JPH0469893A - 半導体記憶装置 - Google Patents
半導体記憶装置Info
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- JPH0469893A JPH0469893A JP2181284A JP18128490A JPH0469893A JP H0469893 A JPH0469893 A JP H0469893A JP 2181284 A JP2181284 A JP 2181284A JP 18128490 A JP18128490 A JP 18128490A JP H0469893 A JPH0469893 A JP H0469893A
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- signal
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Links
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、半導体記憶装置に関し、例えば高速動作の
スタティック型RAM (ランダム・アクセス・メモリ
)に利用して有効な技術に関するものである。
スタティック型RAM (ランダム・アクセス・メモリ
)に利用して有効な技術に関するものである。
スタティック型RAMの書き込み動作においては、第4
図の動作波形図に示すように書き込み制御信号WEある
いは書き込み制御信号から発生されたパルス信号WEP
と、書き込みデータDinとの論理積をとった信号を書
き込みパルス信号WPWPとして用いるものである。こ
のような書き込み動作を行うスタティック型RAMの例
としては、例えば特開昭56−34186号公報がある
。
図の動作波形図に示すように書き込み制御信号WEある
いは書き込み制御信号から発生されたパルス信号WEP
と、書き込みデータDinとの論理積をとった信号を書
き込みパルス信号WPWPとして用いるものである。こ
のような書き込み動作を行うスタティック型RAMの例
としては、例えば特開昭56−34186号公報がある
。
上記のような書き込み方式においては、アクセス時間の
高速化のためにデコーダ回路の高速化を進めていくと、
2書き込み回路のスビー[′がこれに追従できなくなり
、書き込み終r後のアlレス保持時間(tWlりを1−
分長く確保し、 f、; iすればならな(なり、アク
セス時間の高速化(短縮化)には限界があるとい・う問
題の生じるご、とが本願発明打等の検17i1によって
明らかにされた。
高速化のためにデコーダ回路の高速化を進めていくと、
2書き込み回路のスビー[′がこれに追従できなくなり
、書き込み終r後のアlレス保持時間(tWlりを1−
分長く確保し、 f、; iすればならな(なり、アク
セス時間の高速化(短縮化)には限界があるとい・う問
題の生じるご、とが本願発明打等の検17i1によって
明らかにされた。
また、21′導体記俯装置の内部で書き込みパルスを発
生ずる方式では、書き込み制御信号に対して書き込めデ
ータネ同朋的に人力さ−せなければならないため、書き
込み制御化−″1Jと書き込みデータとが41同jlJ
lで入力される非同期式のスタティック型RAMにはそ
のまま適用できない。
生ずる方式では、書き込み制御信号に対して書き込めデ
ータネ同朋的に人力さ−せなければならないため、書き
込み制御化−″1Jと書き込みデータとが41同jlJ
lで入力される非同期式のスタティック型RAMにはそ
のまま適用できない。
この発明のR1的は、書き込み制御信号と書き込みデー
タとが非同期で入力されるものでも、゛)′クセス時間
の高速化を実現した半導体記憶装置を提供することにあ
る。
タとが非同期で入力されるものでも、゛)′クセス時間
の高速化を実現した半導体記憶装置を提供することにあ
る。
この発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴は
、本明細書の記述および添伺図面から明らかになるであ
ろう。
、本明細書の記述および添伺図面から明らかになるであ
ろう。
[課題を解決するための手段]
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
4節用に説明すれば、F記の通りである。
4節用に説明すれば、F記の通りである。
すなわち、書き込み動作4指示する制御信号と書き込み
データとの論理積他層4形成し、この論理積信号のフロ
ント側変化タイミングを基準に[7て一定のパルス幅の
店き込みパルス信号を形成覆る。
データとの論理積他層4形成し、この論理積信号のフロ
ント側変化タイミングを基準に[7て一定のパルス幅の
店き込みパルス信号を形成覆る。
1−記した手段によれば、書き込み動作を指示する制御
信号とφ;き込みデータとの論理積信号のフロント側変
化タイミングを基準にして一;き込み動作時間を設定j
ることにより、ライ)−サイクルの高速化が可能になる
。
信号とφ;き込みデータとの論理積信号のフロント側変
化タイミングを基準にして一;き込み動作時間を設定j
ることにより、ライ)−サイクルの高速化が可能になる
。
(実施例〕
第2図には、この発明に係るスタティック型RAMの一
実施例の要部回路図が示されている。同図のRAMは、
公知のCMO5集積回路技術によって、1個の単結晶シ
リコンのような半導体基板上に形成される。
実施例の要部回路図が示されている。同図のRAMは、
公知のCMO5集積回路技術によって、1個の単結晶シ
リコンのような半導体基板上に形成される。
特に制限されないが、集積回路は、単結晶N型シリコン
からなる半導体基板に形成される。■)チャンネルMO
5FETは、かかる半導体基板表面に形成されたソース
領域、ドレイン領域及びソース領域とトレインM域との
間の半導体基板表面に薄い厚さのゲート絶縁11りを介
して形成されたポリシリコンからなるようなゲート電極
から構成される。NチャンネルMOS F ETは、上
記半導体基板表面に形成されたP型ウェル領域に形成さ
れる。
からなる半導体基板に形成される。■)チャンネルMO
5FETは、かかる半導体基板表面に形成されたソース
領域、ドレイン領域及びソース領域とトレインM域との
間の半導体基板表面に薄い厚さのゲート絶縁11りを介
して形成されたポリシリコンからなるようなゲート電極
から構成される。NチャンネルMOS F ETは、上
記半導体基板表面に形成されたP型ウェル領域に形成さ
れる。
これによって、半導体基板は、その士に形成された複数
の1)チャンネルMO3FETの共通の基板ゲートを構
成する。P型ウェル領域は、そのトに形成されたNチャ
ンネルMO8FETの基板ゲートを構成する。
の1)チャンネルMO3FETの共通の基板ゲートを構
成する。P型ウェル領域は、そのトに形成されたNチャ
ンネルMO8FETの基板ゲートを構成する。
同図において、PチャンネルMO3FETは、そのチャ
ンネル(パックゲート)部に矢印が付加されることによ
っ゛C,,NチャンネルMOS F ETと区別される
。このことは、後に説明する第1図に才夕いても同様で
ある。
ンネル(パックゲート)部に矢印が付加されることによ
っ゛C,,NチャンネルMOS F ETと区別される
。このことは、後に説明する第1図に才夕いても同様で
ある。
メモリアレイM −/A RYは、代表として例示的に
示されているマトリックス配置された複数のメモリセル
MC、ワード線WOないしWn及び相補データ線Do、
Doないし11)1.I)1から構成されている。メモ
リセルMCのそれぞれは、互いに同じ構成にされ、その
1つの具体的回路が代表として示されているように、ゲ
ートとドレインが互いに交差接続され、かつソースが回
路の接地点に結合されたNチャンネル型の記↑!MO3
FETQ1、Q2と、上記MO3FETQI、Q2のド
レインと電源端子Vceとの間に設けられたポリ (多
結晶)シリコン層からなる高抵抗R1、R2とを含んで
いる。L記MO3FETQ1.Q2の共通接続点と相補
データ線Do、DOとの間にNチャンネル型の伝送ゲー
トMO3FETQ3.Q4が設けられている。同じ行に
配置されたメモリセルの伝送ゲートMO3FETQ3.
Q4等のゲートは、それぞれ例示的に示された対応する
ワード綿WO〜Wn等に共通に接続され、同じ列に配置
されたメモリセルの入出力端子は、それぞれ例示的に示
された対応する一対の相補データ線(ビア+線又はデイ
ジット線)DO,DO及びDi、Dl等に接続されてい
る。
示されているマトリックス配置された複数のメモリセル
MC、ワード線WOないしWn及び相補データ線Do、
Doないし11)1.I)1から構成されている。メモ
リセルMCのそれぞれは、互いに同じ構成にされ、その
1つの具体的回路が代表として示されているように、ゲ
ートとドレインが互いに交差接続され、かつソースが回
路の接地点に結合されたNチャンネル型の記↑!MO3
FETQ1、Q2と、上記MO3FETQI、Q2のド
レインと電源端子Vceとの間に設けられたポリ (多
結晶)シリコン層からなる高抵抗R1、R2とを含んで
いる。L記MO3FETQ1.Q2の共通接続点と相補
データ線Do、DOとの間にNチャンネル型の伝送ゲー
トMO3FETQ3.Q4が設けられている。同じ行に
配置されたメモリセルの伝送ゲートMO3FETQ3.
Q4等のゲートは、それぞれ例示的に示された対応する
ワード綿WO〜Wn等に共通に接続され、同じ列に配置
されたメモリセルの入出力端子は、それぞれ例示的に示
された対応する一対の相補データ線(ビア+線又はデイ
ジット線)DO,DO及びDi、Dl等に接続されてい
る。
メモリセルにおいて、MO3FETQI、Q2及び抵抗
R1,R2は、一種のフリップフロップ回路を構成して
いるが、情報保持状態における動作点は、普通の意味で
のフリップフロップ回路のそれと随分異なる。すなわち
、上記メモリセルMCにおいて、それを低消費電力にさ
せるため、その抵抗R1は、MO3FETQIがオフ状
態にされているときのMO3FETQ2のゲート電圧を
そのしきい値電圧よりも若干高い電圧に維持させること
ができる程度の著しく高い抵抗値にされる。
R1,R2は、一種のフリップフロップ回路を構成して
いるが、情報保持状態における動作点は、普通の意味で
のフリップフロップ回路のそれと随分異なる。すなわち
、上記メモリセルMCにおいて、それを低消費電力にさ
せるため、その抵抗R1は、MO3FETQIがオフ状
態にされているときのMO3FETQ2のゲート電圧を
そのしきい値電圧よりも若干高い電圧に維持させること
ができる程度の著しく高い抵抗値にされる。
同様に抵抗R2も高抵抗値にされる。言い換えると、上
記抵抗R1、R2は、MO3FETQI、Q2のドレイ
ンリーク電流を補償できる程度の高抵抗にされる。抵抗
R1、R2は、MO3FETQ2のゲート容量(図示し
ない)に蓄積されている情報電荷が放電させられてしま
うのを防ぐ程度の電流供給能力を持つ。
記抵抗R1、R2は、MO3FETQI、Q2のドレイ
ンリーク電流を補償できる程度の高抵抗にされる。抵抗
R1、R2は、MO3FETQ2のゲート容量(図示し
ない)に蓄積されている情報電荷が放電させられてしま
うのを防ぐ程度の電流供給能力を持つ。
この実施例に従うと、RAMがCMOS−IC技術によ
って製造されるにもかかわらず、上記のようにメモリセ
ルMCはNチャンネルMOSFETとポリシリコン抵抗
素子とから構成される。この実施例のメモリセル及びメ
モリアレイは、上記ポリシリコン抵抗素子に代えてPチ
ャンネルMO3FETを用いる場合に比べ、その大きさ
を小さくできる。すなわち、ポリシリコン抵抗を用いた
場合、駆動MOS F ETQ 1又はQ2のゲート電
極上に形成できるとともに、それ自体のサイズを小型化
できる。そして、PチャンネルMO3FETを用いたと
きのように、駆動MO3FETQiQ2から比較的大き
な距離を持って離さなければならないことがないので無
駄な空白部分が生じない。
って製造されるにもかかわらず、上記のようにメモリセ
ルMCはNチャンネルMOSFETとポリシリコン抵抗
素子とから構成される。この実施例のメモリセル及びメ
モリアレイは、上記ポリシリコン抵抗素子に代えてPチ
ャンネルMO3FETを用いる場合に比べ、その大きさ
を小さくできる。すなわち、ポリシリコン抵抗を用いた
場合、駆動MOS F ETQ 1又はQ2のゲート電
極上に形成できるとともに、それ自体のサイズを小型化
できる。そして、PチャンネルMO3FETを用いたと
きのように、駆動MO3FETQiQ2から比較的大き
な距離を持って離さなければならないことがないので無
駄な空白部分が生じない。
同図において、特に制限されないが、各相補データ’a
’AD O、D O及ヒD 1 、 D l ト?H
f1ft圧Vccとの間には、そのゲートに定常的に回
路の接地電位が供給されることによって抵抗素子として
作用するPチャンネル型の負荷MO3FETQ5〜Q8
が設けられる。これらのMO3FETQ5〜Q8は、そ
のサイズが比較的小さく形成されることによって、小さ
なコンダクタンスを持つようにされる。これらの負荷M
O3FETQ5〜Q8には、それぞれ並列形態にPチャ
ンネル型の負荷MO3FETQ9〜Q12が設けられる
。これらの負荷MO3FETQ9〜Q12は、そのサイ
ズが比較的大きく形成されることによって、比較的大き
なコンダクタンスを持つようにされる。上記MO3FE
TQ9〜Q12がオン状態におけるMO3FETQ5〜
Q8との合成コンダクタンスとメモリセルMCの伝送ゲ
ートMO8FET及び記憶用MO3FETの合成コンダ
クタンスとの比は、上記メモリセルMCの読み出し動作
において、相補データ線Do、Do及びDI、Dl等が
、その記憶情報に従った所望の比較的小さな電位差を持
つような値に選ばれる。このように、リードサイクルの
ときには、相補データ線にメモリセルから読み出される
信号振幅を小さくすることにより連続したリードサイク
ルでの相補データ線における読み出し信号レベルの切り
替わりが速くでき、高速読み出し動作が可能になる。
’AD O、D O及ヒD 1 、 D l ト?H
f1ft圧Vccとの間には、そのゲートに定常的に回
路の接地電位が供給されることによって抵抗素子として
作用するPチャンネル型の負荷MO3FETQ5〜Q8
が設けられる。これらのMO3FETQ5〜Q8は、そ
のサイズが比較的小さく形成されることによって、小さ
なコンダクタンスを持つようにされる。これらの負荷M
O3FETQ5〜Q8には、それぞれ並列形態にPチャ
ンネル型の負荷MO3FETQ9〜Q12が設けられる
。これらの負荷MO3FETQ9〜Q12は、そのサイ
ズが比較的大きく形成されることによって、比較的大き
なコンダクタンスを持つようにされる。上記MO3FE
TQ9〜Q12がオン状態におけるMO3FETQ5〜
Q8との合成コンダクタンスとメモリセルMCの伝送ゲ
ートMO8FET及び記憶用MO3FETの合成コンダ
クタンスとの比は、上記メモリセルMCの読み出し動作
において、相補データ線Do、Do及びDI、Dl等が
、その記憶情報に従った所望の比較的小さな電位差を持
つような値に選ばれる。このように、リードサイクルの
ときには、相補データ線にメモリセルから読み出される
信号振幅を小さくすることにより連続したリードサイク
ルでの相補データ線における読み出し信号レベルの切り
替わりが速くでき、高速読み出し動作が可能になる。
上記各負荷MO3FETQ9〜QI2のゲートには、書
き込み動作の時に電源電圧Vccのようなハイレベルに
される内部書き込み信号(兼マット選択信号)WEIが
供給される。これにより、書き込み動作のとき、選択さ
れたマントの上記負荷MO3FETQ9〜QI2はオフ
状態にされる。
き込み動作の時に電源電圧Vccのようなハイレベルに
される内部書き込み信号(兼マット選択信号)WEIが
供給される。これにより、書き込み動作のとき、選択さ
れたマントの上記負荷MO3FETQ9〜QI2はオフ
状態にされる。
したがって、書き込み動作における相補データ線の負荷
手段は、上記小さなコンダクタンスのMO3FETQ5
〜Q8のみとなり、メモリセルに与えられる書き込み信
号振幅を大きくして、その書き込み時間を短くするもの
である。
手段は、上記小さなコンダクタンスのMO3FETQ5
〜Q8のみとなり、メモリセルに与えられる書き込み信
号振幅を大きくして、その書き込み時間を短くするもの
である。
同図において、ワード線WOは、前記のようにXデコー
ダXDCRと駆動回路DRVとによって選択されるが、
同図では図面が複雑化されるのを防ぐために、ノア(N
OR)ゲート回路G1によりXデコーダXDCRと駆動
回路DRVを兼ねている。このことは、他の代表として
示されているワード線Wnについても同様である。
ダXDCRと駆動回路DRVとによって選択されるが、
同図では図面が複雑化されるのを防ぐために、ノア(N
OR)ゲート回路G1によりXデコーダXDCRと駆動
回路DRVを兼ねている。このことは、他の代表として
示されているワード線Wnについても同様である。
上記XアドレスデコーダXDCRは、相互において類似
のノアゲート回路Gl、02等により構成される。これ
らのノアゲート回路Gl、02等の入力端子には、複数
ビットからなるX系の外部アドレス信号A、 Xを受け
る゛7ドレスハソフアXΔDBによっこ形成された内部
相補アドレス信号所定の組合せをもって印加される。
のノアゲート回路Gl、02等により構成される。これ
らのノアゲート回路Gl、02等の入力端子には、複数
ビットからなるX系の外部アドレス信号A、 Xを受け
る゛7ドレスハソフアXΔDBによっこ形成された内部
相補アドレス信号所定の組合せをもって印加される。
上記メ七リアレイにおける相補データ線I) Oと共通
相補データ線CDとの間には、並列形態にされたNチャ
ンネルMO3FIミ′I’Q13とPチャンネルMO3
FH尤TQ14からなるCMOSスイッチ回路が設LJ
られる。他のデータVADO及びDIDl等もL記類似
のCMOSスイッチ回路によって対応する共通相補デー
タ線CD、CDに接続される。これらのCMOSスイッ
チ回路は、カラムスイッチCWを構成する。
相補データ線CDとの間には、並列形態にされたNチャ
ンネルMO3FIミ′I’Q13とPチャンネルMO3
FH尤TQ14からなるCMOSスイッチ回路が設LJ
られる。他のデータVADO及びDIDl等もL記類似
のCMOSスイッチ回路によって対応する共通相補デー
タ線CD、CDに接続される。これらのCMOSスイッ
チ回路は、カラムスイッチCWを構成する。
h配力ラムスイ・ノチCWを構成するNチャンネル型の
MO3FETQI 3.、Ql 5及びQl7゜Ql9
のゲートには、それぞれYアドレスデコーダYDCRに
よって形成される選択信号YO,Y1が供給される。」
−記Pチャンネル型のMO3FETQ14.Ql、6及
びQl8.Q20のゲートには、−[記選択信号YO,
Ylを受けるCMOSインバータ回路Nl、N2の出力
信号が供給される。
MO3FETQI 3.、Ql 5及びQl7゜Ql9
のゲートには、それぞれYアドレスデコーダYDCRに
よって形成される選択信号YO,Y1が供給される。」
−記Pチャンネル型のMO3FETQ14.Ql、6及
びQl8.Q20のゲートには、−[記選択信号YO,
Ylを受けるCMOSインバータ回路Nl、N2の出力
信号が供給される。
YアドレスデコーダY[〕ORは、相互において類似の
構成とされたノアゲート回IBG 3 、 04等によ
り構成される。これらのノアデー1回路に3G4等には
、複数ビットからなるY糸の外部アドレス信号AYを受
けるYアドレスバッファY A、 II)Bによって形
成された内部相補アドレスイ菖号が所定の組合せをもっ
て印加される。
構成とされたノアゲート回IBG 3 、 04等によ
り構成される。これらのノアデー1回路に3G4等には
、複数ビットからなるY糸の外部アドレス信号AYを受
けるYアドレスバッファY A、 II)Bによって形
成された内部相補アドレスイ菖号が所定の組合せをもっ
て印加される。
この実施例において、特に制限されないが、上記共通相
補データ線CD、CDには、書き込み動作の高速化のた
めに、内部書き込み信号WIE2がゲートに供給される
ことによって、高速なライト・リカバリ動作を実現する
ために、Pチャンネル型の負荷(プルアップ)MO3F
ETQ21及びQ22が設けられる。
補データ線CD、CDには、書き込み動作の高速化のた
めに、内部書き込み信号WIE2がゲートに供給される
ことによって、高速なライト・リカバリ動作を実現する
ために、Pチャンネル型の負荷(プルアップ)MO3F
ETQ21及びQ22が設けられる。
上記共通相補データ線CD、CDは、センスアンプS、
Aの入力端子と、書き込みパルス発生回路WPGの出
力端子が接続される。上記センスアンプSAは、活性化
パルスscにより動作状態になれ、共通相補データ線C
D、CDに読み出された信号を増幅して、データ出カバ
ソファDOBを通してデータ線出力端子Doutから読
み出し信号を出力する。書込みパルス発生回路W I)
Gは、その入力端子にデータ入力端子Dinを介して
入力された書き込みデータが、データ線入カバソファD
113を介して供給される。
Aの入力端子と、書き込みパルス発生回路WPGの出
力端子が接続される。上記センスアンプSAは、活性化
パルスscにより動作状態になれ、共通相補データ線C
D、CDに読み出された信号を増幅して、データ出カバ
ソファDOBを通してデータ線出力端子Doutから読
み出し信号を出力する。書込みパルス発生回路W I)
Gは、その入力端子にデータ入力端子Dinを介して
入力された書き込みデータが、データ線入カバソファD
113を介して供給される。
上記活性化パルスsc、内部書き込み信号WE1、WB
2等やデータ出カバソファDOBやデータ人カバ・アッ
プを活性化させる図示しない制御信号は、タイミング制
御回路TCにより形成される。
2等やデータ出カバソファDOBやデータ人カバ・アッ
プを活性化させる図示しない制御信号は、タイミング制
御回路TCにより形成される。
タイミング制御回路TCは、チップセレクト信号C8及
びライトイネーブル信号WEを受けて、その動作モード
の識別と、それに応じた各種タイミング信号や制御信号
を形成する。
びライトイネーブル信号WEを受けて、その動作モード
の識別と、それに応じた各種タイミング信号や制御信号
を形成する。
第1図には、ライト系の周辺回路の一実施例の具体的回
路図が示されている。
路図が示されている。
タイミング制御回路TCに含まれるライト系の回路は、
書き込み制御信号WE−C3を形成する回路と、内部書
き込み信号WEI等を形成する回路からなる。すなわち
、制御端子から供給されるチップセレクト信号C3、ラ
イトイネーブル信号WEは、入カバソファB1とB2を
介して内部に取り込まれる。上記信号は、インバータ回
路N1とN2により反転され、一方において上記書き込
み制御信号WE−C3を形成する論理積回路G3に入力
される。上記インバータ回路N1とN2の出力信号は、
他方において論理積回路G6に入力され、その出力信号
とマット選択信号MSIとが論理積回路G7に入力され
て、F記内部書き込み信号WEIが形成される。
書き込み制御信号WE−C3を形成する回路と、内部書
き込み信号WEI等を形成する回路からなる。すなわち
、制御端子から供給されるチップセレクト信号C3、ラ
イトイネーブル信号WEは、入カバソファB1とB2を
介して内部に取り込まれる。上記信号は、インバータ回
路N1とN2により反転され、一方において上記書き込
み制御信号WE−C3を形成する論理積回路G3に入力
される。上記インバータ回路N1とN2の出力信号は、
他方において論理積回路G6に入力され、その出力信号
とマット選択信号MSIとが論理積回路G7に入力され
て、F記内部書き込み信号WEIが形成される。
この実施例では、制御端子から入力されるパルス性のノ
イズによって誤って書き込み動作が行われるのを防止す
るために、上記インバータ回路N2の出力信号は、バッ
ファB3とインバータ回路N3からなる遅延回路により
遅延されて、上記インバータ回路N3の出力信号ととも
に論理積回路Glに入力される。この論理回路の出力信
号は、インバータ回路N4により反転遅延され、上記イ
ンバータ回路N2の出力信号とともに論理積回路G2に
入力される。そして、この論理積回路の出力信号G2が
、上記書き込み制御信号WE−C3を形成する論理積回
路の入力信号として用いられる。上記回路においては、
ライトイネーブル信号WEがパルス性のノイズにより上
記遅延回路の遅延時間より短く時間内にロウレベルにな
ったとしても、論理積回路G1やG2の出力信号はそれ
に応答せず、論理積回路G3の入力に伝えられる出力信
号をハイレベルのままに維持する。したがって、論理積
回路G3に入力される内部ライトイネーブル信号が上記
のようなノイズにより一時的にロウレベルになっても、
それに応答することなく書き込み制御信号WE−C3は
ロウレベルのままとなり、誤って書き込み動作になって
しまうのが防止できる。
イズによって誤って書き込み動作が行われるのを防止す
るために、上記インバータ回路N2の出力信号は、バッ
ファB3とインバータ回路N3からなる遅延回路により
遅延されて、上記インバータ回路N3の出力信号ととも
に論理積回路Glに入力される。この論理回路の出力信
号は、インバータ回路N4により反転遅延され、上記イ
ンバータ回路N2の出力信号とともに論理積回路G2に
入力される。そして、この論理積回路の出力信号G2が
、上記書き込み制御信号WE−C3を形成する論理積回
路の入力信号として用いられる。上記回路においては、
ライトイネーブル信号WEがパルス性のノイズにより上
記遅延回路の遅延時間より短く時間内にロウレベルにな
ったとしても、論理積回路G1やG2の出力信号はそれ
に応答せず、論理積回路G3の入力に伝えられる出力信
号をハイレベルのままに維持する。したがって、論理積
回路G3に入力される内部ライトイネーブル信号が上記
のようなノイズにより一時的にロウレベルになっても、
それに応答することなく書き込み制御信号WE−C3は
ロウレベルのままとなり、誤って書き込み動作になって
しまうのが防止できる。
データ入カバソファDIBは、縦列形態に接続されたイ
ンバータ回路N5、バッファ回路B4、インバータ回路
N6、バッファ回路B5及びインバータ回路N7から構
成される。バッファ回路B5の出力から非反転の内部書
き込みデータが出力され、インバータ回路N7の出力か
ら反転の内部書き込みデータが出力される。
ンバータ回路N5、バッファ回路B4、インバータ回路
N6、バッファ回路B5及びインバータ回路N7から構
成される。バッファ回路B5の出力から非反転の内部書
き込みデータが出力され、インバータ回路N7の出力か
ら反転の内部書き込みデータが出力される。
書き込みパルス発生回路WPGは、上記のような書き込
み制御信号WE−C3と相補書き込みデータとを受けて
、前記の共通相補データ線CD。
み制御信号WE−C3と相補書き込みデータとを受けて
、前記の共通相補データ線CD。
CDに伝えられる書き込みパルスwp、wpを形成する
。共通データ線CDに伝えられる書き込みパルスWPは
、上記書き込み制御信号WE−C3と、反転の内部書き
込みデータとを受ける論理積回路G4と、その出力信号
と反転遅延信号を受ける論理積回路G5及び出力インバ
ータ回路N9から構成される。上記反転遅延信号は、バ
ッファ回路B6、インバータ回路N8及びバッファ回路
B7から構成される。上記インバータ回路N9の出力信
号は、上記遅延回路により設定された遅延時間だけロウ
レベルにされる書き込みパルスWPとされる。
。共通データ線CDに伝えられる書き込みパルスWPは
、上記書き込み制御信号WE−C3と、反転の内部書き
込みデータとを受ける論理積回路G4と、その出力信号
と反転遅延信号を受ける論理積回路G5及び出力インバ
ータ回路N9から構成される。上記反転遅延信号は、バ
ッファ回路B6、インバータ回路N8及びバッファ回路
B7から構成される。上記インバータ回路N9の出力信
号は、上記遅延回路により設定された遅延時間だけロウ
レベルにされる書き込みパルスWPとされる。
反転の共通データ線CDに伝えられる書き込みパルスW
Pは、上記書き込み制御信号WE−C3と、非反転の内
部書き込みデータとを受ける前記同様な論理積回路と、
その出力信号と前記同様な反転遅延信号を受ける論理積
回路及び出力インバータ回路から構成され、遅延回路に
より設定された遅延時間だけロウレベルにされる書き込
みパルスwpが形成される。
Pは、上記書き込み制御信号WE−C3と、非反転の内
部書き込みデータとを受ける前記同様な論理積回路と、
その出力信号と前記同様な反転遅延信号を受ける論理積
回路及び出力インバータ回路から構成され、遅延回路に
より設定された遅延時間だけロウレベルにされる書き込
みパルスwpが形成される。
以下、第3図に示されたタイミング図を参照して、この
発明に係る書き込み方式を説明する。
発明に係る書き込み方式を説明する。
スタティック型RAMにおいては、外部より入力される
アドレス信号Aiは、ライトイネーブル信号WEのロウ
レベルへの立ち下がりに対するアドレスセントアップ時
間t□及びハイレベルに立ち上がりに対するアドレスホ
ールド時間t□を確保する必要がある。しかし、キ十ソ
′シュメモリ等に用いられる場合、サイクルタイムを短
くするために、上記アドレスホールド時間tWl+を十
分に取ることが困難となってきている。このために、ラ
イトイネーブル信号WEのドライバー遅延時間が大きく
なった場合には、同図に示すようにアドレスホールド時
間tWRが負の値−tWRになる場合が生じてしまう。
アドレス信号Aiは、ライトイネーブル信号WEのロウ
レベルへの立ち下がりに対するアドレスセントアップ時
間t□及びハイレベルに立ち上がりに対するアドレスホ
ールド時間t□を確保する必要がある。しかし、キ十ソ
′シュメモリ等に用いられる場合、サイクルタイムを短
くするために、上記アドレスホールド時間tWl+を十
分に取ることが困難となってきている。このために、ラ
イトイネーブル信号WEのドライバー遅延時間が大きく
なった場合には、同図に示すようにアドレスホールド時
間tWRが負の値−tWRになる場合が生じてしまう。
従来の書き込み方式のもとでは、書き込み制御信号WE
−C3と書き込みデータDinとの論理積WE−C3−
Din、 WE−G3−Dtnがそのまま書き込みパル
スとして共通データ線CD、CD、カラムスイッチ回路
及び相補データ&iDO,DO等を通してメモリセルに
印加されるため、上記のように負のアドレスホールド時
間−toになってしまうと、同図のaのデータは正しく
アドレスAiに対応したワード線aiのメモリセルに書
き込まれるが、同図のbのデータは次サイクルのアドレ
スAi+lに対応したワード線ai+lのメモリセルに
書き込まれてしまう。
−C3と書き込みデータDinとの論理積WE−C3−
Din、 WE−G3−Dtnがそのまま書き込みパル
スとして共通データ線CD、CD、カラムスイッチ回路
及び相補データ&iDO,DO等を通してメモリセルに
印加されるため、上記のように負のアドレスホールド時
間−toになってしまうと、同図のaのデータは正しく
アドレスAiに対応したワード線aiのメモリセルに書
き込まれるが、同図のbのデータは次サイクルのアドレ
スAi+lに対応したワード線ai+lのメモリセルに
書き込まれてしまう。
この実施例では、上記論理積W E−CS−D + n
%WE−C3−Dinのフロントエツジ、言い換える
ならば、ハイレベルからロウレベルへの立ち下がりエツ
ジを基準にし、ここからメモリセルへの書き込みに必要
な時間Cを持つ書き込みパルスWP。
%WE−C3−Dinのフロントエツジ、言い換える
ならば、ハイレベルからロウレベルへの立ち下がりエツ
ジを基準にし、ここからメモリセルへの書き込みに必要
な時間Cを持つ書き込みパルスWP。
WPを発生させる。これにより、メモリサイクルの高速
化のために例え負のアドレスホールド時間tWRを持つ
ようになってしまっても、それとは無関係にメ七リセル
への書き込み動作が終rしているから、次のサイクルで
のアドレスに対し”ご書き込みが行われこしま・)よう
な誤動作を防止することができる。
化のために例え負のアドレスホールド時間tWRを持つ
ようになってしまっても、それとは無関係にメ七リセル
への書き込み動作が終rしているから、次のサイクルで
のアドレスに対し”ご書き込みが行われこしま・)よう
な誤動作を防止することができる。
また、J−記のように書き込みパルスwp、wpとし2
て、論理積WE ・CS ・Diri又はWE−C3T
hinのコニソジを基?itにし7て発りトさせるもの
であるため、ライトイネーブル信号Wl己と古き込みブ
タDinとが非同期的に入力され“Cも何等問題なく正
しく書き込むことができる。
て、論理積WE ・CS ・Diri又はWE−C3T
hinのコニソジを基?itにし7て発りトさせるもの
であるため、ライトイネーブル信号Wl己と古き込みブ
タDinとが非同期的に入力され“Cも何等問題なく正
しく書き込むことができる。
パルスW■)、wpを発生さゼる場合、1記のようなパ
ルス幅検出機能を持たせることより、例えライトイネー
ブル信号W EにノイズかのっCも、誤って書き込み動
作になることがない。
ルス幅検出機能を持たせることより、例えライトイネー
ブル信号W EにノイズかのっCも、誤って書き込み動
作になることがない。
上記の実施例から得られる作用効果は、下記の通りであ
る。すなわち、 (1)シき込み動作を指示する制御信号と書き込みデー
タとの論理積信号を形成し、この論理積信号のノl」ン
ト側変化エツジを基準にして一゛定のパルス幅の書き込
みパルス信号を形成することにより、ア1”レスボール
ド時間を制御信号の遅延を’y i=して引き延ばす必
要がないから、ライトサイクルの高速化がIj]能にな
るという効果が得られる。
る。すなわち、 (1)シき込み動作を指示する制御信号と書き込みデー
タとの論理積信号を形成し、この論理積信号のノl」ン
ト側変化エツジを基準にして一゛定のパルス幅の書き込
みパルス信号を形成することにより、ア1”レスボール
ド時間を制御信号の遅延を’y i=して引き延ばす必
要がないから、ライトサイクルの高速化がIj]能にな
るという効果が得られる。
(2)書き込み動作を指示する制御信号と書き込みデー
タとの論理積信号を形成し、この論理積信号のフし)ン
ト側変化エツジを基準にrるものであるかは、ライトイ
ネーブル信号と書き込みデータとを非同期で入力できる
という効果が得られる。
タとの論理積信号を形成し、この論理積信号のフし)ン
ト側変化エツジを基準にrるものであるかは、ライトイ
ネーブル信号と書き込みデータとを非同期で入力できる
という効果が得られる。
(3)F配置き込み動作を指示する制御信号として、ラ
イトイネーブル信号とその遅延信号の論理積出力信号を
用いることにより、高速化を図りつつパルス性のノイズ
による誤動作を防止することができるという効果が得ら
れる。
イトイネーブル信号とその遅延信号の論理積出力信号を
用いることにより、高速化を図りつつパルス性のノイズ
による誤動作を防止することができるという効果が得ら
れる。
以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、この発明はI−記実施例に限定され
るものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更
可能であることはいうまでもない。例えば、書き込みパ
ルスを形成するために用いられる論理積回路は、I’!
ウレヘルを論理“1”にする負論理を採るか、ハイレベ
ルを論理“1”にする正論理を採るか等の組み合わせに
応じて実質的な論理積が得られるものであればよく、ア
ンドゲート回路、ナントゲート回路、オアゲート回路又
はノアゲート回路等をそれぞれの入力レベルに応じて用
いることができるものである。スタティック型メモリセ
ルにおける負荷手段は、上記のような高抵抗ポリシリコ
ンを用いるものの他、前記のように電流供給能力が小さ
く設定されたPチャンネルMOSFETを用いた完全ス
タティック型のものであってもよい。メモリアレイの相
補データ線に設けられる負荷手段は、−上記のような2
つのMOS F ETを用いるものの他、1つのMOS
FETから構成してもよい。アドレス八ソファやデコー
ダ等の周辺回路をCMO3回路の出力部にバイポーラ型
トランジスタを用いたBi−CMO3構成にするもので
あってもよい。このようにメモリアレイの構成及びその
周辺回路の具体的回路構成は、種々の実施形態を採るこ
とができるものである。
体的に説明したが、この発明はI−記実施例に限定され
るものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更
可能であることはいうまでもない。例えば、書き込みパ
ルスを形成するために用いられる論理積回路は、I’!
ウレヘルを論理“1”にする負論理を採るか、ハイレベ
ルを論理“1”にする正論理を採るか等の組み合わせに
応じて実質的な論理積が得られるものであればよく、ア
ンドゲート回路、ナントゲート回路、オアゲート回路又
はノアゲート回路等をそれぞれの入力レベルに応じて用
いることができるものである。スタティック型メモリセ
ルにおける負荷手段は、上記のような高抵抗ポリシリコ
ンを用いるものの他、前記のように電流供給能力が小さ
く設定されたPチャンネルMOSFETを用いた完全ス
タティック型のものであってもよい。メモリアレイの相
補データ線に設けられる負荷手段は、−上記のような2
つのMOS F ETを用いるものの他、1つのMOS
FETから構成してもよい。アドレス八ソファやデコー
ダ等の周辺回路をCMO3回路の出力部にバイポーラ型
トランジスタを用いたBi−CMO3構成にするもので
あってもよい。このようにメモリアレイの構成及びその
周辺回路の具体的回路構成は、種々の実施形態を採るこ
とができるものである。
また、アドレス信号変化検出回路を設けて、メモリアク
セスに先立って相補データ線や共通相補データ線のイコ
ライズを行ったり、一定期間だけワード線の選択動作を
行うようにする等のような付加機能を設けるものであっ
てもよい。
セスに先立って相補データ線や共通相補データ線のイコ
ライズを行ったり、一定期間だけワード線の選択動作を
行うようにする等のような付加機能を設けるものであっ
てもよい。
さらに、上記のようなCMO3構成のRAMに代えて、
バイポーラ型トランジスタにより構成されるRAMにも
同様に適用することができる。
バイポーラ型トランジスタにより構成されるRAMにも
同様に適用することができる。
この発明は、リード/ライトが行われる高速RAMに広
く利用でき、マイクロコンピュータ等のディジタル集積
回路に内蔵されるものであってもよい。
く利用でき、マイクロコンピュータ等のディジタル集積
回路に内蔵されるものであってもよい。
本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記の通りである
。すなわち、書き込み動作を指示する制御信号と書き込
みデータとの論理積信号を形成し、この論理積信号のフ
ロント側のエツジを基準にして一定のパルス幅の書き込
みバルスイ3号を形成することにより、アドレスホール
ド時間を制御信号の遅延を考慮して引き延ばす必要がな
いから、ライトサイクルの高速化が可能になる。
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記の通りである
。すなわち、書き込み動作を指示する制御信号と書き込
みデータとの論理積信号を形成し、この論理積信号のフ
ロント側のエツジを基準にして一定のパルス幅の書き込
みバルスイ3号を形成することにより、アドレスホール
ド時間を制御信号の遅延を考慮して引き延ばす必要がな
いから、ライトサイクルの高速化が可能になる。
第1図は、この発明が適用されたスタティック型RA、
Mにおけるライト系の周辺回路の一実施例を示す回路図
、 第2図は、この発明が適用されたスタティック型RAM
の一実施例を示す要部回路図、第3図は、そのライトサ
イクルの一実施例を示すタイミング図、 第4図は、従来のRAMにおけるライトサイクルの一例
を示すタイミング図である。 G1〜G7・・論理積回路、N1〜N9・・インバータ
回路、81〜B7・・バッファ回路、TC・・タイミン
グ制御回路、DIB・・データ人力バッファ、WPG・
・書き込みパルス発注回路、M−ARY・・メモリアレ
イ、XADB・・Xアドレスバッファ、YADB・・Y
アドレスバッファ、XDCR・ ・Xアドレスデコーダ
、YDCR・・Yアドレスデコーダ、SA・・センスア
ンプMC・・メモリセル
Mにおけるライト系の周辺回路の一実施例を示す回路図
、 第2図は、この発明が適用されたスタティック型RAM
の一実施例を示す要部回路図、第3図は、そのライトサ
イクルの一実施例を示すタイミング図、 第4図は、従来のRAMにおけるライトサイクルの一例
を示すタイミング図である。 G1〜G7・・論理積回路、N1〜N9・・インバータ
回路、81〜B7・・バッファ回路、TC・・タイミン
グ制御回路、DIB・・データ人力バッファ、WPG・
・書き込みパルス発注回路、M−ARY・・メモリアレ
イ、XADB・・Xアドレスバッファ、YADB・・Y
アドレスバッファ、XDCR・ ・Xアドレスデコーダ
、YDCR・・Yアドレスデコーダ、SA・・センスア
ンプMC・・メモリセル
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、書き込み動作を指示する制御信号と書き込みデータ
との論理積信号を形成する回路と、この論理積信号のフ
ロント側変化タイミングを基準にして一定のパルス幅の
書き込みパルス信号を形成するパルス発生回路とを含む
書き込みパルス発生回路を含むことを特徴とする半導体
記憶装置。 2、上記パルス発生回路は、入力パルスの反転遅延信号
と上記入力パルスとを論理積回路に入力して形成される
ものであることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
の半導体記憶装置。 3、上記書き込み動作を指示する制御信号は、内部チッ
プセレクト信号、内部ライトイネーブル信号及び上記内
部ライトイネーブル信号とその遅延信号の論理積出力信
号との論理積に基づいて形成されるものであることを特
徴とする特許請求の範囲第1又は第2項記載の半導体記
憶装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2181284A JPH0469893A (ja) | 1990-07-09 | 1990-07-09 | 半導体記憶装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2181284A JPH0469893A (ja) | 1990-07-09 | 1990-07-09 | 半導体記憶装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0469893A true JPH0469893A (ja) | 1992-03-05 |
Family
ID=16098003
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2181284A Pending JPH0469893A (ja) | 1990-07-09 | 1990-07-09 | 半導体記憶装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0469893A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7031202B2 (en) | 2003-05-29 | 2006-04-18 | Hynix Semiconductor Inc. | Method and apparatus for rapidly storing data in memory cell without voltage loss |
US8451672B2 (en) | 2010-07-07 | 2013-05-28 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor storage device |
-
1990
- 1990-07-09 JP JP2181284A patent/JPH0469893A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7031202B2 (en) | 2003-05-29 | 2006-04-18 | Hynix Semiconductor Inc. | Method and apparatus for rapidly storing data in memory cell without voltage loss |
US8451672B2 (en) | 2010-07-07 | 2013-05-28 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor storage device |
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