JPH0464121B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0464121B2 JPH0464121B2 JP61208896A JP20889686A JPH0464121B2 JP H0464121 B2 JPH0464121 B2 JP H0464121B2 JP 61208896 A JP61208896 A JP 61208896A JP 20889686 A JP20889686 A JP 20889686A JP H0464121 B2 JPH0464121 B2 JP H0464121B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wire
- ball
- bonding
- annealing
- ppm
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- H10W72/015—
-
- H10W72/01551—
-
- H10W72/50—
-
- H10W72/5525—
Landscapes
- Wire Bonding (AREA)
- Conductive Materials (AREA)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61208896A JPS6364211A (ja) | 1986-09-05 | 1986-09-05 | 銅細線とその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61208896A JPS6364211A (ja) | 1986-09-05 | 1986-09-05 | 銅細線とその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6364211A JPS6364211A (ja) | 1988-03-22 |
| JPH0464121B2 true JPH0464121B2 (esLanguage) | 1992-10-14 |
Family
ID=16563924
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61208896A Granted JPS6364211A (ja) | 1986-09-05 | 1986-09-05 | 銅細線とその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6364211A (esLanguage) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3050554B2 (ja) * | 1988-04-13 | 2000-06-12 | 日立電線株式会社 | マグネットワイヤ |
| US6113761A (en) | 1999-06-02 | 2000-09-05 | Johnson Matthey Electronics, Inc. | Copper sputtering target assembly and method of making same |
| US6858102B1 (en) | 2000-11-15 | 2005-02-22 | Honeywell International Inc. | Copper-containing sputtering targets, and methods of forming copper-containing sputtering targets |
| AU1609501A (en) | 1999-11-24 | 2001-06-04 | Honeywell International, Inc. | Physical vapor deposition targets, conductive integrated circuit metal alloy interconnections, electroplating anodes, and metal alloys for use as a conductive interconnection in an integrated circuit |
| JP2004064033A (ja) * | 2001-10-23 | 2004-02-26 | Sumitomo Electric Wintec Inc | ボンディングワイヤー |
| JP5152897B2 (ja) * | 2006-11-21 | 2013-02-27 | タツタ電線株式会社 | 銅ボンディングワイヤ |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6120693A (ja) * | 1984-07-06 | 1986-01-29 | Toshiba Corp | ボンデイングワイヤ− |
| JP2656237B2 (ja) * | 1985-10-30 | 1997-09-24 | 株式会社東芝 | 半導体装置 |
| JP2656236B2 (ja) * | 1985-10-30 | 1997-09-24 | 株式会社東芝 | 半導体装置 |
| JP2656238B2 (ja) * | 1985-10-30 | 1997-09-24 | 株式会社東芝 | 半導体装置 |
| JPH0717976B2 (ja) * | 1985-12-18 | 1995-03-01 | 株式会社東芝 | 半導体装置 |
-
1986
- 1986-09-05 JP JP61208896A patent/JPS6364211A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6364211A (ja) | 1988-03-22 |
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