JPH0478005B2 - - Google Patents

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JPH0478005B2
JPH0478005B2 JP58149237A JP14923783A JPH0478005B2 JP H0478005 B2 JPH0478005 B2 JP H0478005B2 JP 58149237 A JP58149237 A JP 58149237A JP 14923783 A JP14923783 A JP 14923783A JP H0478005 B2 JPH0478005 B2 JP H0478005B2
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JP
Japan
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etched
etching
etching gas
reaction chamber
substrate
Prior art date
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JP58149237A
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English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JPS6041229A (ja
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Toshihiro Sugii
Takashi Ito
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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JPH0478005B2 true JPH0478005B2 (OSRAM) 1992-12-10

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JPS6041229A (ja) 1985-03-04

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