JPH047554Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH047554Y2 JPH047554Y2 JP19551486U JP19551486U JPH047554Y2 JP H047554 Y2 JPH047554 Y2 JP H047554Y2 JP 19551486 U JP19551486 U JP 19551486U JP 19551486 U JP19551486 U JP 19551486U JP H047554 Y2 JPH047554 Y2 JP H047554Y2
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- JP
- Japan
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- reservoir
- reflector
- liquid metal
- heat
- ion source
- Prior art date
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- Expired
Links
- 229910001338 liquidmetal Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims description 7
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 claims description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この考案は、イオンビーム装置に用いられる液
体金属イオン源のリフレクター構造に関する。
体金属イオン源のリフレクター構造に関する。
本考案は、液体金属のイオン源の熱効率向上を
目的としたリフレクター構造において、リザーバ
ーの上部、下部及び碍子の外周の三体リフレクタ
ー構造にする事により、液体金属イオン源本体が
短時間で熱的平衡に達し、又熱変化にともなう形
状変形によるイオン発生点の変位を最小限に押さ
えるようにした。
目的としたリフレクター構造において、リザーバ
ーの上部、下部及び碍子の外周の三体リフレクタ
ー構造にする事により、液体金属イオン源本体が
短時間で熱的平衡に達し、又熱変化にともなう形
状変形によるイオン発生点の変位を最小限に押さ
えるようにした。
第５図に示す通り、従来の液体金属イオン源
は、コイル状フイラメントに直接液体金属を付着
させ、フイラメントの発熱で液体金属を加熱する
もの、またリザーバーをフイラメントで支持し、
フイラメントの熱をリザーバーに伝えて加熱する
ものがある。
は、コイル状フイラメントに直接液体金属を付着
させ、フイラメントの発熱で液体金属を加熱する
もの、またリザーバーをフイラメントで支持し、
フイラメントの熱をリザーバーに伝えて加熱する
ものがある。
しかし、従来のものはヒータ点燈後、イオン源
全体が均一な温度になるまで長時間を要してい
る。これはヒーターの熱が外部へ逃げて、イオン
源そのものを効果的に熱していないことによる。
このような液体金属イオン源は、熱的平衡に達す
るまでの間、イオン発生点が構造物の熱変形にと
もなつて、変化する欠点をもつている。又、その
ほとんどがヒーターがリザーバーを保持する形状
であるため、ヒーターの熱変形によるリザーバー
の動きがあり、イオン発生点が定まらないという
欠点を持つていた。
全体が均一な温度になるまで長時間を要してい
る。これはヒーターの熱が外部へ逃げて、イオン
源そのものを効果的に熱していないことによる。
このような液体金属イオン源は、熱的平衡に達す
るまでの間、イオン発生点が構造物の熱変形にと
もなつて、変化する欠点をもつている。又、その
ほとんどがヒーターがリザーバーを保持する形状
であるため、ヒーターの熱変形によるリザーバー
の動きがあり、イオン発生点が定まらないという
欠点を持つていた。
〔問題点を解決するための手段〕
上記問題点を解決するために、本考案は液体金
属イオン源のリザーバーを２重に囲むようにした
３体構造のリフレクターを配設する事により、熱
的平衡を短時間に得る事が出来、イオン発生点の
変位を最小限に押さえるようにした。
属イオン源のリザーバーを２重に囲むようにした
３体構造のリフレクターを配設する事により、熱
的平衡を短時間に得る事が出来、イオン発生点の
変位を最小限に押さえるようにした。
上記のように、リフレクターを３体構造にする
事により、リザーバーへの放射熱をリザーバー側
に反射するとともに、リフレクター自体に吸収し
た熱を固着部を通してリザーバーに伝えるため
に、液体金属イオン源の熱効率が良くなり、短時
間で熱的平衡に達する事が出来、イオン発生点の
変位を最小限に押さえる事が出来る。
事により、リザーバーへの放射熱をリザーバー側
に反射するとともに、リフレクター自体に吸収し
た熱を固着部を通してリザーバーに伝えるため
に、液体金属イオン源の熱効率が良くなり、短時
間で熱的平衡に達する事が出来、イオン発生点の
変位を最小限に押さえる事が出来る。
以下に、この考案の実施例を説明する。液体金
属イオン源の熱変形を最小限に押さえるには、そ
の熱容量を小さくするとともに、できるだけ短時
間で、熱的平衡に達するような構造が必要であ
る。
属イオン源の熱変形を最小限に押さえるには、そ
の熱容量を小さくするとともに、できるだけ短時
間で、熱的平衡に達するような構造が必要であ
る。
第１図に示すように、リフレクター１，２，３
によつて、リザーバー４への熱の集中を計り、短
時間で効率よく加熱する事が可能である。第１リ
フレクター１は、ヒーター５の外側への放射熱を
リザーバー４側へ反射するとともに、第１リフレ
クター１そのものが熱吸収体となつて、熱伝導に
より第１リフレクター１へ吸収した熱をリザーバ
ー４へ伝える働きをする。第２リフレクター２
は、碍子６へ放射された熱をリザーバー４側へ反
射し、又それ自身が熱を吸収し、伝導によつてリ
ザーバー４側へ熱を伝える。第３リフレクター３
は、第１リフレクター１からさらに外側への熱放
射を考慮した反射板で、トータルで液体金属イオ
ン源全体の熱分布を一様にしている。又第１、第
２リフレクター１，２は、吸収した熱を効率よく
リザーバー４に伝えるため、第２図、第３図のよ
うにリザーバー４、支持棒７にカシメ固着されて
おり、抵抗溶接などと比較して面接触のため、熱
伝導が極めて良好である。
によつて、リザーバー４への熱の集中を計り、短
時間で効率よく加熱する事が可能である。第１リ
フレクター１は、ヒーター５の外側への放射熱を
リザーバー４側へ反射するとともに、第１リフレ
クター１そのものが熱吸収体となつて、熱伝導に
より第１リフレクター１へ吸収した熱をリザーバ
ー４へ伝える働きをする。第２リフレクター２
は、碍子６へ放射された熱をリザーバー４側へ反
射し、又それ自身が熱を吸収し、伝導によつてリ
ザーバー４側へ熱を伝える。第３リフレクター３
は、第１リフレクター１からさらに外側への熱放
射を考慮した反射板で、トータルで液体金属イオ
ン源全体の熱分布を一様にしている。又第１、第
２リフレクター１，２は、吸収した熱を効率よく
リザーバー４に伝えるため、第２図、第３図のよ
うにリザーバー４、支持棒７にカシメ固着されて
おり、抵抗溶接などと比較して面接触のため、熱
伝導が極めて良好である。
従来、外部へ逃げていた熱を十分にリザーバー
にもどすことで、ヒーター電力の大幅削減が可能
となつた。又液体金属イオン源全体の熱平衡に達
する時間が短くなり、ヒーター点燈後の立上げ時
間が大幅に改善する事が出来た。
にもどすことで、ヒーター電力の大幅削減が可能
となつた。又液体金属イオン源全体の熱平衡に達
する時間が短くなり、ヒーター点燈後の立上げ時
間が大幅に改善する事が出来た。
第１図は本考案にかかわる液体金属イオン源の
断面図、第２図は本考案の平面図、第３図、第４
図はリフレクターの取付けカシメ固定図、第５図
ａ，ｂは従来例の断面図。 １……第１リフレクター、２……第２リフレク
ター、３……第３リフレクター、４……リザーバ
ー、５……ヒーター、６……碍子、７……支持
棒。
断面図、第２図は本考案の平面図、第３図、第４
図はリフレクターの取付けカシメ固定図、第５図
ａ，ｂは従来例の断面図。 １……第１リフレクター、２……第２リフレク
ター、３……第３リフレクター、４……リザーバ
ー、５……ヒーター、６……碍子、７……支持
棒。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 イオンビーム装置に用いられる液体金属イオン
源において、 液体金属を保持するリザーバーと、 前記リザーバーを端部にて支持し、他端部にて
碍子に取り付けられた支持棒と、 前記リザーバの外周に配設されたヒータと、 前記リザーバーの下部に取り付けられ前記リザ
ーバーと前記ヒータをＵの字型に取り囲む第１リ
フレクターと、 前記碍子と前記リザーバーとの間で前記支持棒
に水平に取り付けられた第２リフレクターと、 前記第１リフレクターを外周から取り囲むよう
に前記碍子の外周に取り付けられた第３リフレク
ターとから構成されていることを特徴とする液体
金属イオン源のリフレクター構造。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19551486U JPH047554Y2 (ja) | 1986-12-19 | 1986-12-19 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19551486U JPH047554Y2 (ja) | 1986-12-19 | 1986-12-19 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6399743U JPS6399743U (ja) | 1988-06-28 |
| JPH047554Y2 true JPH047554Y2 (ja) | 1992-02-27 |
Family
ID=31153475
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19551486U Expired JPH047554Y2 (ja) | 1986-12-19 | 1986-12-19 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH047554Y2 (ja) |
-
1986
- 1986-12-19 JP JP19551486U patent/JPH047554Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6399743U (ja) | 1988-06-28 |
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