JPH0462319B2 - - Google Patents
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- JPH0462319B2 JPH0462319B2 JP61211799A JP21179986A JPH0462319B2 JP H0462319 B2 JPH0462319 B2 JP H0462319B2 JP 61211799 A JP61211799 A JP 61211799A JP 21179986 A JP21179986 A JP 21179986A JP H0462319 B2 JPH0462319 B2 JP H0462319B2
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- phosphonomethylglycine
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/38—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
- C07F9/3804—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)] not used, see subgroups
- C07F9/3808—Acyclic saturated acids which can have further substituents on alkyl
- C07F9/3813—N-Phosphonomethylglycine; Salts or complexes thereof
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、式
で示されるＮ−ホスホノメチルグリシンを製造す
る新規な方法に関する。
る新規な方法に関する。
Ｎ−ホスホノメチルグリシンは、非常に使用範
囲の広い完全除草剤であり、その製造と使用につ
いては米国特許第3799758号明細書に記載されて
いる。
囲の広い完全除草剤であり、その製造と使用につ
いては米国特許第3799758号明細書に記載されて
いる。
今までに知られた製造方法は一般に、塩素イオ
ンの存在下でホルムアルデヒドを使用する反応に
基いている。この場合、発がん性ピスクロロメチ
ルエーテルの生成を避けることができない。更
に、式 で示されるＮ−ホスホノメチル−Ｎ−カルボキシ
メチル−グリシンがしばしば副生成物として生じ
る。
ンの存在下でホルムアルデヒドを使用する反応に
基いている。この場合、発がん性ピスクロロメチ
ルエーテルの生成を避けることができない。更
に、式 で示されるＮ−ホスホノメチル−Ｎ−カルボキシ
メチル−グリシンがしばしば副生成物として生じ
る。
ヨーロツパ特許出願公開第0081459号明細書に
は、アミノメタンホスホン酸をグリオキサールと
水性媒質中で二酸化硫黄の存在下で反応させるこ
とが提案されている。この場合にはが約75％ま
での収率で生じるが、そのほかにが副生成物と
してかなりの量生じる。この方法の他の欠点は、
二酸化硫黄を使用することである。
は、アミノメタンホスホン酸をグリオキサールと
水性媒質中で二酸化硫黄の存在下で反応させるこ
とが提案されている。この場合にはが約75％ま
での収率で生じるが、そのほかにが副生成物と
してかなりの量生じる。この方法の他の欠点は、
二酸化硫黄を使用することである。
最後に、米国特許第4094928号明細書から、ア
ミノメタンホスホン酸（エステル）をグリオキシ
ル酸（エステル）と有機媒質中で反応させること
が知られている。この場合には、水の脱離によつ
て式 で示されるシツフ塩基が生じ、これは還元および
場合によりけん化によつてに変えることができ
る。この方法は、数工程の反応を必要とし、収率
が相当に少なくなるので不利である。
ミノメタンホスホン酸（エステル）をグリオキシ
ル酸（エステル）と有機媒質中で反応させること
が知られている。この場合には、水の脱離によつ
て式 で示されるシツフ塩基が生じ、これは還元および
場合によりけん化によつてに変えることができ
る。この方法は、数工程の反応を必要とし、収率
が相当に少なくなるので不利である。
ところで、式
で示されるアミノメタンホスホン酸またはこれと
強塩基との塩を約二倍モル量のグリオキシル酸と
水媒質または水−有機媒質中で反応させる場合に
は、既知の方法の欠点が避けられそしてＮ−ホス
ホノメチルグリシンが高い収率および純度で得ら
れるということが見いだされた。
強塩基との塩を約二倍モル量のグリオキシル酸と
水媒質または水−有機媒質中で反応させる場合に
は、既知の方法の欠点が避けられそしてＮ−ホス
ホノメチルグリシンが高い収率および純度で得ら
れるということが見いだされた。
上記の条件では、水が脱離してシツフ塩基が生
じることは起こらない；その代りに、まだ解明さ
ていない反応系列で直接に化合物が生じる；副
生成物としてCO2が生じる。
じることは起こらない；その代りに、まだ解明さ
ていない反応系列で直接に化合物が生じる；副
生成物としてCO2が生じる。
反応は例えば、グリオキシル酸を濃厚な（50％
の濃度の）水溶液として供給し、を固体の形で
少しずつ加えるかまたは水溶液として加えること
によつて起る；しかし、反対の順序で行なうこと
もできる。１部とグリオキシル酸２部とのモル
比を使用するのが好ましいが、１部または他の部
を過剰に使用することもできる。10〜100℃、特
に30〜100℃の温度で反応を行なう。
の濃度の）水溶液として供給し、を固体の形で
少しずつ加えるかまたは水溶液として加えること
によつて起る；しかし、反対の順序で行なうこと
もできる。１部とグリオキシル酸２部とのモル
比を使用するのが好ましいが、１部または他の部
を過剰に使用することもできる。10〜100℃、特
に30〜100℃の温度で反応を行なう。
遊離酸の代りにそれと強塩基との塩、例えば
アルカリ塩（Na+、K+）、アンモニウム塩または
アミン塩例えばエチルアミン塩、トリエチルアミ
ン塩、イソプロピルアミン塩もしくはエタノール
アミン塩を使用することもできる。
アルカリ塩（Na+、K+）、アンモニウム塩または
アミン塩例えばエチルアミン塩、トリエチルアミ
ン塩、イソプロピルアミン塩もしくはエタノール
アミン塩を使用することもできる。
反応は、ガスを激しく発生して起こり、ガスの
発生は温度が上昇すると増加する。ガスの発生が
終つた後に反応混合物を冷却させ、沈澱した反応
生成物を単離する。反応生成物を一層よく分離す
るために、水混和性有機溶剤例えばアセトン、ア
セトニトリルまたはメタノールを反応のバツチに
加えるものが有利であり得る。本方法は連続的に
行なうこともできる。
発生は温度が上昇すると増加する。ガスの発生が
終つた後に反応混合物を冷却させ、沈澱した反応
生成物を単離する。反応生成物を一層よく分離す
るために、水混和性有機溶剤例えばアセトン、ア
セトニトリルまたはメタノールを反応のバツチに
加えるものが有利であり得る。本方法は連続的に
行なうこともできる。
反応生成物は、少なくとも70％の収率で生
じ、副生成物を事実上含んでいない。
じ、副生成物を事実上含んでいない。
以下、例を挙げて本発明を更に詳しく説明す
る。
る。
例 １
50％の濃度のグリオキシル酸水溶液29.6ｇ
（0.2モル）を、かく拌しながら40℃に加温した。
11.1ｇ（0.1モル）のアミノメタンホスホン酸を
次に40〜45℃で少しずつ加えると、ガスが激しく
発生し始めた。加え終つた後に、温度が上昇して
85℃の内温になつた。約１時間後にガスの発生が
終つた。15分間85℃でかく拌を続け、少量の水を
加え、冷却させた。10ｇのＮ−ホスホホメチルグ
リシンを得た；321〜323℃〔分解〕。母液を濃縮
し、沈澱した結晶スラリーをメタノール／水に浸
漬して更に2.5ｇを得た。従つて全収量は、理論
量の74％であつた。
（0.2モル）を、かく拌しながら40℃に加温した。
11.1ｇ（0.1モル）のアミノメタンホスホン酸を
次に40〜45℃で少しずつ加えると、ガスが激しく
発生し始めた。加え終つた後に、温度が上昇して
85℃の内温になつた。約１時間後にガスの発生が
終つた。15分間85℃でかく拌を続け、少量の水を
加え、冷却させた。10ｇのＮ−ホスホホメチルグ
リシンを得た；321〜323℃〔分解〕。母液を濃縮
し、沈澱した結晶スラリーをメタノール／水に浸
漬して更に2.5ｇを得た。従つて全収量は、理論
量の74％であつた。
例 ２
50％の濃度のグリオキシル酸水溶液30ｇ
（0.203モル）を、かく拌しながら40℃に加温し、
水60ml中アミノメタンホスホン酸11.1ｇ（0.1モ
ル）の40〜50℃の暖かい溶液を増加すると、ガス
が発生し始めた。滴加中に温度が60℃に上昇し
た。滴加が終つた後に、１時間かく拌を続ける
と、温度が少しずつ上昇して100℃になつた。ガ
スの発生が終つた後に、30分間100℃でかく拌を
続け、次に冷却させた。その際10.5ｇのＮ−ホス
ホノメチルグリシンが晶出した。母液を濃縮して
更に2.5ｇ得た。従つて全収量は、理論量の77％
であつた。
（0.203モル）を、かく拌しながら40℃に加温し、
水60ml中アミノメタンホスホン酸11.1ｇ（0.1モ
ル）の40〜50℃の暖かい溶液を増加すると、ガス
が発生し始めた。滴加中に温度が60℃に上昇し
た。滴加が終つた後に、１時間かく拌を続ける
と、温度が少しずつ上昇して100℃になつた。ガ
スの発生が終つた後に、30分間100℃でかく拌を
続け、次に冷却させた。その際10.5ｇのＮ−ホス
ホノメチルグリシンが晶出した。母液を濃縮して
更に2.5ｇ得た。従つて全収量は、理論量の77％
であつた。
例 ３
50％の濃度のグリオキシル酸水溶液29.6ｇ
（0.2モル）を60℃に加温し、水27ml中のアミノメ
タンホスホン酸のNa塩13.3ｇ（0.1モル）を、加
熱可能な滴下漏斗から２時間で、かく拌しながら
60℃で滴加した。その際、温度が少しずつ上昇し
て100℃になつた；ガスが発生しなくなるまで更
に10分間かく拌した。冷却後、水を減圧で蒸留に
より除き、残つた残渣を30ｇの濃塩酸を浸漬し、
生じた塩化ナトリウムを吸引取した。液を減
圧で約50℃で濃縮した。残つた残渣をKOHで乾
燥させ、水性メタノール（約50％の濃度）に浸漬
し、振盪し、吸引取し、次にメタノールで洗
い、乾燥させた。12ｇのＮ−ホスホノメチルグリ
シンを得た；収量は、理論量の71％であつた。
（0.2モル）を60℃に加温し、水27ml中のアミノメ
タンホスホン酸のNa塩13.3ｇ（0.1モル）を、加
熱可能な滴下漏斗から２時間で、かく拌しながら
60℃で滴加した。その際、温度が少しずつ上昇し
て100℃になつた；ガスが発生しなくなるまで更
に10分間かく拌した。冷却後、水を減圧で蒸留に
より除き、残つた残渣を30ｇの濃塩酸を浸漬し、
生じた塩化ナトリウムを吸引取した。液を減
圧で約50℃で濃縮した。残つた残渣をKOHで乾
燥させ、水性メタノール（約50％の濃度）に浸漬
し、振盪し、吸引取し、次にメタノールで洗
い、乾燥させた。12ｇのＮ−ホスホノメチルグリ
シンを得た；収量は、理論量の71％であつた。
実施例 ４
50％の濃度のグリオキシル酸水溶液29.6ｇ
（0.2モル）およびアセトニトリル15ｇを45℃に加
温しそしてアミノメタホスノン酸11.1ｇ（0.1モ
ル）を激しく撹拌下に30分間の間に滴加し、その
際に激しくガスが発生し始めた。反応は弱い発熱
的に進行する。次いでゆつくり加熱しながら還流
する。その後に２時間の間、更に還流状態に維持
し、その際にＮ−ホスホノメチルグリシンが既に
結晶析出する。次いで、冷却しそして後撹拌す
る。13.2ｇのＮ−ホスホノ−メチルグリシン〔融
点310℃（分解）〕得られた。母液をの濃縮し、残
渣をメタノールに浸漬して更に1.5ｇを得た。従
つて、全収量は理論値の87％であつた。
（0.2モル）およびアセトニトリル15ｇを45℃に加
温しそしてアミノメタホスノン酸11.1ｇ（0.1モ
ル）を激しく撹拌下に30分間の間に滴加し、その
際に激しくガスが発生し始めた。反応は弱い発熱
的に進行する。次いでゆつくり加熱しながら還流
する。その後に２時間の間、更に還流状態に維持
し、その際にＮ−ホスホノメチルグリシンが既に
結晶析出する。次いで、冷却しそして後撹拌す
る。13.2ｇのＮ−ホスホノ−メチルグリシン〔融
点310℃（分解）〕得られた。母液をの濃縮し、残
渣をメタノールに浸漬して更に1.5ｇを得た。従
つて、全収量は理論値の87％であつた。
実施例 ５
50％の濃度のグリオキシル酸水溶液29.6ｇ
（0.2モル）およびテトラヒドロフラン15ｇを45℃
に加温しそしてアミノメタンホスホン酸11.1ｇ
（0.1モル）を激しい撹拌下に30分間の間に適加
し、その際に激しくガスが発生し始めた。次いで
ゆつくり加熱下に還流し、その後に２時間の間、
更に還流状態に維持した。その際にＮ−ホスホノ
メチルグリシンが最後まで既に結晶析出する。次
いで、冷却しそして後撹拌する。10.5ｇのＮ−ホ
スホノ−メチルグリシン〔融点310℃（分解）〕が
得られた。母液を濃縮し、残渣をメタノールに浸
漬して更に2.5ｇを得た。従つて全収量は理論値
の77％であつた。
（0.2モル）およびテトラヒドロフラン15ｇを45℃
に加温しそしてアミノメタンホスホン酸11.1ｇ
（0.1モル）を激しい撹拌下に30分間の間に適加
し、その際に激しくガスが発生し始めた。次いで
ゆつくり加熱下に還流し、その後に２時間の間、
更に還流状態に維持した。その際にＮ−ホスホノ
メチルグリシンが最後まで既に結晶析出する。次
いで、冷却しそして後撹拌する。10.5ｇのＮ−ホ
スホノ−メチルグリシン〔融点310℃（分解）〕が
得られた。母液を濃縮し、残渣をメタノールに浸
漬して更に2.5ｇを得た。従つて全収量は理論値
の77％であつた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 式 で示されるＮ−ホスホノメチルグリシンを製造す
べく、 式 で示されるアミノメタンホスホン酸またはこれと
強塩基との塩を、グリオキシル酸と約１：２のモ
ル比で水媒質または水−有機媒質中で反応させる
ことを特徴とする、前記Ｎ−ホスホノメチルグリ
シンの製造方法。 ２ 反応を10ないし100℃、特に30ないし100℃の
温度で行なう、特許請求の範囲第１項記載の製造
方法。 ３ 水混和性溶剤例えばアセトン、アセトニトリ
ルまたはメタノールを加える、特許請求の範囲第
１項記載の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3532344.2 | 1985-09-11 | ||
| DE19853532344 DE3532344A1 (de) | 1985-09-11 | 1985-09-11 | Verfahren zur herstellung von n-phosphonomethylglycin |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6261992A JPS6261992A (ja) | 1987-03-18 |
| JPH0462319B2 true JPH0462319B2 (ja) | 1992-10-05 |
Family
ID=6280627
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61211799A Granted JPS6261992A (ja) | 1985-09-11 | 1986-09-10 | Ｎ−ホスホノメチルグリシンの製法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US4670191A (ja) |
| EP (1) | EP0214578B1 (ja) |
| JP (1) | JPS6261992A (ja) |
| AT (1) | ATE47861T1 (ja) |
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