JPH0474187A - フタルイミド基を有するシラン - Google Patents
フタルイミド基を有するシランInfo
- Publication number
- JPH0474187A JPH0474187A JP2182568A JP18256890A JPH0474187A JP H0474187 A JPH0474187 A JP H0474187A JP 2182568 A JP2182568 A JP 2182568A JP 18256890 A JP18256890 A JP 18256890A JP H0474187 A JPH0474187 A JP H0474187A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reaction
- formula
- polyimide
- methylenepropane
- compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 9
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 3
- 125000005543 phthalimide group Chemical group 0.000 title claims description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 2
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 1
- -1 silane compound Chemical class 0.000 abstract description 15
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 14
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 13
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 abstract description 9
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 9
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 abstract description 9
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 abstract description 6
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 abstract description 6
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 abstract description 4
- 239000003446 ligand Substances 0.000 abstract description 4
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 abstract description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 abstract 1
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 5
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 5
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 5
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- DRUOQOFQRYFQGB-UHFFFAOYSA-N ethoxy(dimethyl)silicon Chemical compound CCO[Si](C)C DRUOQOFQRYFQGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 238000004811 liquid chromatography Methods 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- PKTOVQRKCNPVKY-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(methyl)silicon Chemical compound CO[Si](C)OC PKTOVQRKCNPVKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWZWQSKCVXIXQJ-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichloro-2-methylprop-1-ene Chemical compound ClCC(C)=CCl ZWZWQSKCVXIXQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000022 2-aminoethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])N([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001731 2-cyanoethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C([H])([H])C#N 0.000 description 1
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N chloro(dimethyl)silicon Chemical compound C[Si](C)Cl QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 description 1
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002933 cyclohexyloxy group Chemical group C1(CCCCC1)O* 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000011033 desalting Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- PFMKUUJQLUQKHT-UHFFFAOYSA-N dichloro(ethyl)silicon Chemical compound CC[Si](Cl)Cl PFMKUUJQLUQKHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N dichloro(methyl)silicon Chemical compound C[Si](Cl)Cl KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WEAFESPXUBTSGL-UHFFFAOYSA-N diethyl(hydroxy)silane Chemical compound CC[SiH](O)CC WEAFESPXUBTSGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- LFEMHZIYNMLNEB-UHFFFAOYSA-N hydroxy-methyl-phenylsilane Chemical compound C[SiH](O)C1=CC=CC=C1 LFEMHZIYNMLNEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003949 imides Chemical group 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 239000005048 methyldichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N n-(3-trimethoxysilylpropyl)aniline Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC1=CC=CC=C1 KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- FYRHIOVKTDQVFC-UHFFFAOYSA-M potassium phthalimide Chemical compound [K+].C1=CC=C2C(=O)[N-]C(=O)C2=C1 FYRHIOVKTDQVFC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- IBOKZQNMFSHYNQ-UHFFFAOYSA-N tribromosilane Chemical compound Br[SiH](Br)Br IBOKZQNMFSHYNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N triethoxysilane Chemical compound CCO[SiH](OCC)OCC QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的]
(産業上の利用分野)
本発明は、ポリイミドなどの接着性の向上に有用である
フタルイミド基を有する新規なシランに関する。
フタルイミド基を有する新規なシランに関する。
(従来の技術)
従来、ポリイミド用の接着向上剤としてはN−フェニル
−3−アミノプロピルトリメトキシシランがよく知られ
ている。
−3−アミノプロピルトリメトキシシランがよく知られ
ている。
(発明が解決しようとする課題)
しかしながら、このものは耐熱性がポリイミドに比べて
悪く、またポリイミドとの相渚性があまり良くないなど
の問題点がある。
悪く、またポリイミドとの相渚性があまり良くないなど
の問題点がある。
本発明の目的は、このような問題点を解消して、ポリイ
ミドなどとの接着性の向上に極めて有用な新規な有機ケ
イ素化合物を提供することである。
ミドなどとの接着性の向上に極めて有用な新規な有機ケ
イ素化合物を提供することである。
[発明の構成]
(課題を解決するための手段)
本発明は、一般式
(式中、Rは各々水素原子又は置換若しくは非置換の1
価の炭化水素基を表し、Yは各々加水分解性基を表し、
nは1〜3の整数を表す)で小されるフタルイミド基を
有するシランである。
価の炭化水素基を表し、Yは各々加水分解性基を表し、
nは1〜3の整数を表す)で小されるフタルイミド基を
有するシランである。
本発明の化合物(I)において、Rの置換若しくは非置
換の1価の炭化水素基の例としては、メチル、エチル、
プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オ
クチル、ノニル、デシル、ドデシルのようなアルキル基
、シクロペンチル、シクロヘキシルのようなシクロアル
キル基、2−フェニルエチル、2−フェニルプロピルの
ようなアラルキル基:フェニル、トリルのようなアリー
ル基、ビニル、アリルのようなアルケニル基、及びこれ
らの炭化水素にハロゲン原子、アミン基、シアン基など
が置換したクロルメチル、クロルフェニル、3.3.3
−1−リフルオロプロピル、2−アミノエチル、2−シ
アンエチルのような置換炭化水素基が挙げられる。これ
らの中でも、原料の入手及び合成が容易なことがら炭素
数1〜4の飽和炭化水素基、とりわけメチル基が好まし
く/へ〇 本発明の化合物(1)において、Yは加水分解性基であ
り、例えばメトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、1−
プロポキシ、メトキシエトキシ、n−ブトキシ、5ec
−ブトキシ、i−ブトキシt−ブトキシ、シクロへキシ
ルオキシのようなアルコキシ基、塩素、臭素のようなハ
ロゲン原子及び水酸基などが挙げられる。これらの中で
も、合成の容易さ、安定性、適度な反応性などの観点か
らエトキシ基、メトキシ基が特に好ましい。
換の1価の炭化水素基の例としては、メチル、エチル、
プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オ
クチル、ノニル、デシル、ドデシルのようなアルキル基
、シクロペンチル、シクロヘキシルのようなシクロアル
キル基、2−フェニルエチル、2−フェニルプロピルの
ようなアラルキル基:フェニル、トリルのようなアリー
ル基、ビニル、アリルのようなアルケニル基、及びこれ
らの炭化水素にハロゲン原子、アミン基、シアン基など
が置換したクロルメチル、クロルフェニル、3.3.3
−1−リフルオロプロピル、2−アミノエチル、2−シ
アンエチルのような置換炭化水素基が挙げられる。これ
らの中でも、原料の入手及び合成が容易なことがら炭素
数1〜4の飽和炭化水素基、とりわけメチル基が好まし
く/へ〇 本発明の化合物(1)において、Yは加水分解性基であ
り、例えばメトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、1−
プロポキシ、メトキシエトキシ、n−ブトキシ、5ec
−ブトキシ、i−ブトキシt−ブトキシ、シクロへキシ
ルオキシのようなアルコキシ基、塩素、臭素のようなハ
ロゲン原子及び水酸基などが挙げられる。これらの中で
も、合成の容易さ、安定性、適度な反応性などの観点か
らエトキシ基、メトキシ基が特に好ましい。
本発明の化合物(I)の製法の一例を以下に説明する。
即ち、反応式(1)に示すように、1,3−シフタルイ
ミド−2−メチレンプロパン(II)とシラン化合物(
III)とを付加反応させて、本発明の化合物(I)を
製造することができる。
ミド−2−メチレンプロパン(II)とシラン化合物(
III)とを付加反応させて、本発明の化合物(I)を
製造することができる。
(II)
(I[[)
(式中、R,Y及びnは前記と同じである)原料として
使用する1、3−シフタルイミド−2−メチレンプロパ
ン(If)は公知物質であり、3−クロル−2−クロル
メチルプロペンとフタルイミドカリウムをジメチルホル
ムアミド溶媒中で脱塩反応させる方法で得られる[K、
5chulzeG、Winkler、 W、 Die
trich、 M、 Muhistadt : JPr
akt、 Chem、、 319(31,463−47
4f1977) ] 。
使用する1、3−シフタルイミド−2−メチレンプロパ
ン(If)は公知物質であり、3−クロル−2−クロル
メチルプロペンとフタルイミドカリウムをジメチルホル
ムアミド溶媒中で脱塩反応させる方法で得られる[K、
5chulzeG、Winkler、 W、 Die
trich、 M、 Muhistadt : JPr
akt、 Chem、、 319(31,463−47
4f1977) ] 。
また、原料として使用するシラン化合物(III)も公
知物質であり、例えばトリメトキシシラン、トリエトキ
シシラン、メチルジメトキシシラン、ジメチルエトキシ
シランのようなモノハイドロジエンアルコキシシラン、
ジエチルシラノール、メチルフェニルシラノールのよう
なモノハイドロジエンシラノール:及びトリクロロシラ
ン、トリブロモシラン、メチルジクロロシラン、ジメチ
ルクロロシラン、エチルジクロロシランのようなモノハ
イドロジエンハロゲノシラン等が挙げられる。これらの
中でも、原料の入手、合成の容易さ、反応性などの点で
ジメチルエトキシシラン、メチルジメトキシシラン、ト
リメトキシシランが特に好ましい。
知物質であり、例えばトリメトキシシラン、トリエトキ
シシラン、メチルジメトキシシラン、ジメチルエトキシ
シランのようなモノハイドロジエンアルコキシシラン、
ジエチルシラノール、メチルフェニルシラノールのよう
なモノハイドロジエンシラノール:及びトリクロロシラ
ン、トリブロモシラン、メチルジクロロシラン、ジメチ
ルクロロシラン、エチルジクロロシランのようなモノハ
イドロジエンハロゲノシラン等が挙げられる。これらの
中でも、原料の入手、合成の容易さ、反応性などの点で
ジメチルエトキシシラン、メチルジメトキシシラン、ト
リメトキシシランが特に好ましい。
付加反応(1)において、1.3−シフタルイミド−2
、−メチレンプロパン(II)とシラン化合物(tn)
との使用割合は特に限定されるものではない。しかしな
がら、短い反応時間で良好な収率を挙げるためには、1
.3−シフタルイミド−2−メチレンプロパン(II
)に対して化学量論的使用量以上のシラン化合物(II
I)を使用し反応させることが好ましい。
、−メチレンプロパン(II)とシラン化合物(tn)
との使用割合は特に限定されるものではない。しかしな
がら、短い反応時間で良好な収率を挙げるためには、1
.3−シフタルイミド−2−メチレンプロパン(II
)に対して化学量論的使用量以上のシラン化合物(II
I)を使用し反応させることが好ましい。
この付加反応(1)の触媒としては、才レフィン系化合
物をリガンドとする白金錯体が好ましく、中でも1.3
.5.7−ケトンビニルー1.3.5.7−チトラメチ
ルシクロテトラシロキサンをリガンドとする白金錯体が
特に好ましい。白金錯体の使用量は特に限定されないが
、1.3−シフクルイミド−2−メチレンプロパン(I
I )の使用量に対して白金原子として10〜2000
ppm未満の範囲が好ましい。10ppm未満では反応
が遅く、短時間に良好な収率を挙げることができない。
物をリガンドとする白金錯体が好ましく、中でも1.3
.5.7−ケトンビニルー1.3.5.7−チトラメチ
ルシクロテトラシロキサンをリガンドとする白金錯体が
特に好ましい。白金錯体の使用量は特に限定されないが
、1.3−シフクルイミド−2−メチレンプロパン(I
I )の使用量に対して白金原子として10〜2000
ppm未満の範囲が好ましい。10ppm未満では反応
が遅く、短時間に良好な収率を挙げることができない。
また、2000 ppm以上用いても特に加えただけの
効果はない。
効果はない。
付加反応(1)において、有機溶媒の使用は必須とする
ものではないが、1.3−シフクルイミド−2−メチレ
ンプロパン(II )が固体(融点227〜228℃)
であるため、これを溶解させる有機溶媒を使用すること
が、反応制御上好ましい。このような有機溶媒の例とし
ては、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭
化水素:クロロホルム、1,2−ジクロルエタンのよう
なハロゲン化炭化水素、メチルエチルケトンのようなケ
トン、及びジブチルエーテルのようなエーテルなどが挙
げられる。これらの有機温媒:ユ単独でも又は2種類以
上を混合して使用してもよい。有機溶媒の使用量は特に
限定されないが、反応物質の合計量に対して30−10
00重量%の範囲とすることが好ましい。
ものではないが、1.3−シフクルイミド−2−メチレ
ンプロパン(II )が固体(融点227〜228℃)
であるため、これを溶解させる有機溶媒を使用すること
が、反応制御上好ましい。このような有機溶媒の例とし
ては、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭
化水素:クロロホルム、1,2−ジクロルエタンのよう
なハロゲン化炭化水素、メチルエチルケトンのようなケ
トン、及びジブチルエーテルのようなエーテルなどが挙
げられる。これらの有機温媒:ユ単独でも又は2種類以
上を混合して使用してもよい。有機溶媒の使用量は特に
限定されないが、反応物質の合計量に対して30−10
00重量%の範囲とすることが好ましい。
付加反応(1)の具体的実施方法としては、反応容器に
1.3−シフタルイミド−2−メチレンプロパン(II
L有機溶媒及び触媒を仕込み、所定の温度に加熱して1
.3−シフタルイミド−2−メチレンプロパンB)を溶
解させた後、これにシラン化合物(III)を滴下反応
させる方法により行うことが、反応制御上好ましい。反
応温度は通常20〜200℃であり、好ましくは50〜
150℃である。反応時間は触媒使用量、反応温度、原
料モル比、反応スケールなどの反応条件によるが、通常
05〜lOO時間で充分である。
1.3−シフタルイミド−2−メチレンプロパン(II
L有機溶媒及び触媒を仕込み、所定の温度に加熱して1
.3−シフタルイミド−2−メチレンプロパンB)を溶
解させた後、これにシラン化合物(III)を滴下反応
させる方法により行うことが、反応制御上好ましい。反
応温度は通常20〜200℃であり、好ましくは50〜
150℃である。反応時間は触媒使用量、反応温度、原
料モル比、反応スケールなどの反応条件によるが、通常
05〜lOO時間で充分である。
また、反応時の圧力は特に限定されないが、通常は常圧
で行われる。
で行われる。
かくして得られた反応混合物からの本発明の化合物(I
)の単離及び精製は、有機合成化学の分野で一般に使用
されている手法によって行うことができ、例えば低沸点
成分を蒸留により除去した後、必要に応じて溶媒抽出、
再結晶、カラムクロマトグラフィーなどによる精製を行
うことによって化合物(I)が得られる。
)の単離及び精製は、有機合成化学の分野で一般に使用
されている手法によって行うことができ、例えば低沸点
成分を蒸留により除去した後、必要に応じて溶媒抽出、
再結晶、カラムクロマトグラフィーなどによる精製を行
うことによって化合物(I)が得られる。
[発明の効果]
本発明の化合物(I)は、分子内に複数のイミド構造を
有しているため、耐熱性やポリイミドとの相溶性が極め
て優れており、ポリイミドをマトリックスとする複合材
料の機械的強度、接着性及びそれらの信頼性の向上に非
常に有効である。さらに、一般の複合材料において、機
械的特性の向上、電気的特性の向上、耐水・耐湿性の向
上、作業性の改善、無機充填材の高配合による原価低減
などの効果が期待できるものである。
有しているため、耐熱性やポリイミドとの相溶性が極め
て優れており、ポリイミドをマトリックスとする複合材
料の機械的強度、接着性及びそれらの信頼性の向上に非
常に有効である。さらに、一般の複合材料において、機
械的特性の向上、電気的特性の向上、耐水・耐湿性の向
上、作業性の改善、無機充填材の高配合による原価低減
などの効果が期待できるものである。
〔実施例)
以下において、実施例を掲げ、本発明をさらに詳しく説
明する。なお、本発明の範囲はこれらの例のみに限定さ
れるものではない。
明する。なお、本発明の範囲はこれらの例のみに限定さ
れるものではない。
実施例1
2−フタルイミドメチル−3−フタルイミドプロピルジ
メチルエトキシシランの合成 撹拌機、濃度計1滴下漏斗、還流冷却器及びオイルバス
を備えた内容積500−のフラスコに、1.3−シフク
ルイミド−2−メチレンプロパン17.3g (0,0
5モル)、トルエン120g及び白金原子として0.0
1gを含む1.35.7−ケトンビニルー1.3.5.
7−チトラメチルシクロテトラシロキサンをリガンドと
する白金錯体を仕込み、撹拌を開始し、液温90 ’C
に加熱して1.3−シフタルイミド−2−メチレンプロ
パンを完全に溶解させた。
メチルエトキシシランの合成 撹拌機、濃度計1滴下漏斗、還流冷却器及びオイルバス
を備えた内容積500−のフラスコに、1.3−シフク
ルイミド−2−メチレンプロパン17.3g (0,0
5モル)、トルエン120g及び白金原子として0.0
1gを含む1.35.7−ケトンビニルー1.3.5.
7−チトラメチルシクロテトラシロキサンをリガンドと
する白金錯体を仕込み、撹拌を開始し、液温90 ’C
に加熱して1.3−シフタルイミド−2−メチレンプロ
パンを完全に溶解させた。
これに、滴下漏斗よりジメチルエトキシシラン10.4
g (0,l 0モル)及びトルエン20gからなる混
合溶液を、液温90−100’Cに保持しながら20分
かけて滴下した6滴下終了後、液温100〜110”C
で24時間加熱撹拌した。
g (0,l 0モル)及びトルエン20gからなる混
合溶液を、液温90−100’Cに保持しながら20分
かけて滴下した6滴下終了後、液温100〜110”C
で24時間加熱撹拌した。
反応容器より試料を取り出して、紫外分光光度計(波長
254nm)でモニターした液体クロマトグラフィー分
析を行い、1.3−シフタルイミド2−メチレンプロパ
ンがほぼ完全に消失していることを確認した。
254nm)でモニターした液体クロマトグラフィー分
析を行い、1.3−シフタルイミド2−メチレンプロパ
ンがほぼ完全に消失していることを確認した。
放冷後、低沸点成分を蒸留除去して濃縮することにより
、黄白色の粗結晶を得た。さらに、この粗結晶をクロロ
ホルムで再結晶したところ、白色結晶状の2−フタルイ
ミドメチル−3−フタルイミドプロピルジメチルエトキ
シシラン15.8gを得た。これは1.3−シフタルイ
ミド−2−メチレンプロパンに対して70.0%の収率
であった。
、黄白色の粗結晶を得た。さらに、この粗結晶をクロロ
ホルムで再結晶したところ、白色結晶状の2−フタルイ
ミドメチル−3−フタルイミドプロピルジメチルエトキ
シシラン15.8gを得た。これは1.3−シフタルイ
ミド−2−メチレンプロパンに対して70.0%の収率
であった。
このものの液体クロマトグラフィー分析、融点測定、赤
外線吸収スペクトル分析及び1H核磁気共鳴吸収スペク
トル分析の結果は後記の通りであり、次式の分子構造で
あることを確認した。
外線吸収スペクトル分析及び1H核磁気共鳴吸収スペク
トル分析の結果は後記の通りであり、次式の分子構造で
あることを確認した。
b
H0
e
gh
\711
H0
液体クロマトグラフィー分析
(検出モニター、紫外分光光度計、測定波長254nm
):純度950% ・融点測定二67〜69℃ ・赤外線吸収スペクトル(KBr頬):波長(am−’
) 2900〜2750 1100〜l 080 帰属 N−C0 −H C=O 1CHs S I O−CH2 345〜3,60 230〜2,65 0.45〜0.60 0.10 325〜3.55 0.70〜0.90 H H H H H H
):純度950% ・融点測定二67〜69℃ ・赤外線吸収スペクトル(KBr頬):波長(am−’
) 2900〜2750 1100〜l 080 帰属 N−C0 −H C=O 1CHs S I O−CH2 345〜3,60 230〜2,65 0.45〜0.60 0.10 325〜3.55 0.70〜0.90 H H H H H H
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、Rは各々水素原子又は置換若しくは非置換の1
価の炭化水素基を表し、Yは各々加水分解性基を表し、
nは1〜3の整数を表す)で示されるフタルイミド基を
有するシラン。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2182568A JPH0474187A (ja) | 1990-07-12 | 1990-07-12 | フタルイミド基を有するシラン |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2182568A JPH0474187A (ja) | 1990-07-12 | 1990-07-12 | フタルイミド基を有するシラン |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0474187A true JPH0474187A (ja) | 1992-03-09 |
Family
ID=16120555
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2182568A Pending JPH0474187A (ja) | 1990-07-12 | 1990-07-12 | フタルイミド基を有するシラン |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0474187A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001058909A1 (en) * | 2000-02-10 | 2001-08-16 | The Government Of The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration (Nasa) | Phenylethynyl-containing imide silanes |
WO2002062807A1 (de) * | 2001-02-06 | 2002-08-15 | Bayer Cropscience Ag | Phthalsäurediamide, ein verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung als schädlingsbekämpfungsmittel |
KR100838689B1 (ko) * | 2001-02-06 | 2008-06-16 | 바이엘 크롭사이언스 아게 | 프탈산디아미드, 그의 제조방법 및 살충제로서의 그의 용도 |
-
1990
- 1990-07-12 JP JP2182568A patent/JPH0474187A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001058909A1 (en) * | 2000-02-10 | 2001-08-16 | The Government Of The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration (Nasa) | Phenylethynyl-containing imide silanes |
WO2002062807A1 (de) * | 2001-02-06 | 2002-08-15 | Bayer Cropscience Ag | Phthalsäurediamide, ein verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung als schädlingsbekämpfungsmittel |
US6835847B2 (en) | 2001-02-06 | 2004-12-28 | Bayer Cropscience Ag | Phthalic acid diamide, method for the production thereof and the use of the same as a pesticide |
KR100838689B1 (ko) * | 2001-02-06 | 2008-06-16 | 바이엘 크롭사이언스 아게 | 프탈산디아미드, 그의 제조방법 및 살충제로서의 그의 용도 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4780556A (en) | Method for producing chlorosilanes | |
US4581461A (en) | Maleated siloxane derivatives | |
US5272243A (en) | Organosilicon compounds and method for preparing same | |
KR20000052531A (ko) | 규소에 결합된 1개의 수소원자를 가지는 유기규소 엔드캡퍼 | |
JP4793547B2 (ja) | オルガノシロキサンが結合したイミドの製造方法、及びオルガノシロキサンが結合したアミド酸トリオルガノシリルエステルとその製造方法 | |
JP2000191670A (ja) | 一つの珪素結合水素原子を有する環式有機珪素末端封鎖化合物 | |
JP2530391B2 (ja) | 立体的に遮蔽されたアミノヒドロカルビルシラン類および製造方法 | |
JP4332708B2 (ja) | ビスシリルアミノ基を有するクロロシラン化合物及びその製造方法、並びにビスシリルアミノ基を有するオルガノオキシシラン化合物の製造方法 | |
US4602094A (en) | Process for preparing amidosilanes and amidosiloxanes | |
JPH0474187A (ja) | フタルイミド基を有するシラン | |
JPH0371436B2 (ja) | ||
EP1149837A2 (en) | Organosilicon compounds | |
JP2932143B2 (ja) | ポリシランの製造方法 | |
JP3915883B2 (ja) | 有機ケイ素化合物 | |
US5359114A (en) | Silane compound and processes for the preparation thereof | |
Wengrovius et al. | Synthesis of [(Trialkoxysilyl) propyl] imides | |
JP5886876B2 (ja) | 新規な(トリオルガノシリル)アルキン及びその誘導体、並びに、新規な及び慣用の置換(トリオルガノシリル)アルキンと、その誘導体を得るための新規な触媒法 | |
JPS63107943A (ja) | 芳香族イミドのシリル化法および生成したシリルイミド | |
JP5052209B2 (ja) | 新規エポキシ化合物とその製造方法 | |
JPH07126272A (ja) | 有機ケイ素化合物及びその製造方法 | |
JPS61221190A (ja) | チツ素含有有機ケイ素化合物 | |
JP3385355B2 (ja) | テトラキス(ジアルコキシシリル)ベンゼンとその製造方法 | |
JP2805998B2 (ja) | 酸無水物基含有シラン化合物及びその製造方法 | |
JP3564530B2 (ja) | テトラキス(ジアリールシリル)ベンゼンの製造方法 | |
JPH04149185A (ja) | 不飽和有機ケイ素化合物 |