JPH047590B2 - - Google Patents
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- JPH047590B2 JPH047590B2 JP60199554A JP19955485A JPH047590B2 JP H047590 B2 JPH047590 B2 JP H047590B2 JP 60199554 A JP60199554 A JP 60199554A JP 19955485 A JP19955485 A JP 19955485A JP H047590 B2 JPH047590 B2 JP H047590B2
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- Japan
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- resin
- case
- gel
- semiconductor device
- heat sink
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
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- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 36
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 36
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 15
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 14
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 7
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 claims description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 4
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 9
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 2
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000011417 postcuring Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、半導体装置に関するものであり、
とりわけ、複数の素子を含む、樹脂封止形の半導
体装置に関するものである。
とりわけ、複数の素子を含む、樹脂封止形の半導
体装置に関するものである。
近年、電子機器の発達は著しく、機器の小形軽
量化が活発に行われつつある。これらのもとをな
すものの一つとして半導体装置の小形軽量化が考
えられている。このなかでも中容量の電力用半導
体の小形化および軽量化の手段として、従来のキ
ヤンタイプやスタツドタイプのものから樹脂封止
形のものへの切替えがさかんに行われてきてお
り、さらに複数の素子を単一パツケージに納めた
構造をもつ、いわゆるパワーモジユールが数多く
開発されるようになつてきた。このモジユール
も、近年は、大容量(300A、1000V)のものや、
インバータ用として6素子を単一パツケージに組
込んだものなどが多くなり、そのパツケージもし
だいに大きくなつてきた。
量化が活発に行われつつある。これらのもとをな
すものの一つとして半導体装置の小形軽量化が考
えられている。このなかでも中容量の電力用半導
体の小形化および軽量化の手段として、従来のキ
ヤンタイプやスタツドタイプのものから樹脂封止
形のものへの切替えがさかんに行われてきてお
り、さらに複数の素子を単一パツケージに納めた
構造をもつ、いわゆるパワーモジユールが数多く
開発されるようになつてきた。このモジユール
も、近年は、大容量(300A、1000V)のものや、
インバータ用として6素子を単一パツケージに組
込んだものなどが多くなり、そのパツケージもし
だいに大きくなつてきた。
第3図は、従来のこの種の半導体装置を示し、
この例は、内部に2つのトランジスタチツプを含
み、外部電極としてそれぞれのコレクタ電極およ
び共通のエミツタ電極をそなえた半導体装置であ
る。図において、放熱板1の上面に絶縁基板2が
固着されている。この絶縁基板2上にコレクタ電
極となる電極3、それぞれエミツタ電極、ベース
電極となる電極4,5が絶縁基板2上に固着され
ている。さらにコレクタ電極3の上面には、トラ
ンジスタチツプ6が固着され、そのチツプ上面に
はAl線7によりエミツタ電極4、ベース電極5
に接続されている。8,9は外部端子となるコレ
クタ電極を示し、10は同様のエミツタ電極を示
す。なお、ここでは信号端子については、この発
明と関係がないため、省略している。
この例は、内部に2つのトランジスタチツプを含
み、外部電極としてそれぞれのコレクタ電極およ
び共通のエミツタ電極をそなえた半導体装置であ
る。図において、放熱板1の上面に絶縁基板2が
固着されている。この絶縁基板2上にコレクタ電
極となる電極3、それぞれエミツタ電極、ベース
電極となる電極4,5が絶縁基板2上に固着され
ている。さらにコレクタ電極3の上面には、トラ
ンジスタチツプ6が固着され、そのチツプ上面に
はAl線7によりエミツタ電極4、ベース電極5
に接続されている。8,9は外部端子となるコレ
クタ電極を示し、10は同様のエミツタ電極を示
す。なお、ここでは信号端子については、この発
明と関係がないため、省略している。
次に、トランジスタチツプ6の上面およびAl
線7を保護するために、放熱板1と樹脂ケース1
1で囲まれた空間に樹脂のゲル12が充填され、
さらにその上方にエポキシ樹脂13が充填されて
いる。
線7を保護するために、放熱板1と樹脂ケース1
1で囲まれた空間に樹脂のゲル12が充填され、
さらにその上方にエポキシ樹脂13が充填されて
いる。
上記の構成になる従来の半導体装置の組立工程
を要約すると、まず、放熱板1上に絶縁基板2、
コレクタ電極3、エミツタ電極4、ベース電極5
およびトランジスタチツプ6を固着する。次に、
トランジスタチツプ6上面の電極とベース電極
5、エミツタ電極4をそれぞれAl線7により接
続する。この後、放熱板1を囲むように樹脂ケー
ス11を接着して取着ける。そしてこのケース1
1の中にゲル12を注入キユアーし、トランジス
タチツプ6およびAl線7を保護する。ついで、
ゲル12の上にエポキシ樹脂13を注入し、ケー
ス11の上方よりフタ14をかぶせて後キユアー
をする。以上のようにして製品は完成される。
を要約すると、まず、放熱板1上に絶縁基板2、
コレクタ電極3、エミツタ電極4、ベース電極5
およびトランジスタチツプ6を固着する。次に、
トランジスタチツプ6上面の電極とベース電極
5、エミツタ電極4をそれぞれAl線7により接
続する。この後、放熱板1を囲むように樹脂ケー
ス11を接着して取着ける。そしてこのケース1
1の中にゲル12を注入キユアーし、トランジス
タチツプ6およびAl線7を保護する。ついで、
ゲル12の上にエポキシ樹脂13を注入し、ケー
ス11の上方よりフタ14をかぶせて後キユアー
をする。以上のようにして製品は完成される。
以上のような従来の半導体装置では、最終工程
のエポキシ樹脂のキユアーを行うと、樹脂の硬化
収縮によりケースの両端部がそれぞれ内側に引張
られるために放熱板1が下方に凸状に変形すると
ともに、トランジスタチツプ6も変形するという
問題点があつた。この影響はケース11の寸法が
大きくなるほど顕著にあらわれるため、近年、製
品が大形になるにつれ大きな問題となつてきてい
る。また、この硬化時の収縮力は、外部端子8,
9,10に対しても加わるため、それぞれの端子
の下方固着個所においてもそのストレスによつて
不具合が生じるという問題点もあつた。
のエポキシ樹脂のキユアーを行うと、樹脂の硬化
収縮によりケースの両端部がそれぞれ内側に引張
られるために放熱板1が下方に凸状に変形すると
ともに、トランジスタチツプ6も変形するという
問題点があつた。この影響はケース11の寸法が
大きくなるほど顕著にあらわれるため、近年、製
品が大形になるにつれ大きな問題となつてきてい
る。また、この硬化時の収縮力は、外部端子8,
9,10に対しても加わるため、それぞれの端子
の下方固着個所においてもそのストレスによつて
不具合が生じるという問題点もあつた。
この発明は、かかる問題点を解消しようとする
もので、充填される樹脂の硬化時に生じる放熱板
等の変形を防止することができ、装置の大形化を
容易にした半導体装置を得ることを目的とする。
もので、充填される樹脂の硬化時に生じる放熱板
等の変形を防止することができ、装置の大形化を
容易にした半導体装置を得ることを目的とする。
この発明に係る半導体装置は、上層の樹脂を熱
硬化性樹脂とし、下層の樹脂をゲル状樹脂とし、
先端がゲル状樹脂中に突入するように仕切板をフ
タの下面に突設している。
硬化性樹脂とし、下層の樹脂をゲル状樹脂とし、
先端がゲル状樹脂中に突入するように仕切板をフ
タの下面に突設している。
この発明においては、下層のゲル状樹脂が熱硬
化性樹脂の硬化時に下面方向に生じる引張力を吸
収し、仕切板が熱硬化性樹脂を分割して硬化時に
ケース両端部に生じる引張力を低減し、さらに、
仕切板の先端が金属ワイヤの高さを規制して金属
ワイヤの熱硬化性樹脂層への突出を抑えるように
働く。
化性樹脂の硬化時に下面方向に生じる引張力を吸
収し、仕切板が熱硬化性樹脂を分割して硬化時に
ケース両端部に生じる引張力を低減し、さらに、
仕切板の先端が金属ワイヤの高さを規制して金属
ワイヤの熱硬化性樹脂層への突出を抑えるように
働く。
第1図、第2図はこの発明の一実施例を示し、
第3図におけると同一符号は同一部分を示してい
る。また、製造工程は従来の半導体装置の場合と
全く同一手順で行うことができる。第2図に示す
フタ24の下面に一体に仕切板25を2個所突設
してある。この仕切板25の下端は、第1図に示
すように、ゲル12の層まで中に突入している。
第3図におけると同一符号は同一部分を示してい
る。また、製造工程は従来の半導体装置の場合と
全く同一手順で行うことができる。第2図に示す
フタ24の下面に一体に仕切板25を2個所突設
してある。この仕切板25の下端は、第1図に示
すように、ゲル12の層まで中に突入している。
以上の構成により、仕切板25により、エポキ
シ樹脂13の層は、ケース11内部で3分割さ
れ、Alワイヤ7の高さが規制され、Alワイヤ7
のエポキシ樹脂13の層内への突出が防止される
ことになる。したがつて、エポキシ樹脂13の硬
化収縮により下面方向に生じる力は、ゲル12の
層で吸収され、ケース11の両端方向に生じる力
は、仕切板25がない場合には、ケース11の両
端部を引き寄せるように働いて放熱板1を変形さ
せるが、この仕切板25を設けたことによつて、
ケース11の両端部は内側に引張られるが、その
引張力を生じさせるのは、ケース11と仕切板2
5間のエポキシ樹脂の硬化収縮のみであるので、
その力は著しく軽減され、放熱板1やトランジス
タチツプ6の変形が防止される。
シ樹脂13の層は、ケース11内部で3分割さ
れ、Alワイヤ7の高さが規制され、Alワイヤ7
のエポキシ樹脂13の層内への突出が防止される
ことになる。したがつて、エポキシ樹脂13の硬
化収縮により下面方向に生じる力は、ゲル12の
層で吸収され、ケース11の両端方向に生じる力
は、仕切板25がない場合には、ケース11の両
端部を引き寄せるように働いて放熱板1を変形さ
せるが、この仕切板25を設けたことによつて、
ケース11の両端部は内側に引張られるが、その
引張力を生じさせるのは、ケース11と仕切板2
5間のエポキシ樹脂の硬化収縮のみであるので、
その力は著しく軽減され、放熱板1やトランジス
タチツプ6の変形が防止される。
なお、上記実施例では、ケース11内に充填さ
れる2層の樹脂を、ゲル12とエポキシ樹脂13
としたが、これに限らず、2種類の樹脂を2層に
充填したものであればよい。また、仕切板25の
個数も任意でよい。
れる2層の樹脂を、ゲル12とエポキシ樹脂13
としたが、これに限らず、2種類の樹脂を2層に
充填したものであればよい。また、仕切板25の
個数も任意でよい。
この発明は、以上の説明から明らかなように、
下層の樹脂をゲル状樹脂とし、上層の樹脂を熱硬
化性樹脂とし、先端がゲル状樹脂中に突入するよ
うに仕切板をフタの下面に突設しているので、金
属ワイヤの高さが仕切板の先端で規制され、樹脂
の硬化収縮時にケース下面方向に働く応力はゲル
状樹脂で吸収され、ケース両端部方向に働く応力
は仕切板による熱硬化性樹脂層の分割で軽減さ
れ、金属ワイヤの断線を防止されるとともに、放
熱板やトランジスタチツプの変形が防止され、従
来と同様のプロセスで装置の大形化が容易に達成
される。
下層の樹脂をゲル状樹脂とし、上層の樹脂を熱硬
化性樹脂とし、先端がゲル状樹脂中に突入するよ
うに仕切板をフタの下面に突設しているので、金
属ワイヤの高さが仕切板の先端で規制され、樹脂
の硬化収縮時にケース下面方向に働く応力はゲル
状樹脂で吸収され、ケース両端部方向に働く応力
は仕切板による熱硬化性樹脂層の分割で軽減さ
れ、金属ワイヤの断線を防止されるとともに、放
熱板やトランジスタチツプの変形が防止され、従
来と同様のプロセスで装置の大形化が容易に達成
される。
第1図はこの発明の一実施例の正断面図、第2
図は同じく一部斜視図、第3図は従来の半導体装
置の正断面図である。 1……放熱板、2……絶縁基板、3……コレク
タ電極(電極)、6……トランジスタチツプ、1
1……樹脂ケース、12,13……ゲルおよびエ
ポキシ樹脂でなる2層の樹脂、24……フタ、2
5……仕切板。なお、各図中、同一符号は同一又
は相当部分を示す。
図は同じく一部斜視図、第3図は従来の半導体装
置の正断面図である。 1……放熱板、2……絶縁基板、3……コレク
タ電極(電極)、6……トランジスタチツプ、1
1……樹脂ケース、12,13……ゲルおよびエ
ポキシ樹脂でなる2層の樹脂、24……フタ、2
5……仕切板。なお、各図中、同一符号は同一又
は相当部分を示す。
Claims (1)
- 1 放熱板上に固着された絶縁基板と、この絶縁
基板上に固着された複数の電極と、この電極上に
それぞれ固着されたトランジスタチツプと、前記
電極と前記トランジスタチツプとを接続する金属
ワイヤと、前記放熱板をとり囲んで接着された樹
脂ケースと、この樹脂ケース内に上下2層に注形
された2種類の樹脂と、前記樹脂ケースの上端に
結合されたフタとを備えた半導体装置において、
上層の前記樹脂を熱硬化性樹脂とし、下層の前記
樹脂をゲル状樹脂とし、さらに先端が下層の前記
樹脂中に突入して上層の前記樹脂を分割する仕切
板を前記フタの下面に突設したことを特徴とする
半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19955485A JPS6261349A (ja) | 1985-09-11 | 1985-09-11 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19955485A JPS6261349A (ja) | 1985-09-11 | 1985-09-11 | 半導体装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6261349A JPS6261349A (ja) | 1987-03-18 |
JPH047590B2 true JPH047590B2 (ja) | 1992-02-12 |
Family
ID=16409756
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19955485A Granted JPS6261349A (ja) | 1985-09-11 | 1985-09-11 | 半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6261349A (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0399757A (ja) * | 1989-09-11 | 1991-04-24 | Nippon Steel Corp | 双ロール式薄板連続鋳造方法 |
JP2011023458A (ja) * | 2009-07-14 | 2011-02-03 | Toshiba Corp | 半導体装置およびその製造方法 |
JP5897516B2 (ja) * | 2013-08-21 | 2016-03-30 | 株式会社三社電機製作所 | 半導体装置 |
WO2024057752A1 (ja) * | 2022-09-16 | 2024-03-21 | 富士電機株式会社 | 半導体モジュール、半導体装置、及び車両 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6120771U (ja) * | 1984-07-09 | 1986-02-06 | 日本フエラス工業株式会社 | サツシ枠の建付装置 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5927612Y2 (ja) * | 1979-01-10 | 1984-08-10 | 松下電器産業株式会社 | ハイブリッド回路ユニット |
-
1985
- 1985-09-11 JP JP19955485A patent/JPS6261349A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6120771U (ja) * | 1984-07-09 | 1986-02-06 | 日本フエラス工業株式会社 | サツシ枠の建付装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6261349A (ja) | 1987-03-18 |
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