JPH0470335B2 - - Google Patents

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JPH0470335B2
JPH0470335B2 JP61221520A JP22152086A JPH0470335B2 JP H0470335 B2 JPH0470335 B2 JP H0470335B2 JP 61221520 A JP61221520 A JP 61221520A JP 22152086 A JP22152086 A JP 22152086A JP H0470335 B2 JPH0470335 B2 JP H0470335B2
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methyltrialkoxysilane
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008147072A1 (en) 2007-05-28 2008-12-04 Kolon Industries, Inc. Polyalkylsilsesquioxane particulates and a preparation method thereof

Families Citing this family (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0618879B2 (ja) * 1988-02-26 1994-03-16 東芝シリコーン株式会社 ポリオルガノシルセスキオキサン微粒子
JP2562656B2 (ja) * 1988-04-14 1996-12-11 日本化学工業株式会社 化粧料
JP2532124B2 (ja) * 1988-04-19 1996-09-11 東芝シリコーン株式会社 海棲生物付着防止剤
JP2607118B2 (ja) * 1988-04-19 1997-05-07 日本化学工業株式会社 球状有機珪酸および球状シリカ粉末の製造法
JPH0725727A (ja) * 1993-07-12 1995-01-27 Toshiba Silicone Co Ltd 複合球状粉体およびそれを含む化粧料
US5683501A (en) * 1993-11-09 1997-11-04 Nippon Shokubai Co., Ltd. Compound fine particles and composition for forming film
JP3970453B2 (ja) * 1998-12-14 2007-09-05 モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社 シリコーン微粒子の製造方法
JP3970449B2 (ja) * 1998-12-21 2007-09-05 モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社 球状ポリメチルシルセスキオキサン微粒子の製造方法
JP2003002973A (ja) * 2001-04-18 2003-01-08 Ge Toshiba Silicones Co Ltd 球状シリコーン微粒子の製造方法
JP2003183395A (ja) * 2001-12-21 2003-07-03 Ge Toshiba Silicones Co Ltd 球状シリコーン微粒子の製造方法
DE10320318A1 (de) 2003-05-06 2004-12-02 Röhm GmbH & Co. KG Verfahren zur Herstellung von lichtstreuenden Formteilen mit hervorragenden optischen Eigenschaften
DE10336130A1 (de) 2003-08-04 2005-02-24 Röhm GmbH & Co. KG Streuscheibe für LCD-Anwendungen, Verfahren zu deren Herstellung und Verwendung
DE10336129A1 (de) 2003-08-04 2005-02-24 Röhm GmbH & Co. KG Kratzunempfindlicher Rückprojektionsschirm und Verfahren zu dessen Herstellung
JP4883967B2 (ja) * 2005-09-26 2012-02-22 日揮触媒化成株式会社 多孔質シリカ系粒子の製造方法および該方法から得られる多孔質シリカ系粒子
KR100756676B1 (ko) * 2006-11-23 2007-09-07 제일모직주식회사 실리콘계 미립자, 그 제조 방법, 및 그 미립자가 함유된열가소성 수지 조성물
JP5273941B2 (ja) * 2007-04-24 2013-08-28 コルコート株式会社 ポリヘドラルシルセスキオキサンの製造方法
JP4936563B2 (ja) * 2008-11-26 2012-05-23 竹本油脂株式会社 高分子材料用表面改質剤
JP5582734B2 (ja) * 2009-06-26 2014-09-03 日揮触媒化成株式会社 ポリオルガノシロキサン粒子の製造方法
EP2311844A1 (en) * 2009-10-15 2011-04-20 Interquim, S.A. Silyl polymeric benzoic acid ester compounds, uses, and compositions thereof
KR101713087B1 (ko) 2010-02-19 2017-03-07 도레이 카부시키가이샤 형광체 함유 실리콘 경화물, 그 제조 방법, 형광체 함유 실리콘 조성물, 그 조성물 전구체, 시트상 성형물, led 패키지, 발광 장치 및 led 실장 기판의 제조 방법
MY175544A (en) 2010-12-13 2020-07-01 Toray Industries Phosphor sheet, led and light emitting device using the same and method for manufacturing led
DE102012216081A1 (de) 2012-09-11 2013-03-14 Evonik Industries Ag Verfahren zur Herstellung von lichtstreuenden Formteilen mit hervorragenden optischen Eigenschaften und deren Verwendung
JP5804568B2 (ja) 2012-09-27 2015-11-04 信越化学工業株式会社 シリコーンミスト抑制剤
KR101932982B1 (ko) 2012-10-25 2018-12-27 도레이 카부시키가이샤 형광체 함유 수지 시트 및 발광 장치
WO2014106768A1 (en) 2013-01-03 2014-07-10 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Hydrophilized silicone particles and making method

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6013813A (ja) * 1983-07-05 1985-01-24 Toshiba Silicone Co Ltd ポリメチルシルセスキオキサンの製造方法
JPS61108628A (ja) * 1984-11-01 1986-05-27 Fujitsu Ltd 低級アルキルポリシルセスキオキサンの製法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6013813A (ja) * 1983-07-05 1985-01-24 Toshiba Silicone Co Ltd ポリメチルシルセスキオキサンの製造方法
JPS61108628A (ja) * 1984-11-01 1986-05-27 Fujitsu Ltd 低級アルキルポリシルセスキオキサンの製法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008147072A1 (en) 2007-05-28 2008-12-04 Kolon Industries, Inc. Polyalkylsilsesquioxane particulates and a preparation method thereof

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JPS6377940A (ja) 1988-04-08

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