JPH0480084A - 情報記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の分野］ 本発明は、光により記録が可能な情報記録媒体に関する
ものである。

［発明の技術的背景］ 近年において、レーザー九等の高エネルギー密度のビー
ムを用いる情報記録媒体か開発され、実用化されている
。この情報記録媒体は光ディスクと称され、ビデオ・デ
ィスク、オーディオ・ディスク、さらには大容量静止画
像ファイルおよび大容量コンピュータ用ディスク・メモ
リーとして使用されつるものである。これらの情報記録
媒体のうちで、音楽等のオーディオ再生用としてコンパ
クトディスク（ＣＤ）が広く実用化されている。

一般のＤ　ＲＡ　Ｗ　（Ｄｉｒｅｃｔ　Ｒｅａｄ　Ａｆ
ｔｅｒ　Ｗｒｉｔｅ、害き込み可能）型の情報記録媒体
は、基本構造としてプラスチック、ガラス等からなる円
盤状の透明基板と、この上に設けられたＢｉ、Ｓｎ、Ｉ
ｎ、Ｔｅ等の金属または半金属、あるいはシアニン色素
等の色素類などからなる記録層とを有する。記録媒体へ
の情報の書き込みは、たとえばレーザービームを記録媒
体に照射することにより行なわれ、記録層の照射部分が
その光を吸収して局所的に温度上昇する結果、ビット形
成等の物理的変化あるいは化学的変化を生じてその光学
的特性を変えることにより情報か記録される。光ティス
フからの情報の読み取りもまた、レーザーヒムを光ディ
スクに照射することにより行なわれ、記録層の光学的特
性の変化に応じた反射光または透過光を検出することに
より情報か再生される。

前記情報再生用の光ディスクであるコンパクトディスク
は、一般にＣＤフォーマット信号等のＥ　Ｆ　Ｍ　（Ｅ
ｉｇｈｔ　ｔｏ　Ｆｏｕｒｔｅｅｎ　Ｍｏｄｕｌａｔｉ
ｏｎ）テシタルオーディオ信号情報を有する孔（ビット
）が予め形成されているプラスチックの円盤状透明基板
と、この上に設けられたＡＭ等の反射性薄膜および保護
膜とから構成されている。ＣＤからの情報の読み取りは
、レーザービームを光ディスクに照射することにより行
なわれ、ビットの有無による反射率の変化によフてＣＤ
フォーマット信号等か読み取られる。このようなＣＤは
、ＣＤ規格に基づいて、ＣＤを１．２〜１４ｍ／秒の定
線速度で回転させて記録することにより、信号面内径４
５ｍｍｊｊよび信号面外径１１６ｍｍのＭ　Ｉ＃１内て
、ビット幅０８μｍ、トラックピッチ１６μｍにて最大
７４分の記録時間を有することか要求されている。従来
において、このようなオーティオ用ＣＤは上記のように
予め基板にビットか形成された再生専用のものである。

また最近では、音楽情報の代わりに、各種文占、静止画
像なとの情報か予め記録されたＣ　Ｄ　−ＲＯＭ　（Ｒ
ｅａｄ　ＯｎｌｙＭｅｍｏｒｙ）も実用化されている。

このような光ティスフは、当然情報の記録、編集等かて
きないとの欠点を有している。従って、Ｄ　ＲＡ　Ｗ　
（Ｄｉｒｅｃｔ　Ｒｅａｄ　Ａｆｔｅｒ　Ｗｒｉｔｅ　
、Ｊき込み可能）型ＣＤの開発か行なわれており一部実
用化されている。

上記ＤＲＡＷ型ＣＤは、記録した情報を市販のＣＤプレ
ーヤーで再生てきることか必要とされている。ＣＤプレ
ーヤーで再生を行なうためには、光ディスクに高い反射
率を有することか要求されることから、高反射率の光テ
ィスフか望まれている。また、このような高反射率を有
する光ディスクは、一般に記録された信号の強度として
大きな値が得られ易いため、種々の光ドライブで情報の
再生を行なうことかでき、光ドライブへの通用性か大き
くなるとの利点がある。従って、高い反射率を有する光
ディスクは、ＣＤの分野のみならず、一般のＤＲＡＷ型
光ディスクにおいても有用である。

情報記録媒体の記録層を形成する記録材料として上記の
ように金属類や色素等が知られている。

色素は金属に比べて塗布により容易に記録層を形成する
ことができるとの利点を有する。しかしながら、色素記
録層の反射率は一般に３０〜４０％程度と低い。金属記
録層についても、色素記録層よりすこし高いものもある
か一般に同程度である。このため、反射率を高くする目
的で記録層の上にさらに金属反射層を設けることが一般
的に行なわれている。このような例が、日経エレクトロ
ニクス（１０７頁、１９８９年１月２３日発行）に記載
されてあり、これによるとポリカーボネート基板上に色
素記録層、さらにその上にＡｕの反射層か積層された構
造の光ティスフが示されている。モしてＥＰＣ特許公開
公報３５３３９３号にも、この反射層付き光ティスフか
開示されており、色素記録層の材料として、種々のシア
ニン色素を用いることが記載されている。こねにより、
Ｃ／Ｎ等の記録再生特性に優れ、且つ向上した反射率を
有する光ディスクを得ることができる。

しかしなから、このような記録層上に反射層を設けるこ
とは、製造工程か増加する、あるいは−般に記録感度か
低下し易い等の問題がある。

時開！１−２４２２８７号公報に、イミダソキノキサリ
ン系色素を用いて基板上に色素記録層を形成することに
より、反射層を設けることなく高反射率の光ティスフを
得ることかてきるとの開示がなされている。このような
光ティスフは、基板上に単に色素を溶剤に溶解した塗布
液を塗布乾燥することにより得ることができることから
、製造上極めて有利なものであると言える。しかしなか
ら、本発明者等の検討によると、基板上に記録層を形成
する際、使用する色素の種類、溶剤および塗布条件なと
の違いにより、必ずしも高い反射率か得られないことか
明らかになりだ。

［発明の目的］ 本発明は、光により情報を記録することかてき且つ高い
反射率を有する情報記録媒体を提供することをその目的
とする。

また、本発明は、ＣＤフォーマット信号を光記録するこ
とが可能なりＲＡＷ型の情報記録媒体を提供することを
その目的とする。

さらに本発明は、市販のＣＤプレーヤーにより再生可能
なＣＤフォーマット信号が記録されたＤＲＡＷ型の情報
記録媒体を提供することを目的とする。

［発明の要旨］ 本発明は、基板上に、レーザーによる情報の書き込みが
可能な記録層か設けられてなる情報記録媒体てあって、 該記録層か、色素からなる層であり且つ下記の条件（１
）および（２） １０≦ｄ≦５５　　　　　　　　　　　　（＋）１８≦
　（ｎ、＋　ｋ、）　　３−／′７　　（２）［但し、
ｄは記録層の層厚（ｎｍ）を表わし、そしてｎ、は記録
層の吸収極大波長における複素屈折率の実数部分および
に、は該複素屈折率の虚数部分を表わす。］ を満足する層であることを特徴とする情報記録媒体にあ
る。

上記本発明の情報記録媒体の好ましい態様は以下の通り
である。

１）上記記録層が、下記の条件（３）および（４）： ３０≦ｄ≦５５　　　　　　　　　　　　　（３）１８
≦　（ｎ、＋に、）　　３−ｒＴ　　　（４）［但し、
ｄは記録層の層厚（ｎｍ）を表わし、そしてｎｒ−は記
録層の吸収極大波長における複素屈折率の実数部分およ
びに１は該複素屈折率の虚数部分を表わす。］ を満足することを特徴とする上記情報記録媒体。

２）上記記録層か、下記の条件（５）および（６）： ３０≦ｄ≦５０　　　　　　　　　　　　　　　　　（
５）２０≦　（ｎ、＋に、）　　”／７≦１００（６）
［但し、ｄは記録層の層厚（ｎｍ）を表わし、そして０
１は記録層の吸収極大波長における複素屈折率の実数部
分およびに、は該複素屈折率の虚数部分を表わす。］ を満足することを特徴とする上記情報記録媒体。

３）上記色素が、シアニン色素、オキソノール色素、メ
ロシアニン色素、ピリリウム色素、チオピリリウム色素
およびヘテロアヌレン色素からなる群より選ばれる少な
くとも一種であることを特徴とする上記情報記録媒体。

４）上記記録層の吸収極大が、７００〜９００ｎｍの波
長範囲にあることを特徴とする上記情報記録媒体。

５）上記基板側からの光に対する反射率か、５０％以上
であることを特徴とする上記情報記録媒体。

６）上記基板側からの光に対する反射率か、６０％以上
であることを特徴とする上記情報記録媒体。

［発明の効果］ 本発明の情報記録媒体は、上記条件（１）および（２）
が示すように、特定の薄い層厚を有し且っ複素屈折率の
実数部分である屈折率（ｎ、）および該複素屈折率の虚
数部分である消衰係数（ｋ、）が共に大きい色素記録層
を有している。このような記録層は、膜にした時のｎ、
とに１の大きい（あるいは大きいと推定される）色素を
Ｆ記層厚になるように、且つ会合あるいは配向状態を形
成するような塗布条件で基板上に塗布乾燥することによ
り一般に得られ易い。

こうして得られる本発明の記録層を有する光ディスクは
、高い反射率を示し、且っＣ／Ｎ等記録再生特性も優れ
たものである。さらに、該記録層は、色素溶液を塗布に
より簡単に形成することができ、光ディスクの製造を極
めて簡略化することかできる。又生産性において有利で
あるだけでなく、記録層が極めて薄膜であることから材
料コストも低く抑えることかできる。

さらに、本発明の情報記録媒体は、色素および塗布条件
を選択することにより６０％以ヒの反射率を得ることが
でき、かつ極めて感度か高いので、１０ｍＷ以下の照射
パワーてＥＦＭ（Ｚ号の書き込みが可能であり、また市
販されているＣＤプレーヤーでの読み取りか可能であり
、ＤＲＡＷ型ＣＤとして使用することができる。

［発明の詳細な記述］ 本発明の情報記録媒体は、基板上に色素からなる記録層
が形成された基本構造を有する。

本発明の情報記録媒体は、たとえば以下に述へるような
方法により製造することかできる。

本発明の基板は、従来の情報記録媒体の基板として用い
られている各種の材料から任意に選択することができる
。本発明の基板材料として、例えばカラス：ポリカーボ
ネート：ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂：
ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系
樹脂：エポキシ樹脂：アモルファスポリオレフィンおよ
びポリエステルなどを挙げることかてき、所望により併
用してもよい。なお、これらの材料はフィルム状として
または剛性のある基板として使うことかできる。Ｆ記材
料の中で、耐湿性、寸法安定性および価格なとの点から
ポリカーボネートか好ましい。

記録層か設けられる側の基板表面には、平面性の改善、
接着力の向上および記録層の変質の防庄の目的で、下塗
層か設けられてもよい。下塗層の材料としてはたとえば
、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル
酸共重合体、スチレン°無水フレイナト共重合体、ポリ
ビニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、ス
チレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポ
リエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素
化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミ１、酢酸ビ
ニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重
合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネー
ト等の高分子物質：およびシランカップリング剤なとの
有機物質を挙げることかできる。

下塗層は、たとえば上記物質を適当な溶剤に溶解または
分散して塗布液を調製したのち、この塗布液をスピンコ
ード、デイツプコート、エクストルージョンコートなと
の塗布法により基板表面に塗布することにより形成する
ことかできる。下塗層の層厚は一般に０．００５〜２０
μｍの範囲にあり、好ましくは０．０１〜１０μｍの範
囲である。

また、基板（または下塗層）上には、トラ、ｙキング用
溝またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸が形成され
ていることが好ましい。上記ポリカーボネートなどの樹
脂材料を使用する場合は、樹脂材料を射出成形あるいは
押出成形などにより直接基板上にグループが設けられる
ことか好ましし）。

またグループ形成を、プレグルーブ層を設けることによ
り行なってもよい。プレグルーブ層の材料としては、ア
クリル酸のモノエステル、ジエステル、トリエステルお
よびテトラエステルのうちの少なくとも一種の千ツマ−
（またはオリコマ−）と光重合開始剤との混合物を用い
ることかできる。

プレグルーブ層の形成は、まず精密に作られた母型（ス
タンパ−）上に上記のアクリル酸エステルおよび重合開
始剤からなる混合液を塗布し、さらにこの塗布液層上に
基板を載せたのち、基板または母型を介して紫外線の照
射により液層を硬化させて基板と液相とを固着させる。

次いで、基板を母型から剥離することによりプレグルー
ブ層の設けられた基板か得られる。

プレグルーブ層の層厚は一般に０．０５〜１００μｍの
範囲にあり、好ましくは０１〜５０μｍの範囲である。

基板上には本発明の記録層が設けられる。

本発明の記録層は、色素からなる層てあり且つ下記の条
件（１）および（２）： １０≦ｄ≦５５　　　　　　　　　（１）１８≦（ｎｒ
　＋に、）　　３（Ｈ（２）［但し、ｄは記録層の層Ｎ
（ｎ　ｍ　）を表わし、そしてｎ、は記録層の吸収極大
波長における複素屈折率の実数部分およびに、は該複素
屈折率の虚数部分を表わす。］ を満足する層である。

色素層の反射率および透過率を測定することにより色素
層のｎ、およびに、の値を計算できることは既に公知で
あり（例えば、有機合成化学協会誌第４３＠第４号３３
４頁、１９８５年等）、従って、記録層か所望の反射率
を得られるように色素層の０１およびに１の値を求める
ことも可能である。しかしなから、本発明者等の検討に
よると、色素層を形成する際の種々の条件の差異により
、反射率の高い光ディスクを必ずしも得ることはできな
い。また、記録再生特性にも優れた光ティスフを得るに
はさらに困難である。高い反射率を得るためには、膜に
した時のｎ、とに、の大きい（あるいは大きいと推定さ
れる）色素を適宜の溶剤に溶解して塗布液を調製し、該
塗布液を用いて上記層厚になるように且つ会合あるいは
配向状態を形成するように特定の塗布条件で基板上に塗
４】乾燥することにより得られ易い。そして、このよう
な色素記録層て、上記ｎ１とに、との和が特定の値以上
を承す場合、高い反射率と優れた記録再生特性か得られ
ることが判明した。

さらにト記条件（１）および（２）が、それぞれ下記の
条件（３）および（４）： ３０≦ｄ≦５５　　　　　　　　　（：１）１８≦（ｎ
、＋に、）　　３Ｆ■　　（４）であることか好ましく
、特に上記条件（１）および（２）か、それぞれ下記の
条件（５）および（６）＝３０≦ｄ≦５０　　　　　　
　　　　　　（５）２０≦（ｎｒ　＋ｋｒ　）　　３ｆ
ｌ≦１００（６）であることか好ましい。

上記記録層に使用することができる色素は、上記条件（
１）および（２）を満足する記録層を形成することが可
能なものであると言えるか、そのような色素のうち一般
の半導体レーザーの発振波長である７５０〜８５０ｎｍ
の波長範囲の光に対する反射率か高くなるという点で、
膜にした時の吸収極大波長が７００〜９００ｎｍの範囲
にある色素か好ましい。

上記記録層に使用される色素としては、例えばイミタゾ
キノキサリン系色素等のシアニン系色素、オキソノール
色素、メロシアニン色素、ピリリウム色素、チオピリリ
ウム色素およびヘテロアヌレン色素を挙げることができ
る。上記イミタソキノキサリン系色素は、下記の一般式
（Ｉ）て表わすことかできる。

［たたし、Ｒ１およびＲ２は、置換基を有していても良
い炭素原子数８以下のアルキル基、アルキニル基、アル
ケニル基又はアリール基を表わし、こゎらは互いに同一
でも異なっていても良く、Ｗは、酸素原子、硫黄原子ま
たはＮ−Ｒ３を表わしくＲ３は置換基を有していても良
いアルキル基、アルケニル基又はアリール基を表わす）
、Ｙは窒素原子または水素ｗ、′ｆ−の結合した炭素原
子を表わし、Ｚは芳香族環を形成するための原子群を表
わし、しは、置換されていても良い３，５．もしくは７
個のメチン基か兵役二重結合により連結されて生じる三
価の基を表わし、そして、Ｘ−は陰イオンを表わす］ 本発明に用いられる好ましい色素は、一般式（Ｉ）にお
いて、［Ｒ１およびＲ２は、置換基を有していても良い
炭素原子数８以下のアルキル基、Ｗは、Ｎ−８３（Ｒ３
は置換基を有していても良い炭素原子数８以下のアルキ
ル基を表わす）、は窒素原子、Ｌは、メチル基で置換さ
れていてもよい３または５個のメチン基か共役二重結合
により連結されて生じる三価の基、Ｘ−はハライドイオ
ン、５ｂＦ６−１ＢＦ４−１ＰＦ６−およびｃｊ２ｏ４
−なとの球状または四面体型陰イオンを表わす］により
表わされる化合物である。

特に好ましくは、一般式（１）は、［ＲＩおよびＲ２は
、炭素原子数１〜３のアルコキシ基、炭素原子数１〜３
のアルキルチオ基またはアセトキシ基を有する炭素原子
数４以下のアルキル基または無置換の炭素原子数４以下
の直鎖のアルキル基、Ｗは、Ｎ−ＲＪ（Ｒ３はＲ１およ
びＲ２で定義されたものと同しアルキル基を表わす）、
Ｙは窒素原子、Ｌは、メチル基で置換されていてもよい
３または５個のメチン基か共役二重結合により連結され
て生しる価の基、Ｚは無置換のヘンセン環を形成するた
めの原子群を表わし、そしてＸ−はＣｌＯ４−を表わす
］により表わされる化合物である。

本発明の情報記録媒体に使用される好ましい色素例１〜
２８を以下に示すか、本発明はこれらのみに限定される
ものであはない。

以下全白 ○ Ｃ１○４ ＩＯ し３Ｍ６％１−１３ し３１’ｉ６　ｂ　Ｌ−ｎ　３ 工 Ｃ１○４ Ｃ１○ １ユ し３１′Ｉ６５シＭ３ Ｃ３ＨゎＳＣＨ３ Ｃ１○４ ＣｌＯ２ ＣｌＯ４ ○ Ｃ１０゜ Ｌ記記録層の形成には、本発明の色素と共に耐光性を向
トさせるためにいわゆる一重項酸素クエンチャーとして
知られている種々の色素、例えば下記の一般式（ＩＩ）
、（［ＩＩ）または（ｒＶ）で表ねされる化合物を併用
しても良い。

（たたし、［Ｃａｊドはテトラアルキルアンモニウムな
との非金属陽イオンを表わし、ＭはＮｉなとの遷移金属
原子を表わし、Ｚおよび２′は置換されていても良いヘ
ンセン環、２−チオクツ−１゜３−ジチオール環なとの
５ないし６員の芳香環もしくはペテロ環を完成するため
の原子団を表わす） ［式中Ｒは、置換基を何していてもよいアルキル基を表
わし、Ｑ−は−数式１）のＸ−て小したものと同し陰イ
オンを表わす］ ［式中Ｒは一般式（ＩＩ）と同義の基を表わし、Ｑ−は
−数式（ＩＩ）と同義の陰イオンを表わす］上記−数式
（ＩＩ）、（ｍ）または（ＩＶ）で表わされるクエンチ
ャ−の具体例としては、ＰＡ−１００６（三井東圧ファ
イン■）、ＩＲＱ−０２３、ＩＲＧ−０２２およびＩＲ
Ｇ−００３（以Ｆ日本化薬■）などを挙げることかてき
る。

上記クエンチャ−の添加量は、１記−数式（１）の色素
１００重量部に対して５〜３０重量部か好ましい。

記録層の形成は、上記色素、さらに所望により上記クエ
ンチャ−１結合剤などを溶剤に溶解して７９右液をＡ製
し、次いてこの塗布液を基板表面に塗布して塗膜を形成
したのち乾燥することにより行なうことかできる。

本発明の色素層塗布液調製用の溶剤としては、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、セロソルブアセテートなとのエステル
：メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソ
ブチルケトンなとのケトン：ジクロルメタン、１．２−
ジクロルエタン、クロロホルムなどの塩素化炭化水素二
ジメチルホルムアミドなどのアミド：シクロヘキサンな
との炭化水素、テトラヒドロフラン、エチルエーテル、
ジオキサンなとのエーテル：エタノール、ｎ−プロパツ
ール、イソプロパツール、ｎ−ブタノールジアセトンア
ルコールなとのアルコール：２゜２３．３−テトラフロ
ロプロパツールなどのフッ素系溶剤；エチレングリコー
ル千ツメチルエーテル、エチレングリコールモノエチル
エーテル、プロピレンクリコールモノメチルエーテルな
とのエチレングリコールエーテル類などを挙げることが
できる。

塗布液中にはさらに酸化防１Ｆ剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤
、滑剤なと各種の添加剤を目的に応して添加してもよい
。

結合剤を使用する場合に結合剤としては、たとえばセラ
チン、セルロース誘導体、テキストラン、ロジン、ゴム
なとの天然有機高分子物質：およびポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化
水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポ
リ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹
脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等
のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエ
チレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、
フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱峡化性樹脂の
初期縮合物なとの合成有機高分子物質を挙げ名ことがで
きる。

記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤に
対する色素の比率は一般に０．０１〜９９％（重量比）
の範囲にあり、好ましくは１゜０〜９５％（重量比）の
範囲にある。

塗布方法としては、スプレー法、スピンコード法、ティ
ップ法、ロールコート法、プレートコート法、ドクター
ロール法、スクリーン印刷法などを挙げることかできる
。

本発明の記録層の好ましい形成方法は。

Ｆ記色素のうち膜にした時のｎ、とに、の大きい色素を
有機溶剤（好ましくは、弗素含有溶剤）に溶解して、 所定の色素濃度（好ましくは、０．１〜５゜０重量％、
さらに好ましくは１．０〜３．０重量％）の塗布液を調
製し、 塗布機としてスピンコーターを用いて、下記の条件にて
、色素の会合あるいは配向させるように塗布乾燥を行な
うことか好ましい。

塗布（乾燥）温度：好ましくは一２５〜４０℃の範囲 回転数：塗布時１００〜５００ｒｐｍ（好ましくは２０
０〜３００）ｒｐｍで１〜 ６０秒（好ましくは２〜２０秒）、 ：乾燥時１０００〜８０００　ｒｐｍ　（好ましくは１
５００〜５０００ｒｐｍ） で５〜１２０秒（好ましくは１０〜 ９０秒） さらに好ましくは、基板上にガスを０．１〜５０１／分
で送りながら、上記条件で塗布乾燥を行なうことであり
、上記ガスとしては窒素、−酸化炭素等を使用すること
が好ましい。

このようにして、ｎ、、とに、の大きい色素を用いて上
記条件（＋）および（２）を満足するように記録層を形
成することにより、反射層が高く、記録再生特性にも優
れた光ディスクを得ることがてきる。

上記塗布方法に加えて、基板を一定方向に延伸したり、
基板をＷＪ擦したり、色素塗布液に塩類やｍｓを添加し
たり、あるいは色素層形成後該層に機械的あるいは熱的
刺激を与えるなどにより、色素の会合または配向か促進
され高反射率か得られ易いことから、これらの処理を加
えても良い。

本発明の情報記録媒体は、耐光性を向上させるため特定
の波長域の光を遮蔽するためにフィルター層を設けても
良い。フィルター層は、基板」−１に色素層を介してま
たは他の層を介して設けられても良い。フィルター層は
、￥布により設けても良いし、薄膜状のフィルターを貼
りつけて形成してもよい、あるいはフィルター層を形成
する代わりに基板自体を着色しても良い。特定の波長域
の光を遮蔽するため種々の色素や顔料を適宜使用するこ
とかてきる。

本発明の情報記録媒体は、記録層のみて高い反射率が得
られることから、記録層の上に反射層を設ける必要はな
いか、特定の目的のため、例えば保護層を兼ねて記録層
上に、あるいは記録層より内側または外側にプレフォー
マッテンク用ビットの反射層とする目的で、反射層か設
けられてもよい。

反射層の材料である光反射性物質はレーザー光に対する
反射率か高い物質であり、その例としては、Ｍｇ、Ｓｅ
、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、■、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ
、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐ
ｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、　　２ｎ、Ｃｄ、
ＡＬＬ、Ｇａ、　Ｉｎ、　Ｓｉ　、　Ｇｅ、Ｔｅ、　　
Ｐｂ、　Ｐｏ。

Ｓｎ、Ｂｉなとの金属および半金属あるいはステンレス
鋼を挙げることができる。これらのうちで好ましいもの
は、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、ＡＸおよび
ステンレス鋼である。これらの物質は単独で用いてもよ
いし、あるいは二種以上の組合せでまたは合金として用
いてもよい。

反射層は、たとえば上記光反射性物質を蒸着、スパッタ
リングまたはイオンブレーテインクすることにより記録
層の上に形成することかできる。

反射層の層厚は一般には１００〜３０００Ｈの範囲にあ
る。

また、記録層上または反射層の上には、記録層などを物
理的および化学的に保護する目的で保護層か設けうわて
もよい。この保護層は、基板の記録層が設けられていな
い側にも耐傷性、耐湿性を高める目的で設けられてもよ
い。

保護層に用いられる材料の例としては、Ｓｉ０、Ｓ　ｉ
ｏ□　、ＭｇＦ２．５ｎＯｚ　　、Ｓ　ｉ３　Ｎ４等の
兼機物質：熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹
脂等の有機物質を挙げることかできる。

保護層は、たとえばプラスチックの押出加圧で得られた
フィルムを接着層を介して記録層（反射層）上および／
または基板上にラミネートすることにより形成すること
かできる。あるいは真空藩着、スパッタリンク、塗布等
の方法により設けられてもよい。また、熱可塑性樹脂、
熱硬化性樹脂の場合には、これらを適当な溶剤に溶解し
て塗布液を調製したのち、この塗布液を塗布し、乾燥す
ることによっても形成することができる。ＵＶ硬化性樹
脂の場合には、そのままもしくは適当な溶剤に溶解して
塗布液を調製したのちこ（７）塗布液を塗布し、Ｕｖ光
を照射して硬化させることによフても形成することがで
きる。これらの塗布液中には、更に帯電防止剤、酸化防
止剤、ＵＶ吸収剤等の各種添加剤を目的に応して添加し
てもよい。記録層上に直接保護層形成材料を塗布する場
合は、藷記録層を保護層の塗布液の溶解作用から守るた
め記録層上にポリブタジェンなどを塗布（その際溶剤と
しては記録層を溶解しない溶剤を用いる）することによ
り中間層を設けることか好ましい。

中間層は、金属等の薄膜を蒸着により設けてもよい。

保護層の層厚は一般には０１〜１００μｍの範囲にある
。

さらに、記録層上に保護層を形成するの代わりに、記録
層上にプラスチックのフィルムを基板の内周及び外周に
て融着して設け、これにより記録層を保護してもよい。

本発明において、情報記録媒体は上述した構成からなる
単板であってもよいか、あるいは更に上記構成を有する
二枚の基板を記録層が内側となるように向い合わせ、接
着剤等を用いて接合することにより、貼合せタイプの記
録媒体を製造することもできる。あるいはまた、二枚の
円盤状基板のうちの少なくとも一方に上記構成を有する
基板を用いて、リング状内側スペーサとリング状外側ス
ペーサとを介して接合することにより、エアーサンドイ
ッチタイプの記録媒体を製造することもてきる。

本発明の基板トに色素層か形成された情報記録媒体は、
高反射率材料として、例えば赤外線反射体なとの光学素
ｆとして利用することも可能である。塗布により容易に
製造できる点でも有利である。

本発明の情報記録媒体は上記のような方法で製造するこ
とかできる。

情報の記録および再生は、上記情報記録媒体を用いて、
例えば次のように行なわわる。

まず、情報記録媒体を定線速度（ＣＤフォーマットの場
合は１．２〜１．４ｍ／秒）または定角速度にて回転さ
せなから、基板側から半導体レーザー光なとの記録用の
光を照射する。この光の照射により、記録層にピット（
孔）か形成されることにより、あるいは記録層に変色、
会合状態の変化等により屈折率か変化することにより情
報か記録されると考えられる。記録光としては７５０　
ｎｍ〜８５０ｎｍの範囲の発振波長を有する半導体レー
ザービームか用いられる。

上記のように記録された情報の再生は、情報記録媒体を
上記と同一の定線速度で回転させながら半導体レーザー
光を基板側から照射して、その反射光を検出することに
より行なうことかてきる。

なお、レーザー光の照射は、フレキシブルディスクなと
の場合、記録層側から行なうこともある。

以下に、本発明の実施例を記載する。たたし、これらの
各側は本発明を制限するものではない。

上記本発明の特定の層厚および特定の複素屈折率を有す
る色素層が高い反射率を有することを示すために下記の
実施例１を行なった。

［実施例１：Ｎｏ、１〜Ｎｏ、８］ 第１表に示す色素（前記色素番号）を語表に示す溶剤に
溶解して１重量％の濃度の色素層塗布液を調製した。

この塗布液と第１表に示すプレーンな表面を有する基板
を２２℃にした後、該塗布液を該基板上に、スピンコー
ド法により回転数３０Ｏｒｐｍの速度で且つ温度２２℃
の窒素を０．６ＩＬ／分て基板表面に送りなから１０秒
間塗布し、回転数を２０００ｒｐｍに上げて９０秒間回
転させて乾燥することにより層厚（ｄ）が第１表記載の
色素層を形成した。

ト記得られた色素層の層厚（ｄ）は、その断面の電子顕
微鏡写真から求めた。

また、上記色素層が形成された基板を、分光光度計（■
日立製作新製）を用いて、基板側より反射スペクトル（
Ｒ）を測定し、色素層側から透過スペクトル（Ｔ）を測
定した。これよりＲの極大反射率（Ｒ，、、）を得た。

上記色素層の形成条件を第１表に示す。

以下令白 第１表 色素 基板 溶剤 （ｎａｐ） Ｒｏ、８ （％） ＮＯｌＩ ＮＯ２２ Ｎｏ、３ Ｎｏ、４ Ｎｏ、５ Ｎｏ、６ Ｃ Ｃ Ｃ Ｃ ガラス ガラス ＴＦｒ ＴＦｒ ＴＦｒ ＰＴ ＴＦＴ／メタノール ＴＦｒ Ｎｏ、７ ガラス ＴＦｒ Ｎｏ、８ ガラス ＴＦｒ 表中の略語は下記のとおりである。

ｐｃニボリカーホネート ＴＦｒ　　：　　２．　２．　３゜ ３−テトラフルオロ プロパツール 色素Ａ Ｃ１○、゛ 吸収極大波長における、記録層の複素屈折率（ｎ、、ｋ
ｒ　）を、吸収極大波長におけるＲおよびＴから公知の
計算法に従い計算した。

層厚（ｄ）、極大反射率（Ｒ，、、、）（これらは両温
）、複素屈折率（ｎｒ　、　ｋｒ　）および（ｎ　ｒ＋
に、）’Ｆ■の値を第２表に示す。

以下余白 第２表 Ｒ＋＋ｍａ＋ｔ ｎ「 ｋ。

（ｎｒ”ｋｒ） ｄ （ｎｍ） （％） Ｎｏ、Ｉ Ｎｏ、２ ＮＯ０３ Ｎｏ、４ Ｎｏ、５ Ｎｏ、６ ２．５８ １．６４ １．８４ ３．７５ ４．８４ １．４７ ５．３４ ３．９３ ３．５６ ３．８６ ２．９１ ４．２３ ２８．３ １９．８ ２０．５ ２７．２ ２７．８ ２１．４ Ｎｏ、７　　　　　８８　　　３６　　　　１．２６　
　　：１．１９　　　１９．８Ｎｏ、８　　　　５３　
　　４１　　　　２．０８　　１．８４　　　１５．７
上記本発明の特定の層厚および特定の複素屈折率を有す
る色素層が高い反射率を示すことが分かる。反射率は極
大反射率で示したが、一般に極大吸収波長においてもこ
れに近い値を示す。以下の実施例２〜４において、光デ
ィスクにこの色素層を利用した場合、得られる光ディス
クがレーザーの発振波長においても高い反射率を任し、
そして光ディスクに必要な特性を有することを示す。

［実施例２］ 前記色素番号−４（実施例１のＮ００２の色素）のシア
ニン系色素１．０ｇを、２．２，３゜３−テトラフロロ
プロパツール（構造式：　ｌ［Ｆ２ＣＦ２Ｃ８２０Ｈ）
　１００　ｃ　ｃに溶解して色素層塗布液を調製した。

　トラッキングガイドが設けられた円盤状のポリカーボ
ネート基板（外径：１２０ｍｍ、内径：　１５ｍｍ、厚
さ：　１．２ｍｍ、トラックピッチ＝１．６μｍ、グル
ープの深さ二８００又）と塗布液を２２℃にした後、該
基板上に該塗布液をスピンコード法により回転数３０゜
ｒｐｍの速度温度２２℃の窒素を０．６ｆｉ／分で基板
表面に送りながら１０秒間塗布し、回転数を２００Ｏｒ
ｐｍに上げて９０秒間回転させで乾燥することにより層
厚が４５ｎｍの記録層を形成した。

このようにして、゛基板および記録層からなる情報記録
媒体を製造した。

［実施例３］ 実施例２において、記録層の層厚４５ｎｍを３０ｎｍに
変えた以外は実施例２と同様にして情報記録媒体を製造
した。

［実施例４コ 実施例２において、記録層の層厚４５ｎｍを５３ｎｍに
変えた以外は実施例２と同様にして情報記録媒体を製造
した。

上記実施例２〜４で得られた情報記録媒体を下記のよう
に評価した。

［情報記録媒体の評価］ １）反射率 得られた情報記録媒体について分光光度計（■日立製作
新製）を用いて、基板側より７７０ｎｍの波長の光を照
射して未記録部の反射率を測定した。

２）Ｃ／Ｎ 上記で得られた情報記録媒体を、・波長７７０ｎｍの半
導体レーザー光を使用して、定線速度１．３ｍ／秒、記
録パワー７．０ｍＷにて、変調周波数７２０ｋＨｚ　（
デユーティ−３３％）のイエ号を記録した。そして記録
された信号を０．５ｍＷの再生パワーにて再生し、再生
時のＣ／Ｎを、スペクトルアナライザー（ＴＲ４１３５
：アトバンテスト社製）を用いて測定した。

上記測定結果を第２表に示す。

第２表 層厚　　　反射率　　Ｃ／Ｎ （ｎｍ）　　　　（％）　　　　（ｄＢ）実施例２ 実施例３ 実施例４ 第２表より明らかなように、本発明の基板上に特定層厚
および特定の複素屈折率を有する記録層が設けられた光
ディスク（実施例２〜４）は、高い反射率を示し１つＣ
／Ｎについても高い水準をボしている。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、基板上に、レーザーによる情報の書き込みが可能な
   記録層が設けられてなる情報記録媒体であって、 該記録層が、色素からなる層であり且つ下記の条件（１
   ）および（２）： １０≦ｄ≦５５（１） １８≦（ｎ＿ｒ＋ｋ＿ｒ）＾３√ｄ（２） ［但し、ｄは記録層の層厚（ｎｍ）を表わし、そしてｎ
   ＿ｒは記録層の吸収極大波長における複素屈折率の実数
   部分およびｋ＿ｒは該複素屈折率の虚数部分を表わす。 ］ を満足する層であることを特徴とする情報記録媒体。