JPH0474276A - 集積回路のマスクパターン設計方式 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、集積回路マスクパターン設計方式に関し、特
に直交座標系で構成されるマスクパターンの容量値算出
方式に関する。

〔従来の技術〕

従来、直交座標系で構成されるマスクパターンから容量
値を算出する場合、第４図の平面図に示ず様に、マスク
パターン１の連続する頂点のうち対角をなす頂点である
頂点Ａと頂点Ｃの組、もしくは頂点Ｂと頂点りの組とい
う２頂点座標から周囲長と面積を算出し、その容量値を
算出する方式％式％ 第３図はこのマスクパターンの容量を計算する場合のフ
ロー図である。

まず、ステップ１１でマスクパターンを読込む、次にス
テップ１２ａで左下、右上の頂点座標を抽出して、ステ
ップ３１でこれら頂点のＸ座標の差からその長さを求め
、次のステップ３２で左下１右上の頂点のＹ座標の差か
らその幅を求めている。さらに、ステップ３３でこれら
の和の２倍をとって周囲長を求め、ステップ３４でこれ
らの長さと幅とを掛けて面積を求め、ステップ３５でこ
れら周囲長と面積とからその容量値を計算するようにし
ている。

第４図の場合、マスクバター１の頂点Ａと頂点Ｃの組を
利用する場合、これら頂点Ａと頂点Ｃの座標をそれぞれ
（ＸＡ　、ｙＡ）、（ｘｃ、ｙｃ）と定義すれば、その
周囲長は２×（１（ｘＡｘｃ）Ｉ＋Ｉ　（３／Ａ　　ｙ
ｃ）ＩＩによって算出でき、またその面積は（１（ｘＡ
　ｘｃ）ＩＸ（ｙＡ−ｙｃ）ｌ）によって算出され、こ
れらデータからマスクパターンの容量値を算出している
。

〔発明が解決しようとする課題〕

上述した従来の直交座標系で構成されるマスクパターン
の容量値算出方式は、容量値算出を行うべき対象のマス
クパターンの連続する頂点のうち対角をなす頂点の頂点
座標から前記マスクパターンの周囲長と面積を算出して
その容量値を算出するため、容量値算出可能なマスクパ
ターンの形状は四角形に限定されてしまう問題がある。

この容量値算出を行なうべきマスクパターンの形状が多
角形の場合には、マスクパターンの設計段階で、第５図
に示す様に前述のマスクパターン１に直接マスクパター
ンとしては意味のないダミー層２を付加し、マスクパタ
ーンを擬似的に四角形の集合として表現する必要があり
、そのタミー層２が抜けた場合には容量値の算出ができ
なくなるという欠点がある。

本発明の目的は、このような欠点を除き、マスクパター
ンの容量値の算出を確実に実施できるようにした集積回
路のマスクパターン設計方式を提供することにある。

〔課題を解決するための手段〕

本発明の構成は、集積回路内で直交座標系で構成される
マスクパターンからその容量値を算出する集積回路のマ
スクパターン設計方式において、前記マスクパターンの
連続する頂点座標を線分のセグメントに変換しその周囲
長を算出する第１のステップと、前記線分のセグメント
から面積を算出する第２のステップと、これら算出され
た周囲長と面積とから容量値を算出する第３のステップ
とを含んでマスクパターンの容量値を求めることを特徴
とする。

〔実施例〕

次に本発明について図面を用いて説明する。

第１図は本発明の一実施例を説明するフローチャート、
第２図は第１図におけるマスクパターンをセグメント変
換した一例の平面座標図である。

第１図に示す様に、この例では、先ずステップ１１で直
交座標系で構成されるマスクパターンを読込み、ステッ
プ１２で連続する２つの頂点を抽出する。ここで抽出で
きたか否かをステップ１３で判定し、抽出できた場合、
ステップ１４に進み、抽出できなければステップ２０に
進む。次に、ステップ１４でＸ、Ｙに分けてセグメント
に変換し、ステップ１５〜１つで各長さを加算すること
でそのマスクパターンの周囲長を算出している。さらに
、ステップ１４でＹ軸に平行となり得るセグメントは、
ステップ１７．１８で連続する２つの頂点のＹ座標の大
小によって右セグメント（第２図■〜■）、左セグメン
ト（第２図ａ〜ｄ）に分けてコンピュータのメモリ上に
ストアされる。

次に、ステップ２４で右セグメントの対になる左セグメ
ントを検索しマスクパターンの面積を算出し、ステップ
２５で面積の総和を求め、ステップ２６で容量値が（周
面長Ｘ単位周囲長あたりの容量値）＋（面積Ｘ単位面積
当たりの容量値）によって算出する。

マスクパターンの面積算出を、第２図を用いて具体的に
説明する。

（１）右セグメント■に対する左セグメントを検索する
と、左セグメントａｇが見つかる。この左セグメントａ
。の方が右セグメント■より長いので、左セグメントａ
Ｑについて右セグメント■との重なり部を左セグメント
ａｌ、残りを左セグメントａ２に分ける。この右セグメ
ント■と左セグメントａ１とから面積（１）を算出する
。この左セグメントａ１が二度選ばれない様に目印を付
ける。

（２）右セグメント■に対する左セグメントを検索する
と左セグメントａ２が見つかる。左セグメントａ２の方
が右セグメント■より長いので、右セグメントａ２につ
いて右セグメント■との重なり部を左セグメントａ３、
残りを左セグメントａ４に分ける。これら右セグメント
■と左セグメン）ａ３から面積（２）を算出する。この
左セグメン）ａ３が二層選ばれない様に目印を付ける。

（３）右セグメント■に対する左セグメントを検索する
と左セグメントｃｏが見つかる。この右セグメント■の
方が左セグメントｃｏより長いので右セグメント■につ
いて左セグメントＣ８どの重なり部を右セグメント■１
、残りを右セグメント■２に分ける。左セグメントｃｏ
と前記右セグメント■１とから面積（３）を算出する。

この左セグメントＣが二層選ばれない様に目印を付ける
。次に右セグメント■２に対する左セグメントを検索す
ると、左セグメントｄｏが見つかる。右セグメント■２
と左セグメントｄ。とがら面積（４）を算出する。この
左セグメントｄｏが二層選ばれない様に目印を付ける。

（４）右セグメント■に対する左セグメントを検索する
と左セグメントｂｏが見つかる。この右セグメント■の
方が左セグメントｂｏより長いので、右セグメント■に
ついて左セグメントｂｏとの重なり部を右セグメント■
１残りを右セグメント■２に分ける。左セグメントｂｏ
と右セグメント■１から面積（５）を算出する。左セグ
メントｂｏが二層選ばれない様に目印を付ける。次に、
右セグメント■２に対する左セグメントを検索すると、
左セグメントａ４が見つかる。この左セグメント■２と
左セグメントａ４とから面積（６）を算出する。

以上算出した面積（１）から面積（６）を加算すること
で、マスクパターンの総面積が算出できる。

〔発明の効果〕

以上説明した様に本発明は、直交座標系で構成されるマ
スクパターンの連続する頂点座標をセグメント変換し、
その周囲長を算出し、セグメントから面積を算出するこ
とにより多角形のマスクパターンについてもマスクパタ
ーン上特に意味のなリダミー層を付加することなく容量
値の算出を行うことができるという効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を説明するフローチャート、
第２図は第１図におけるマスクパターンをセグメント変
換した一例の平面図、第３図は従来の直交座標系のマス
クパターン設計における容量値算出の場合のフローチャ
ート、第４図は一般のマスクパターンの一例の平面図、
第５図は第４図のマスクパターンにダミー層を付加した
ものの平面図である。 １・・・マスクパターン、２・・・ダミー層、１１〜２
６．３１〜３４・・・処理ステップ。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 　集積回路内で直交座標系で構成されるマスクパターン
   からその容量値を算出する集積回路のマスクパターン設
   計方式において、前記マスクパターンの連続する頂点座
   標を線分のセグメントに変換しその周囲長を算出する第
   １のステップと、前記線分のセグメントから面積を算出
   する第２のステップと、これら算出された周囲長と面積
   とから容量値を算出する第３のステップとを含んでマス
   クパターンの容量値を求めることを特徴とする集積回路
   のマスクパターン設計方式。