。

５）ト記基板側からの光に対する反射率が、５０％以上
であることを特徴とする上記情報記録媒体。

６）−Ｆ２基板側からの光に対する反射率か、６０％以
上であることを特徴とする上記情報記録媒体。

［発明の効果］ 本発明の情報記録媒体は、上記条件（１）が示すように
、記録または再生に使用されるレーザーの発振波長にお
いて複素屈折率の虚数部分である消衰係数（ｋｒ）が、
該複素屈折率の実数部分である屈折率（ｎ、）に１加え
られた値より大きい値を持つ色素記録層を有している。

即ち、本発明の記録層は、レーザーの発振波長における
消衰係数（ｋ、）か極めて大きな値を有し、屈折率（ｎ
ｒ　）は比較的小さな値を有している。このような記録
層は、膜にした時のに、の大きい（あるいは大きいと推
定される）色素を会合あるいは配向状態を形成するよう
に特定の塗布条件で基板−」二に塗布乾燥して緻密な色
素層とすることにより１１ｔられ易い。

こうして得られる本発明の記録層を有する光ディスクは
、高い反射率を示し、且っＣ／Ｎ等記録再生特性も優れ
たものである。さらに、該記録層は、色素溶液を塗布に
より簡単に形成することかてさ、製造を極めて簡略化す
ることかてきる。又生産性において有利であるたけてな
く、記録層が極めて薄膜であることから、材料コストも
低く抑えることかてきる。

さらに、本発明の情報記録媒体は、色素および塗布条件
を選択することにより６０％以上の反射率を得ることか
てき、かつ極めて感度か高いので、１０ｍＷ以下の照射
パワーでＥＦＭ信号の書き込みか可能であり、また市販
されているＣＤプレーヤーでの読み取りか可能であり、
ＤＲＡＷ型ＣＤとして使用することかできる。

［発明の詳細な記述］ 本発明の情報記録媒体は、基板上に色素からなる記録層
か形成された基本構造を有する。

本発明の情報記録媒体は、たとえば以下に述へるような
方法により製造することかてきる。

本発明の基板は、従来の情報記録媒体の基板として用い
られている各種の材料から任意に選択することかできる
。本発明の基板材料として、例えばガラス：ポリカーボ
ネート：ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂：
ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系
樹脂：エポキシ樹脂：アモルファスポリオレフィンおよ
びポリエステルなどを挙げることができ、所望により併
用してもよい。なお、これらの材料はフィルム状として
または剛性のある基板として使うことかできる。上記材
料の中で、耐湿性、寸法安定性および価格なとの点から
ポリカーボネートか好ましし＼ 記録層か設けられる側の基板表面には、平面性の改善、
接着力の向上および記録層の変質の防止の目的で、Ｆヂ
層か設けられてもよい７、下塗層の材料としてはたとえ
ば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリ
ル酸共重合体、スチレン・無水マレイナト共市合体、ポ
リヒニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、
スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化
ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩
素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸
ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共
重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネ
ート等の高分子物質：およびシランカップリング剤なと
の有機物質を挙げることかできる。

下塗層は、たとえば上記物質を適当な溶剤に溶解または
分散して塗布液を調製したのち、この塗布液をスピンコ
ード、ティップコート、エクストルージョンコートなと
の塗布法により基板表面に塗布することにより形成する
ことかてきる。下塗層の層厚は一般にｏ、ｏｏｓ〜２０
μｍの範囲にあり、好ましくは０．０１〜１０μｍの範
囲である。

また、基板（または下塗層）上には、トラッキンク用溝
またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸か形成されて
いることか好ましい。上記ポリカーボネートなとの樹脂
材料を使用する場合は、樹脂材料を射出成形あるいは押
出成形などにより直接基板Ｐにグループが設けられるこ
とか好ましい またグループ形成を、プレクループ層を設けることによ
り行なってもよい。プレグルーブ層の材料としては、ア
クリル酸のモノエステル、ジエステル、トリエステルお
よびテトラエステルのうちの少なくとも一種の千ツマ−
（またはオリゴマー）と光重合開始剤との混合物を用い
ることかてきる。

プレグルーブ層の形成は、まず精密に作られた母型（ス
タンパ−）上に上記のアクリル酸エステルおよび重合開
始剤からなる混合液を塗布し、さらにこの塗布液層上に
基板を載せたのち、基板または母型を介して紫外線の照
射により液層を硬化させて基板と液相とを固着させる。

次いて、基板を母型から剥離することによりプレクルー
プ層の設けられた基板か得られる。

プレクループ層の層厚は一般に０．・０５〜１００μｍ
の範囲にあり、好ましくは０．１〜５０μｍの範囲であ
る。

基板上には本発明の記録層か設けられる。

該記録層か、色素からなる層てあり且つ下記の条件（１
）： に、　＞ｎ、　＋　１　　（１） ［但し、ｎ、は記録または再生に使用されるレーザーの
発振波長における記録層の複素屈折率の実数部分および
に、は該複素屈折率の虚数部分を表わす。］ を満足する層である。

色素層の反射率、透過率を測定することにより上記ｎ、
およびに、の値を計算できることは既に公知であり（例
えば、有機合成化常温会誌第４３巻第４号３３４頁、１
９８５年等）、従って、記録層か所望の反射率を得られ
るように０１およびに１の埴を求めることも６１能であ
る。しかしながら、本発明者等の検討によると、色素層
を形成１−る際の種々の条件違いにより、上記計算通り
に反射率の高い光ティスフを必ずしも得ることはできな
い。また、記録再生特性にも優れた光ティスフを得るに
はさらに困難である。

本発明者等の検討によると、高い反射率を得るためには
、膜とした時のに、−の大きい（あるいは大きいと推測
される）色素を適宜な溶剤に溶解して塗布液を調製し、
該塗布液を会合あるいは配向状態を形成するように特定
の塗布条件で基板上に塗布乾燥することにより得られ易
い。そして、このように形成された色素記録層で、上記
条件（１）の特定のｎ、とｋ、と関係を満足する場合、
高い反射率と優れた記録再生特性を有する光ティスフか
得られることか判明した。

上記条件（１）か、下記の条件（２） ｋ、＞２ｎ、＋１　　　　　　　（２）であることか好
ましい。

本発明で使用できる色素は、膜にした時に上記条件（１
）を満足するものであると、−１えるが、　般に、吸収
極大波長か使用するレーザーの発＆波長より長波長側に
４１−シ、該レーサー波長（一般の゛ｒ導体レーサーの
発振波長である７５０〜８５０ｎｍの波長範囲）におい
て膜にした時に、、の大きい（あるいは大きいと推測さ
れる）色素か好ましい。

上記記録層の形成に使用される色素としては、近赤外光
を吸収し得る構造の化合物であって、その構成要素とし
て無機イオンや金属原子を含むものであってもよい。色
素の代わりに有機顔料を、薄層の記録層を形成できる限
りにおいて用いてもよい。このような色素の具体例は、
例えば、池森忠三部と住谷光圀編著「特殊機能色素−技
術と市場」の第二章の７１〜９１頁に記載の光ティスフ
用近赤外色素等を挙げることかできる。使用される色素
としては、一般にイミタソキノキサリン系色素なとのシ
アニン系色素、オキソノール色素、メロシアニン色素、
ビリリウム色素、チオピリリウム色素およびヘテロアヌ
レン色素を挙げることかてる。イミタゾキノキサリン系
色素は、下記の数式（Ｉ）で表わされる。

［たたし、Ｒ１およびＲ２は、置換基を有していても良
い炭素原子数８以下のアルキル基、アルキニル基、アル
ケニル基又はアリール基を表わし、これらは互いに同一
でも異なっていても良く、Ｗは、酸素原子、硫黄原子ま
たはＮ−Ｒ３を表わしくＲ３は置換基を有していても良
いアルキル基、アルケニル基又はアリール基を表わす）
、Ｙは窒素原子または水素原子の結合した炭素原子を表
わし、Ｚは芳香族環を形成するための原子群を表わし、
Ｌは、置換されていても良い３，５．もしくは７個のメ
チン基か共役二重結合により連結されて生しる価の基を
表わし、そして、Ｘ−は陰イオンを表わす］ 本発明で用いられる色素として好ましいものは、−数式
（１）において、［Ｒ１およびＲ２は、置換基を有して
いても良い炭素原子数８以下のアルキル基、Ｗは、Ｎ−
Ｒ″（Ｒ３は置換基を有していても良い炭素原子数８以
下のアルキル基を表わす）、しは、メチル基て置換され
ていてもよい３個もしくは５個のメチン基か共役二重結
合により連結されて生じる三価の基、そしてＸ−はＣＩ
Ｂ　ｒ−、Ｉ　−、Ｐ　Ｆ６−、　　Ｂ　Ｆａ−および
ｃｉｏ４を表わす１により表わされる化合物である。

特に好ましくは一般式（Ｉ）において、［Ｒ１およびＲ
２は、炭素原子数１〜３のアルコキシ基または炭素原子
数１〜３のアルキルチオ基を有する炭素原子数４以下の
アルキル基または無置換の炭素原子数４以下の直鎖のア
ルキル基、Ｗは、Ｎ−８３（Ｒ３はＲ１およびＲ２で定
義されたものと同しアルキル基を表わす）、Ｌは、メチ
ル基で置換されていてもよい３または５個のメチン基か
共役二重結合により連結されて生じる三価の基、２はヘ
ンゼン環を形成するための原子群を表わし、そしてＸは
■−またはＣ２Ｏ４−を表わす］により表わされる化合
物である。

本発明の情報記録媒体に使用される好ましい色素例１〜
２８を以下に示すか、本発明はこれらのみに限定される
ものではない。

以下７ｊミー ＩＯ １ｏ４ 工 ＩＯ １ｏ４ ＩＯ ＣＩＯ。

ＣＩＯ 上記記録層の形成には、上記の色素と共に耐光性を向ト
させるためにいわゆる一重項酸素クエンチャーとして知
られている種々の色素、例えばド記の一般式（ＩＩ　）
、（ｍ）または（ｒｌ／）で表ねされる化合物を併用し
ても良い。

（ただし、［Ｃａｔドはテトラアルキルアンモニウムな
との非金属陽イオンを表わし、ＭはＮｉなとの遷移金属
原子を表わし、ＺおよびＺ゛は置換されていても良いヘ
ンセン環、２−チオクツ−１゜３−ジチオール環なとの
５ないし６員の芳香環もしくはヘテロ環を完成するため
の原子団を表わす） ［式中Ｒは、置換基を有していてもよいアルキル基を表
わし、Ｑは一般式（１）のＸてボしたちのと同し陰イオ
ンを表わす］ Ｑ−・　・　・　・　・　（ＩＶ） ［式中Ｒは−＝一般式ＩＩ）と同義の基を表わし、Ｑは
一般式（ＩＩ）と同義の陰イオンを表わＴ］上記−数式
（ＩＩ）、（ｍ）または（ＴＶ）で表わされるクエンチ
ャ−の具体例としては、ＰＡ−１００６（三井東圧ファ
イン■〉、Ｉ　ＲＱ−０２３、ＩＲＧ−０２２およびＩ
ＲＱ−００３（以上日本化薬■）などを挙げることかで
きる。

」１記クエンチャ−の添加量は、ト記一般式（１）の色
素１００重量部に対して５〜３０重量部か好ましい。

記録層の形成は、上記色素、さらに所望により上記クエ
ンチャー１結合削などを溶剤に溶解して塗布液をＡ製し
２次いてこの塗Ｉｉｉ液を基板人血に塗膜して塗膜を形
成したのち乾燥することにより行なうことかできる。

本発明の色素層塗布液調製用の溶剤としては、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、セロソルブアセテートなとのエステル
：メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソ
ブチルケトンなとのケトン：ジクロルメタン、１．２−
ジクロルエタン、クロロホルムなとの塩素化炭化水素二
ジメチルホルムアミドなとのアミド：シクロヘキサンな
との炭化水素：テトラヒトロフラン、エチルエーテル、
ジオキサンなとのエーテル、エタノール、ｎ−フロパノ
ール、イソプロパツール、ｎ−ブタノールジアセトンア
ルコールなとのアルコール：２２．３．３−テトラフロ
ロプロパツールなとのフッ素系溶剤、エチレンクリコー
ルモノメチルエーテル、エチレンクリコールモノエチル
エーテル、プロピレンクリコールモノメチルエーテルな
とのエチレングリコールエーテル類などを挙げることか
できる。

塗布液中にはさらに酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、
滑剤なと各種の添加剤を目的に応して添加してもよい。

結合剤を使用する場合に結合剤としては、たとえばセラ
チン、セルロース誘導体、テキストラン、ロジン、ゴム
なとの天然有機高分子物質：およびポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化
水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポ
リ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹
脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等
のアクリル樹脂、ボリヒニルアルコール、塩素化ポリエ
チレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、
フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の
初期縮合物なとの合成有機高分子物質を挙げることがで
きる。

記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤に
対する色素の比率は一般に０．０１〜９９％（重量比）
の範囲にあり、好ましくは１゜０〜９５％（重量比）の
範囲にある。

塗布方法としては、スプレー法、スピンコード法、ティ
ップ法、ロールコート法、プレートコト法、ドクターロ
ール法、スクリーン印刷法などを挙げることかできる。

本発明の記録層の好ましい形成方法は。

上記膜のに、−の大きいくあるいは大きいと推定される
）色素を有機溶剤（好ましくは、弗素含有溶剤）に溶解
して、 所定の色素濃度（好ましくは、０．１〜５０重量％、さ
らに好ましくは１０〜４０重量％）の塗布液を調製し、 塗布機としてスピンコーターを用いて、下記の条件にて
、色素の会合あるいは配向させるように塗布乾燥を行な
うことか好ましい。

塗布（乾燥）温度：好ましくは一２５〜４０℃の範囲 回転数：塗布時１００〜５００ｒｐｍ（好ましくは２０
０〜３００）ｒｐｍて１〜 ６０秒（好ましくは２〜２０秒）５ 、乾燥時１０００〜８０００ｒｐｍ　（好ましくは１５
００〜５０００　ｒｐｍ）で５〜１２０秒（好ましくは
１０〜 ９０秒）、。

さらに好ましくは、基板トにカスを０１〜５０１／分て
送りながら、上記条件て塗布乾燥を１丁なうことであり
、　Ｊ−記カスとしては窒素、二酸化炭素等を使用する
ことか好まし・い。

このようにして、膜にした時のに、の大きい色素を用い
て上記条件（１）を満足するように記録層を形成′１−
ることにより、反射率が高く、記録再生特性にも優れた
光ティスフを得ることかできる。

色素記録層の層厚は、一般に、１０〜５００ｎｍ、好ま
しくは２０−２５０　ｎ　ｍ、特に好ましくは５０〜２
００ｎｍの範囲である。

上記塗布方法に加えて、基板を一定方向に延伸したり、
基板を摩捺したり、色素塗布液に塩類や樹脂を添加した
り、あるいは色素層形成後該層に機械的あるいは熱的刺
激を与えるなどにより、色素の会合または配向か促進さ
れ高反射率か得られ易いことから、これらの処理を加え
ても良い。

本発明の情報記録媒体は、耐光性を向１−させるため特
定の波長域の光を遮蔽するためにフィルター層を設けて
も良い。フィルター層は、基板Ｆ−に色素層を介してま
たは他の層を介して設けられても良い。フィルター層は
、塗布により設けても良いし、薄膜状のフィルターを貼
りつけて形成してもよい、ざらにフィルター層を形成す
る代わりに基板自体を着色しても良い。特定の波長域の
光を遮蔽するため種々の色素や顔料を適宜使用すること
かできる。

本発明の情報記録媒体は、記録層のみて高い反射率か得
られることから、記録層の上に反射層を設ける必要はな
いか、特定の目的のため、例えば保護層を兼ねて記録層
トに、あるいは記録層より内側または外側にプレフォー
マッテンク用ビットの反射層とする目的で、反射層か設
けられてもよい 反射層の材料である光反射性物質はレーサー光に対する
反射率か高い物質であり、その例としては、Ｍｇ、Ｓｅ
、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ　　、　Ｔａ　、　
Ｃｒ　、　Ｍｏ　、　Ｗ、　Ｍｎ、　　Ｒｅ　、Ｆｅ　
、　Ｃｏ、　　Ｎｉ　　、　Ｒｕ、　Ｒｈ、　　Ｐｄ、
　Ｉｒ　、Ｐｔ、　Ｃｕ、　　Ａｇ、　Ａｕ、　Ｚｎ、
　Ｃｄ、　　Ａｌｌ、Ｇａ、　Ｉｎ、　Ｓｉ、　　Ｇｅ
、Ｔｅ、　Ｐｂ、　Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉなとの金属および
半金属あるいはステンレス鋼を挙げることができる。こ
れらのうちで好ましいものは、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ
、Ａｇ、Ａｕ、Ａｎおよびステンレス鋼である。これら
の物質は単独で用いてもよいし、あるいは種以上の組合
せでまたは合金として用いてもよい。

反射層は、たとえば上記光反射性物質を蒸着、スパッタ
リンクまたはイオンブレーテインクすることにより記録
層の上に形成することかできる。

反射層の層厚は一般には１００〜３０００又の範囲にあ
る。

また、記録層上または反射層の上には、記録層などを物
理的および化学的に保護する目的で保護層か設けられて
もよい。この保護層は、基板の記録層か設けられていな
い側にも耐傷性、耐湿性を高める目的で設けられてもよ
い。

保護層に用いられる材料の例としては、５ｉＯ１Ｓｉｎ
２．ＭｇＦ２．ＳｎＯ２、Ｓｉ＋、Ｎ４等の無機物質：
熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹脂等の有機
物質を挙げることができる。

保護層は、たとえばプラスチックの押出加工で得られた
フィルムを接着層を介して記録層（反射層）上および／
または基板上にラミネートすることにより形成すること
ができる。あるいは真空蒸着、スパッタリング、塗布等
の方法により設けられてもよい。また、熱可塑性樹脂、
熱硬化性樹脂の場合には、これらを適当な溶剤に溶解し
て塗布液を調製したのち、この塗布液を塗布し、乾燥す
ることによフても形成することができる。ＬＩＶ硬化性
樹脂の場合には、そのままもしくは適当な溶剤に溶解し
て塗布液を調製したのちこの塗布液を塗布し、ＵＶ光を
照射して嫂化させることによっても形成することができ
る。これらの塗布液中には、更に帯電防止剤、酸化防止
剤、ＵＶ吸収剤等の各種添加剤を目的に応じて添加して
もよい。記録層上に直接保護層形成材料を塗布する場合
は、該記録層を保護層の塗布液の溶解作用から守るため
記録層上にポリブタジェンなどを塗布（その際溶剤とし
ては記録層を溶解しない溶剤を用いる）することにより
中間層を設けることか好ましい。

中間層は、金属等の薄膜を碁石により設けてもよい。

保護層の層厚は一般には０．１〜１００μｍの範囲にあ
る。

さらに、記録層上に保護層を形成するの代わりに、記録
層上にプラスチックのフィルムを基板の内周及び外周に
て融着して設けることにより記録層を保護してもよい。

本発明において、情報記録媒体は上述した構成からなる
単板であってもよいか、あるいは更に上記構成を有する
二枚の基板を記録層が内側となるように向い合わせ、接
着剤等を用いて接合することにより、貼合せタイプの記
録媒体を製造することもできる。あるいはまた、二枚の
円盤状基板のうちの少なくとも一力に上記構成を有する
基板を用いて、リンク状内側スペーサとリンク状外側ス
ペーサとを介して接合することにより、エアーサンドイ
ッチタイプの記録媒体を製造すること乙できる。

本発明の情報記録媒体は上記のような方法で製造するこ
とができる。

情報記録および再生は、上記情報記録媒体を用いて、例
えば次のように行なわれる。

ます、情報記録媒体を定線速度（ＣＤフォーマットの場
合は１２〜１．４ｍ／秒）または定角速度にて回転させ
なから、基板側から半導体レーザー光なとの記録用の光
を照射する。この光の照射により、記録層にビット（孔
）か形成されることにより、あるいは記録層に変色、会
合状態の変化等により屈折率か変化することにより情報
か記録されると考えられる。記録光としては７５０ｎｍ
〜８５０ｎｍの範囲の発振波長を有する半導体レーザー
ビームか用いられる。

上記のように記録された情報の再生は、情報記録媒体を
上記と同一の定線速度で回転させなから半導体レーザー
光を基板側がら照射して、その反射光を検出することに
より行なうことがてきる。

なお、レーザー光の照射は、フレキシブルディスクなと
の場合、記録層側から行なうこともある。

、し゛、下、１、口 以下に、本発明の実施例を記載する。たたし、これらの
各個は本発明を制限するものてはない。

［実施例１］ 航記色素番号−２のシアニン系色素２．０ｇを２．２，
３．３−テトラフロロプロパツール（ＨＩ４造式：　Ｈ
ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２０Ｈ）　１００　ＣＣニ溶解して色
素層塗布液を調製した。

トラッキンクガイトが設けられた円盤状のポリカーボネ
ート基板（外径：　１２０ｍｍ、内径＝１５ｍｍ、厚さ
：１．２ｍｍ、トラックピッチ゛１．６μｍ、’）”）
Ｌｉ−フッ深す：　８００　Ａ　）　ト’ｔｓ液を２２
℃にした後、該基板上に該塗布液をスピンコード法によ
り回転数３００ｒｐｍの速度で且つ温度２２℃の窒素を
０．６ｊ２／分て基板表面に送りなから５秒間塗布し、
回転数を１５０Ｏｒｐｍまで上げて９０秒間回転させて
乾燥することにより層厚か１１０５ｎの記録層を形成し
た。

このようにして、基板および記録層からなる情報記録媒
体を製造した。

［実施例２］ 実施例１において、前記色素番号−２のシアニン系色素
２．０ｇを首記色素番号−３のシアニン系色素２．２ｇ
に変え、スピンコードの乾燥時の回転数を１５００ｒｐ
ｍから１１００Ｏｒｐに変え、基板表面に送る窒素の温
度を２２℃から２０℃に変えそして記録層の層厚を１１
０５ｎを１３５ｎｍに変えた以外は実施例１と同様にし
て情報記録媒体を製造した。

［実施例３］ 実施例１において、面記色素番号−２のシアニン系色素
２．０ｇを前記色素番号−９のシアニン系色素２．２ｇ
に変え、スピンコードの乾燥時の回転数を１５００ｒｐ
ｍから３００Ｏｒｐｍに変えそして記録層の層厚を１１
０５ｎを９０ｎｍに変えた以外は実施例１と同様にして
情報記録媒体を製造した。

［実施例４］ 実施例１において、首記色素番号＝２のシアニン系色素
２．０ｇを前記色素番号−１１のシアニン系色素２．２
ｇに変え、スピンコードの乾燥時の回転数を１５００ｒ
ｐｍから１０００　ｒｐｍに変えそして記録層の層厚を
１１０５ｎを１０００ｍに変えた以外は実施例１と同様
にして情報記録媒体を製造した。

［実施例５］ 実施例１において、面記色素番号−２のシアニン系色素
２−０ｇを首記色素番号−２３のシアニン系色素２．２
ｇに変え、スピンコードの乾燥時の回転数を１５００ｒ
ｐｍから２０００ｒｐｍに変え、基板表面に送る窒素の
温度を２２℃から２０℃に変えそして記録層の層厚を１
１０５ｎを７４ｎｍに変えた以外は実施例１と同様にし
て情報記録媒体を製造した。

上記実施例１〜５で得られた情報記録媒体を下記のよう
に評価した。

［情報記録媒体の評価］ １）反射率、ｋ、およびｎｌ 得られた情報記録媒体について分光光度計（■日立製作
新製）を用いて、基板側より７８０ｎｍ（Ｘ流側１．３
および４）または８３０ｎｍ（実施例２および５）の波
長の光を照射して未記録部の反射率および記録層側から
透過率を測定した。

記録層の複素屈折率の虚数部分のｋ、および実数部分の
ｎｌは、公知計算方法により上記反射率および透過率よ
り求めた。

２）Ｃ／Ｎ 上記て得られた情報記録媒体を、波長７８０ｎｍ（実施
例１．３および４）または８３０ｎｍ（実施例２および
５）の半導体レーザー光を使用して、定線速度１．３ｍ
／秒、記録パワー３．０ｍＷにて、変調周波数７２０ｋ
Ｈｚ　（チューティー３３％）の信号を記録した。そし
て記録された信号を０．５ｍＷの再生パワーにて再生し
、再生時のＣ／Ｎを、スペクトルアナライザー（ＴＲ４
１３５：アトハンチスト社製）を用いて測定した。

−Ｆ記測定結果を第１表に示す。

第１表 レーザー波長 （ｎｍ） ｋ。

ｒ 反射率 （％） Ｃ／Ｎ （ｄＢ） 実施例１　７８０　　２．４０　０．５５　　６：ｌ　
　　４９実施例２　８：１０　　３．０９　０．９６　
　６７　　５０実施例３　７８０　　２．０８　０．５
＋　　　６２　　５０実施例４　７８０　　２，６９　
０．６９　　６２　　４９実施例５　８３０　　４．０
５　　＋、６３　　６２　　５０第１表より明らかなよ
うに、本発明の基板上に特定の複素屈折率を有する記録
層か設けられた光ティスフは、高い反射率を示し且つＣ
／Ｎについても高い水準を示している。

また、実施例１．３および４の光ディスクは、７８０ｎ
ｍにおいて反射率か６０％以上と高いので、これらをＣ
Ｄプレーヤー（ソニー製、ＣＤＰＭ５７）で記録した情
報の再生を試みたところ、 再生か可能であった。

従って、 これらはＣＤ ＤＲＡＷとしても有用である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、基板をに、レーザーによる情報の書き込みが可能な
   記録層が設けられてなる情報記録媒体であって、 該記録層が、色素からなる層であり且つ下記の条件（１
   ）： ｋ＿ｒ＞ｎ＿ｒ＋１（１） ［但し、ｎ＿ｒは記録または再生に使用されるレーザー
   の発振波長における記録層の複素屈折率の実数部分およ
   びｋ＿ｒは該複素屈折率の虚数部分を表わす。］ を満足する層であることを特徴とする情報記録媒体。