JPH0478847A - 写真用支持体の下引塗布方法 - Google Patents
写真用支持体の下引塗布方法Info
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- JPH0478847A JPH0478847A JP19275090A JP19275090A JPH0478847A JP H0478847 A JPH0478847 A JP H0478847A JP 19275090 A JP19275090 A JP 19275090A JP 19275090 A JP19275090 A JP 19275090A JP H0478847 A JPH0478847 A JP H0478847A
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- coating liquid
- coater
- liquid
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は写真感光材料用支持体に対する下引液の塗布方
法に関し、詳しくは溶剤を使用する塗布液の塗布方法に
関する。
法に関し、詳しくは溶剤を使用する塗布液の塗布方法に
関する。
写真感光材料の支持体としては各種のものが使用されて
いるが、主として用いられているのはポリエチレンテレ
フタレート及びトリアセチルセローズによるフィルムベ
ースである。
いるが、主として用いられているのはポリエチレンテレ
フタレート及びトリアセチルセローズによるフィルムベ
ースである。
これら支持体には、感光性乳剤層あるいはバッキング層
等の主としてゼラチンをバインダーとする親水性コロイ
ド層との接着性を高めるために、通常下引液と称する塗
布層があらかじめ塗布される。
等の主としてゼラチンをバインダーとする親水性コロイ
ド層との接着性を高めるために、通常下引液と称する塗
布層があらかじめ塗布される。
これら下引液も各種の組成のものがあるが、特にトリア
セチルセローズフィルムベース用には溶剤を含有する組
成のものが多く使用される。
セチルセローズフィルムベース用には溶剤を含有する組
成のものが多く使用される。
このような下引層は一般に非常に薄膜であり、かつ溶剤
の蒸発もあるため均一に塗布することが難しい。しかも
近時、生産性の向上に対する要請が強く、そのため塗布
速度の向上が望まれ一層難しくなってきている。
の蒸発もあるため均一に塗布することが難しい。しかも
近時、生産性の向上に対する要請が強く、そのため塗布
速度の向上が望まれ一層難しくなってきている。
従来このような溶剤系下引液の塗布に当たっては一般的
にダブルロールコータ−と呼ばれる塗布方法が用いられ
て来た。
にダブルロールコータ−と呼ばれる塗布方法が用いられ
て来た。
第３図はこのようなダブルロールコータ−の１例を示す
断面図である。
断面図である。
同図において塗布液りはピックアップロール３２により
１次膜３３として持ち上げられ、バックロ−ル３１に抱
かれて走行する支持体Ｂ上に塗布され塗布膜すなわち２
次膜３４となる。
１次膜３３として持ち上げられ、バックロ−ル３１に抱
かれて走行する支持体Ｂ上に塗布され塗布膜すなわち２
次膜３４となる。
このような塗布方法においては、塗布量は支持体の走行
速度、ピックアップロールの回転速度、ピックアップロ
ールとバックロールとの間隙、塗布液の粘度等の物性、
温度等により規定される。
速度、ピックアップロールの回転速度、ピックアップロ
ールとバックロールとの間隙、塗布液の粘度等の物性、
温度等により規定される。
この方法は、速度上昇をはかる場合の塗布量すなわち膜
厚の制御が難しく、特に１次膜の塗布膜れが２次膜に影
響し易く、筋故障の発生等により、安定に塗布速度の上
昇をはかるのが困難であった。
厚の制御が難しく、特に１次膜の塗布膜れが２次膜に影
響し易く、筋故障の発生等により、安定に塗布速度の上
昇をはかるのが困難であった。
さらに本発明における写真感光材料用下引層のように溶
剤を含有する塗布液の場合は塗布液の蒸発による液物性
、液濃度の変化、あるいは析出等の問題もあり、安定な
均一塗布はさらに困難であっｔ二。
剤を含有する塗布液の場合は塗布液の蒸発による液物性
、液濃度の変化、あるいは析出等の問題もあり、安定な
均一塗布はさらに困難であっｔ二。
上記のような問題に対して本発明の目的は、安定に塗布
速度の向上ができ、塗布故障の発生のない写真感光材料
用支持体の下引塗布方法を提供することである。
速度の向上ができ、塗布故障の発生のない写真感光材料
用支持体の下引塗布方法を提供することである。
本発明の上記目的は、写真感光材料用支持体に下引液を
塗布するにあたり、押出ノズルにより支持体の幅方向に
沿うスリットから所定量の塗布液を押し出し、かつ支持
体と上記ノズル先端との間に形成されるビードを下方に
減圧することにより塗布することを特徴とする写真用支
持体の下引塗布方法により達成される。
塗布するにあたり、押出ノズルにより支持体の幅方向に
沿うスリットから所定量の塗布液を押し出し、かつ支持
体と上記ノズル先端との間に形成されるビードを下方に
減圧することにより塗布することを特徴とする写真用支
持体の下引塗布方法により達成される。
以下本発明について具体的に説明する。
第１図は本発明による塗布方法の１例を示す断面図であ
る。
る。
同図において、塗布液りは、塗布液槽７より送液ポンプ
８よりフィルター９を通して塗布機ｌに送られる。この
塗布機には、減圧装置ｉｏを設置することにより塗布機
先端とウェブとの間にリボン状に形成されるビードを減
圧により下方に引っ張ることにより、ビードの安定性、
塗布安定性を高めている。
８よりフィルター９を通して塗布機ｌに送られる。この
塗布機には、減圧装置ｉｏを設置することにより塗布機
先端とウェブとの間にリボン状に形成されるビードを減
圧により下方に引っ張ることにより、ビードの安定性、
塗布安定性を高めている。
塗布機１により支持体上の塗布された下引液はメタ−リ
ング装置４により所望の膜厚に調整される。メタリング
ロール上の塗布液は掻き取り装置６により掻き取られる
。
ング装置４により所望の膜厚に調整される。メタリング
ロール上の塗布液は掻き取り装置６により掻き取られる
。
第２図は塗布機の詳細断面図の１例であるが、支持体Ｂ
の幅方向に沿う１対のノズルヘッド２１Ａ、２１Ｂ及び
側板２５Ａ、 ２５Ｂにより形成されるスリット２２を
有し、塗布液流入孔２４より流入した塗布液はポケット
２３を通ってスリット２２より支持体幅方向に均一に押
し出される。
の幅方向に沿う１対のノズルヘッド２１Ａ、２１Ｂ及び
側板２５Ａ、 ２５Ｂにより形成されるスリット２２を
有し、塗布液流入孔２４より流入した塗布液はポケット
２３を通ってスリット２２より支持体幅方向に均一に押
し出される。
このようにして、一定の供給量で支持体Ｊこ塗布液を供
給する。
給する。
本発明はこのような塗布方法により塗布速度を向上し、
かつ所望の塗布膜厚を安定して得ることができる。
かつ所望の塗布膜厚を安定して得ることができる。
塗布条件は塗布液組成、物性、濃度、等により異なるが
、本発明における好ましい塗布条件としては下記のとお
りである。
、本発明における好ましい塗布条件としては下記のとお
りである。
０内はさらに好ましい条件を示す。
塗布Ｗｅｔ膜厚：２−７μｍ
コーター間隙 ： ３０−２００ （３０〜１００）
μｍ塗布速度 ： ２〜２００ （５〜１１００）
／ｓｉｎ減圧度 二０〜２００ （５〜５０）
ｓｍＡｑ〔実施例〕 以下、実施例により具体的に本発明の効果を例証する。
μｍ塗布速度 ： ２〜２００ （５〜１１００）
／ｓｉｎ減圧度 二０〜２００ （５〜５０）
ｓｍＡｑ〔実施例〕 以下、実施例により具体的に本発明の効果を例証する。
実施例１
下記の塗布液、塗布条件により、本発明のバックロール
を使用した第１図に示す押出型塗布装置により塗布を行
った。
を使用した第１図に示す押出型塗布装置により塗布を行
った。
塗布液
アルミナゾル ４０ｇＡ Ｓ −
１００（日産化学雪製） アセトン ５００醜Ｑメタノー
ル ４００ｍｆｆデメチルホルム
アミド １００ｍ１２その他の固形含有物（
溶解物）３０ｇ 塗布条件 ウェット膜厚：２２μｍ コーター間隙：９０μｍ 塗布速度： ３０ｍ／ｗｉｎ 減圧度△Ｐ、−４＋ｓ會Ａｑ 以上の塗布条件で塗布を行った結果、所期のとおり安定
したビード状態となり、良好な塗布を行うことができた
。
１００（日産化学雪製） アセトン ５００醜Ｑメタノー
ル ４００ｍｆｆデメチルホルム
アミド １００ｍ１２その他の固形含有物（
溶解物）３０ｇ 塗布条件 ウェット膜厚：２２μｍ コーター間隙：９０μｍ 塗布速度： ３０ｍ／ｗｉｎ 減圧度△Ｐ、−４＋ｓ會Ａｑ 以上の塗布条件で塗布を行った結果、所期のとおり安定
したビード状態となり、良好な塗布を行うことができた
。
本発明により、減圧装置を有する押し出しあるいはスラ
イド塗布装置において、安定塗布の可能な塗布装置を提
供することができた。
イド塗布装置において、安定塗布の可能な塗布装置を提
供することができた。
第１図は、本発明の機構を有する塗布装置の１例を示す
断面図である。 第２図は、塗布機の部分詳細斜視図である。 第３図は、ダブルロールコータ−のＩ例ヲ示ス断面図で
ある。 １：１１！＋布機 ２：ウエブ３：バックロ
ール ４：メタリングロール６：掻き取り装置
７：塗布液タンクｌＯ：減圧装置
断面図である。 第２図は、塗布機の部分詳細斜視図である。 第３図は、ダブルロールコータ−のＩ例ヲ示ス断面図で
ある。 １：１１！＋布機 ２：ウエブ３：バックロ
ール ４：メタリングロール６：掻き取り装置
７：塗布液タンクｌＯ：減圧装置
Claims (1)
- 写真感光材料用支持体に下引液を塗布するにあたり、押
出ノズルにより支持体の幅方向に沿うスリットから所定
量の塗布液を押し出し、かつ支持体と上記ノズル先端と
の間に形成されるビードを下方に減圧することにより塗
布することを特徴とする写真用支持体の下引塗布方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19275090A JPH0478847A (ja) | 1990-07-20 | 1990-07-20 | 写真用支持体の下引塗布方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19275090A JPH0478847A (ja) | 1990-07-20 | 1990-07-20 | 写真用支持体の下引塗布方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0478847A true JPH0478847A (ja) | 1992-03-12 |
Family
ID=16296432
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19275090A Pending JPH0478847A (ja) | 1990-07-20 | 1990-07-20 | 写真用支持体の下引塗布方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0478847A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0791686A1 (en) * | 1996-02-28 | 1997-08-27 | Valmet Corporation | Assembly for preventing the plugging of a coater nozzle |
-
1990
- 1990-07-20 JP JP19275090A patent/JPH0478847A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0791686A1 (en) * | 1996-02-28 | 1997-08-27 | Valmet Corporation | Assembly for preventing the plugging of a coater nozzle |
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