JPH0461573A - 画素増幅型固体撮像素子 - Google Patents

画素増幅型固体撮像素子

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JPH0461573A
JPH0461573A JP2171643A JP17164390A JPH0461573A JP H0461573 A JPH0461573 A JP H0461573A JP 2171643 A JP2171643 A JP 2171643A JP 17164390 A JP17164390 A JP 17164390A JP H0461573 A JPH0461573 A JP H0461573A
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JP
Japan
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signal
voltage
reset
charge
electrode
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JP2171643A
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English (en)
Inventor
Shigeki Nishizawa
重喜 西澤
Tadashi Baba
匡史 馬場
Masumi Kaida
開田 真澄
Kayao Takemoto
一八男 竹本
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Publication of JPH0461573A publication Critical patent/JPH0461573A/ja
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144Devices controlled by radiation
    • H01L27/146Imager structures
    • H01L27/14643Photodiode arrays; MOS imagers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144Devices controlled by radiation
    • H01L27/146Imager structures
    • H01L27/14601Structural or functional details thereof
    • H01L27/14609Pixel-elements with integrated switching, control, storage or amplification elements

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野] この発明は、画素増幅型固体撮像素子に関するもので、
例えば、光電変換素子により形成される画素信号をソー
スフォロワ形態の増幅MO3FET(絶縁ゲート形電界
効果トランジスタ)を介して取り出す方式のものに利用
して有効な技術に関するものである。
〔従来の技術〕
エリアをンサを構成する固体撮像素子は、半導体集積回
路技術の進展に伴いすでに実用レベルに達している。こ
の固体撮像素子としてはMOS型、CCD型等が開発さ
れている。これらの固体撮像素子では光電変換部で発生
した信号電荷を信号電圧に変換するのに、信号電荷−電
圧変換アンプまで転送する必要がある。このため、その
転送途中で混入する偽信号や雑音のためにS/Nが劣化
するという問題を抱えている。この問題を解決する方法
として、光電変換部のそれぞれに信号電荷電圧変換アン
プを配置し、信号電荷を転送することなしに直接的に信
号電圧として取り出す方式の、いわゆる画素増幅型固体
撮像素子が提案されている。このような画素増幅型固体
撮像素子に関しては、特願昭63−199491号があ
る。
〔発明が解決しようとする課題〕
上記画素増幅型固体撮像素子では、光電変換後の光ダイ
オードの電位から光ダイオードのリセ。
ト後の電位を減算して信号電圧を得るものであるため、
ソースフォロワMO3FETのしきい値電圧のバラツキ
を相殺させることができる。しかしながら、光ダイオー
ドのリセット時にその容量値の平方に比例するリセット
雑音が発生する。このため、信号の増幅度を高くしても
感度向上の限界が上記リセット雑音で決定されてしまう
という問題を残している。
この発明の目的は、リセット雑音を抑圧して高感度化を
可能とした画素増幅型固体撮像素子を提供することにあ
る。
この発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴は
、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであ
ろう。
〔問題点を解決するための手段] 本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、下記の通りである。
すなわち、光ダイオードにより形成された信号電荷を電
荷転送電極により増幅素子に転送するとき、第1のタイ
ミングにおいてリセット用スイッチ素子を動作させて上
記増幅素子の入力端子をリセットするとともにそのリセ
ット電圧を読み出し、第2のタイミングにおいて上記電
荷転送電極を制御して上記光ダイオードにより形成され
た信号電荷を増幅素子の入力端子に転送してそれに対応
した信号電圧を読み出し、上記リセット電圧に対応した
電圧と信号電荷に対応した電圧との差分を出力させる。
〔作 用〕
上記した手段によれば、リセット電圧に対応した電圧か
ら信号電荷に対応した電圧を減算するときにリセット雑
音を相殺させることができるから高感度化が可能となる
〔実施例〕
第1図には、この発明が適用されたカラー用の画素増幅
型固体撮像素子の一実施例の要部回路図が示されている
。同図では、代表として例示的に示された3行、3列分
の画素アレイとその選択回路及び信号読み出し回路が示
されている。また、同様な回路の繰り返しであり、回路
図の簡素化のために、1つの画素セルとその選択回路を
構成する回路素子についてのみ回路記号を付加するもの
である。上記固体撮像素子を構成する各回路素子は、公
知の半導体集積回路の製造技術によって、特に制限され
ないが、単結晶シリンコンのような1個の半導体基板上
において形成される。
上記固体撮像素子は、次の各回路より構成される。代表
として例示的に示された1つの画素セルは、回路的には
アノード側電極が回路の接地電位に結合されたフォトダ
イオードDIと、そのフォトダイオードD1のカソード
側電極を増幅素子(MOSFET)Q2の入力端子に接
続させるスイッチMO5FETQIと、上記増幅MO3
FETQ2の入力端子であるゲートにリセット電圧VR
5を与えるリセット用MO3FETQ4と、上記増幅M
O3FETQ2のトレインに動作電圧VDDを与える選
択MO3FETQ3とから構成される。
上記フォトダイオードD1と転送ゲートMO5FETQ
1を含む概略素子構造断面図を第5図に示す。MO3F
ETQIは、MO3FETQ4によりVR5電位を印加
することで形成されたポテンシャル井戸に光ダイオード
D1で形成された信号電荷を転送するために設けられて
いる。また、フォトダイオードD1は、その表面にP”
が形成された埋め込み型であり、それにより形成された
信号電荷を電荷転送電極を制御して取り出す際に完全空
乏化するよう構成される。このような信号電荷の取り出
しによりフォトダイオードD1の実質的なりセントが行
われ、そのリセットの際にはリセット雑音が生しない。
第1図において、上記電荷転送電極を構成するスイッチ
MO5FETQIのゲートは、横方向に延長して配置さ
れる第1の行選択線(垂直走査線)HLIに結合される
。同じ行に配置された他の画素セルの同様なスイッチM
OSFETのゲートも上記第1の行選択線HLIに共通
に接続される。上記リセットMO5FETQ4のゲート
は、横方向に延長して配置される第2の行選択線(垂直
走査線)HL2に結合される。同じ行に配置された他の
画素セルの同様なリセットMO3FETのゲートも上記
第2の行選択線HL2に共通に接続される。上記選択M
OSFETQ3のゲートは、横方向に延長して配置され
る第3の行選択線(垂直走査線)HL3に結合される。
同じ行に配置された他の画素セルの同様な選択MOS 
F ETのゲートも上記第3の行選択線HL3に結合さ
れる。
これらの第1〜第3の行選択線HLI〜HL3は、読み
出し用垂直シフトレジスタVSRにより形成された行選
択信号VSIを共通に受ける行選択MO3FETQ20
〜Q22により選択される。選択MO3FETQ20は
電圧VGを伝え、選択MO5FETQ21はリセット信
号R5を伝え、選択MO3FETQ22は奇数列選択信
号■3を伝える。このことは、後述するような2行同時
読み出しに対応している。
例示的に示されている残り2つの行においても同様な構
成の画素セルと、その行選択回路が設けられる。これら
の行選択回路には、上記垂直シフトレジスタVSRによ
り形成された行選択信号VS2.VS3が供給される。
上記増幅MO3FETQ2のソースは、縦方向に延長し
て配置される列信号線(垂直信号線)VB2に結合され
る。同し列に配置される奇数行の画素セルの同様な増幅
MO3FETのソースも上記列信号線VL3に結合され
る。そして、同じ列に配置される偶数行の画素セルの同
様な増幅MO3FETのソースは、列信号線VL4に結
合される。このことは、後述するような2行同時読み出
しに対応している。
特に制限されないが、同じ列に配置されるリセット用M
O3FETQ4のドレイン側は、縦方向に延長されるリ
セット電圧線V L 1に結合される。
他の同じ列に配置される他の画素セルの同様なり七ノド
MO3FETのドレインもそれぞれの列に対応して縦方
向に延長されるリセット電圧線に接続される。そして、
これらの複数からなるリセット電圧線は、リセット電圧
端子VR5に共通に接続される。このリセット電圧端子
VRSには、外部から所定のりセント電圧が供給される
特に制限されないが、同し列に配置される選択MO3F
ETQ3のドレイン側は、縦方向に延長される動作電圧
線VL2に結合される。他の同じ列に配置される他の画
素セルの同様な選択MO3FETのドレインもそれぞれ
の列に対応して縦方向に延長される動作電圧線に接続さ
れる。そして、これらの複数からなる動作電圧線は、動
作電圧端子VDDに共通に接続される。この動作電圧端
子VDDには、外部から所定の動作電圧が供給される。
上記代表として例示的に示されている列信号線VL3と
VB4は、一端(同図では上側)においてスイッチMO
5FETQI6.Q17を介して回路の接地電位が与え
られる。他の列に対応して設けられる列信号線にも同様
なスイッチMO5FETが設けられる。これらのスイッ
チMO3FETQI6.Q17等のゲートは、端子CR
Iに接続される。この端子CRIには、外部から所定の
タイミングによりキャパシタリセント信号が供給される
この実施例の画素セルには、カラー撮影を行うために、
特に制限されないが、第1行目の第1列と2列の画素セ
ルにはグリーンGとホワイト(透明)Wのカラーフィル
タが形成され、第2行目の第1列と第2列の画素セルに
はイエローYeとシアンCyのカラーフイフィルタが形
成される。上記4つからなる画素セルを構成を基本パタ
ーンとして同様なパターンの繰り返しでにより、各カラ
ーフィルタが形成される。
この実施例では、上記のようなフォトダイオードD1等
の光電変換信号をソースフォロワ増幅MO3FETQ2
やリセットMO5FETQ4における素子特性のプロセ
スバラツキの影響を受けることなく、しかもリセット時
のりセント雑音の影響を受けることなく増幅して出力さ
せるために次のような出力回路か付加される。
上記代表として例示的に示されている列信号線VL3と
VL4は、キャパシタC1と02の一方の電極に結合さ
れる。これらのキャパシタC1とC2の他方の電極は、
一方においてスイッチM○5FETQI 2とQ13を
介して横方向に延長されるバイアス電圧線に結合される
。このバイアス電圧線はバイアス電圧端子■SSに結合
される。
このバイアス電圧端子■SSには、外部から適当なバイ
アス電圧が供給される。上記スイッチMO3FETQI
 2とQ13のゲートは、共通に結合されて端子CR2
から供給される制御信号(キャバシタリセント)によ・
リスイッチM<卸される。端子CR2には、上記キャパ
シタC1,C2等を所定の電位にリセットさせるための
タイミング信号が供給される。
上記のキャパシタC1とC2の他方の電極は、他方にお
いてスイッチMO3FETQIOとQllをそれぞれ介
してキャパシタC3とC4の一方の電極に接続される。
これらのキャパシタC3とC4の他方の電極は回路の接
地電位点に結合される。上記キャパシタC3とC4に保
持された電圧は、水平選択用のスイッチMO3FETQ
I 4とQ15を介して横方向に延長される出力信号線
にそれぞれ結合される。上記スイッチMOS F ET
Q14に対応された出力信号線は、端子Gに結合される
。端子Gとグリーンのカラー画素信号を出力する。上記
スイッチMO3FETQ15に対応された出力信号線は
、端子Yeに結合される。端子Yeはイエローのカラー
画素信号を出力する。
上記スイッチMO3FETQI 4及びQ15のゲート
には、水平シフトレジスタH3Rにより形成される水平
選択信号H3Iが供給される。
第2列目の列信号線もそれに対応した2つのキャパシタ
の一方の電極に結合される。これらのキャパシタの他方
の電極は、一方においてスイッチMO3FETQを介し
て上記横方向に延長されるバイアス電圧線に結合される
。上記スイッチMO5FETQのゲートは、共通に結合
されて上記同様に端子CR2から供給される制御信号に
よりスイッチ制御される。
上記の2つのキャパシタの他方の電極は、他方において
スイッチMOS F ETをそれぞれ介して出力用の2
つのキャパシタの一方の電極に接続される。これらの出
力用のキャパシタの他方の電極は回路の接地電位点に結
合される。上記出力用のキャパシタに保持された電圧は
、水平選択用のスイッチMO5FETを介して横方向に
延長される出力信号線にそれぞれ結合される。奇数行に
対応したスイッチMO5FETに対応された出力信号線
は、端子Wに結合される。端子Wはホワイトのカラー画
素信号を出力する。上記偶数行に対応したスイッチMO
3FETに対応された出力信号線は、端子cyに結合さ
れる。端子cyはシアンのカラー画素信号を出力する。
これらのスイッチMO3FETのゲートには、水平シフ
トレジスタH3Rにより形成される水平選択信号H32
が供給される。
上記第1図の固体撮像素子の読み出し動作の一例を第2
図に示した等価回路図と第3図に示したタイミング図を
参照して説明する。
第2図には、フォトダイオードD1とMO3FETQ1
ないしQ4からなる画素セルに着目した読み出し等価回
路図が示されている。
フォトダイオードD1からの信号電荷の読み出しの前に
、端子CRIとCR2のキャパシタリセット信号、及び
端子C3Iのタイミング信号がハイレベルにされる。こ
れにより、MO3FETQ工0、Q12及びQ16がオ
ン状態にされ、列信号線VL3には回路の接地電位が与
えられるがらキャパシタC1と02にはそれぞれバイア
ス電圧vSSによりチャージアップされる。これにより
、列信号線VL3の電位Va、言い換えるならばキャパ
シタCIの入力側電極の電位Vaは接地電位GNDに、
キャパシタc3の電圧vbはバイアス電圧VSSにされ
る。
端子CRIのキャパシタリセット信号CRIをロウレヘ
/L、?こし、端子R8のリセット信号をハイレベルに
する。これにより、図示しない第1行目の行選択信号V
SIのハイレベルに応してオン状態にされるスイッチM
O3FETQ21を介して第2の列選択線HL2にリセ
ット信号R3のハイレベルが伝えられる。これにより、
増幅MO3FETQ2の入力端子(ゲート)における入
力容量CPは電圧VR3にリセットされる。そして、上
記端子R3のリセット信号をロウレベルにして、MOS
 F ETQ 4をオフ状態にするとき、そのオフ状態
のときにおけるキャパシタCPの電位にリセット雑音に
重畳させて保持されてしまう。
次に、タイミング信号V3がハイレベルにされると、上
記行選択信号VS1のハイレベルに応じて第3の行選択
線HL3がハイレベルとなり、画素セルの選択MO3F
ETQ3がオン状態になり、増幅MO5FETQ2のド
レインに動作電圧VDDが供給される。これにより、上
記フローティングにされた列信号線VL3の電位は、上
記リセット電圧VR5に基づいた読み出し電圧VDD’
 にチャージアップされる。
端子CR2のキャパシタリセット信号と上記タイミング
信号V3とをロウレベルにし、端子CR1のキャパシタ
リセット信号をハイレベルにする。
上記端子CR2のキャパシタリセット信号のロウレベル
により、MO3FETQI 2がオフ状態となり、キャ
パシタC1の出力側の電極とキャパシタC3の一方の電
極(Vb)がフローティングにされる。タイミング信号
V3のロウレベルにより選択MO5FETQ3がオフ状
態にされる。
そして、上記端子CRIのキャパシタリセット信号のハ
イレベルに応じてMO3FETQI 6がオン状態とな
り、フローティング状態にされた列信号線VL3の電位
を回路の接地電位にする。これにより、キャパシタC1
の入力側の電極の電位Vaが回路の接地電位(GND)
となり、それに応じて上記キャパシタC1の出力側の電
極及びキャパシタC3の保持電圧vbは、上記MO3F
ETQIOがまだオン状態を維持するものであるから上
記バイアス電圧■SSからキャパシタCIとC3の容置
比に応して分割された電圧VDD”だけ低下した電圧(
■5S−vDD”)となる。
端子CRIのキャパシタリセット信号をロウレベルにし
、端子V3と端子VGのタイミング信号をハイレベルに
する。上記端子CRIOロウレヘルレベりMO3FET
Q16がオフ状態となり、列信号線はフローティング状
態にされる。そして、端子VGのハイレベルにより行選
択信号VS1のハイレベルにより端子VGのタイミング
信号はそれに対応した第1行目の第1の行選択線HLI
に伝えられ、電荷転送電極としてのスイッチMO3FE
TQIがオン状態となり、フォトダイオードD1に蓄積
された信号電荷を入力容量CPに転送する。ここで、上
記信号電荷量をQPとすると、入力容量CPの電位をv
pとするとVP=QP/CPとなる。そして、上記タイ
ミング信号V3のハイレベルが上記第3の行選択1HL
3に伝えられ、再び選択MO3FETQ3がオン状態に
なる。
これにより、上記信号電荷QPに対応した電圧VPが列
信号線VL3に出力される。
この列信号線VL3の電圧VPは、上記キャパシタCI
とC2の容量比に応して分割された電圧VPD”だけキ
ャパシタC2の電圧vbを上昇させる。
すなわち、同図に示すようにキャパシタC2に取り込ま
れる電圧vbは、VSS−(VDD”VPD”となる。
別の観点から説明すると、キャパシタC2に出力される
電圧を■0とし、増幅MO3FETQ2のゲインをAと
おくと、次式(1)で表される。
Vo=A・ (CI/C1+C2) X (VSS−(VDD−VP))   (11ここで
、各信号は、リセット電圧と信号電圧とは完全に同一経
路を通して読み出すものであるため、ソースフォロワア
ンプである増幅MO3FETに係わるしきい値電圧も式
(1)で表されるように差動演算(VDD−VP)によ
り相殺される。現状において、約40万もの画素で受光
部が構成されるが、製造上のしきい値電圧にバラツキが
生じても映像信号としての問題を完全に無くすことがで
きる。
また、入力容量CPをリセット動作のときには、(kT
CP)””で表されるリセット雑音電荷が発生するが、
この雑音は信号電圧VPに含まれるものであるため、上
記同様に式(11で表されるような差動演算(VDD−
VP)により相殺させることができ、極めてS/Nの高
い映像信号■0を得ることができる。
列信号線に結合されるキャパシタCI等は、増幅MO3
FETQ2等のソース側に結合される。
これらのMOSFETのソースは、寄生フォトダイオー
ドを構成するためスメアといったような偽信号がたまり
易い。この実施例では、読み出し用のキャパシタC1で
はなく、出力キャパシタC3等に読み出し電圧を保持さ
せて出力させるものであるため、これらの偽信号の影響
を受けなくすることができる。
第3図における上記画素セルからキャパシタへの信号読
み出しを行う各タイミング信号は、水平帰線期間におい
て発生される。
なお、第1図において、行選択線vSIとvS2とを同
時選択するとともに、タイミング信号V4をタイミング
信号v3と同時に発生すれば、第1行と第2行の画素信
号の同時読み出しが可能になる。そして、次のフィール
ドでは第2行と第3行とを同時選択するようにすれば、
奇数と偶数フィールドとの空間的重心が1行だけずれる
ものであるからインクレースモードでのカラー映像信号
の読み出しが可能になる。
上記のような行選択信号の同時選択の組み合わせは、イ
ンタレースゲート回路を設けて、垂直シフトレジスタに
より形成された垂直走査選択信号を奇数と偶数フィール
ドとで画素アレイの同時選択行を異ならせるようにする
ことによって簡単に構成できるものである。
第1図の実施例においては、特に制限されないが、感度
可変機能を付加するために、感度制御用の垂直シフトレ
ジスタVSREが設けられる。この垂直シフトレジスタ
VSREの出力信号は、前記同様なスイッチMO3FE
TQI 8、C19を介して、フォトダイオードの信号
電荷を転送(掃き出し)させる第1の行選択線HLIと
増幅MO5FETの入力端子に転送された電荷をリセッ
トさせる第2の行選択線HL2に伝えられる。端子VG
Eと端子RESは、これらのリセット動作に対応した電
圧及びタイミング信号が供給される。
なお、上記のように読み出し用の垂直シフトレジスタに
対してインクレースゲート回路が設けられるのなら、そ
れに対応して上記垂直ソフトレジスタVSREにも同様
な、インクレースゲート回路が設けられる。これらの感
度制御用の各回路は、特に制限されないが、上記画素ア
レイPDに対して右側に配置される。この感度設定用の
垂直シフトレジスタVSREは、上記読み出し用の垂直
シフトレジスタVSRと同様な回路により構成される。
この場合、上記読み出し用の垂直シフトレジスタVSR
と上記感度可変用の垂直シフトレジスタV S R,E
とを同期したタイミングでのシフト動作を行わせるため
、図示しないが同じクロック信号が供給される。
次に、この実施例の固体撮像装置における感度制御動作
を説明する。
説明を簡単にするために、上記ノンインクレースモード
による垂直走査動作を例にして、以下説明する。例えば
、感度制御用の垂直シフトレジスタVSREによって、
読み出し用の垂直シフトレジスタVSRによる第1行目
L1の読み出しに並行して、第3行目し30選択動作を
行わせる。これによって、上記水平帰線期間では第1行
目L1からの読み出しと並行して第3行目L3の画素セ
ルがリセット(信号電荷の掃き出し)される。
したがって、上記垂直走査動作によって、読み出し用の
垂直シフトレジスタVSRによる第3行目L3の読み出
し動作は、上記第1行と第2行の読み出し動作の後に行
われるから、第3行目に配置される画素セルのフォトダ
イオードの蓄積時間は2行分の画素セルの読み出し時間
となる。
上記に代えて、感度制御用の垂直シフトレジスタVSR
Eによって、読み出し用の垂直シフトレジスタVSRに
よる第1行目L1の読み出しに並行して、第2行目L2
の選択動作を行わせる。これによって、上記水平帰線期
間では第1行目L1からの読み出しと並行して第2行目
L2の画素セルかりセットされる。
したがって、上記垂直走査動作によって、読み出し用の
垂直シフトレジスタVSRによる第2行目L2の読み出
し動作は、上記第1行の読み出し動作の後に行われるか
ら、第2行目に配置される画素セルのフォトダイオード
の蓄積時間は1行分の画素セルの読み出し時間となり、
上記の場合の1/2になり、感度を1/2に低くできる
上述のように、感度制御用の垂直シフトレジスタVSR
E等の走査回路によって行われる先行する垂直走査動作
によってその行の画素セルがリセットされるから、その
リセット動作から上記読み出し用の走査回路による実際
な読み出しが行われるまでの時間が、フォトダイオード
に対する蓄積時間とされる。したがって、ノンインクレ
ースモードでいうならば、525行からなる画素アレイ
にあっては、上記両垂直走査回路による異なるアドレス
指定と共通の水平走査回路による画素セルの選択動作に
よって、1行分の読み出し時間を華位(最小)として最
大525までの多段階にわたる蓄積時間、言い換えるな
らば、525段階にわたる感度の設定を行うことができ
る。ただし、受光面照度の変化が、上記1画面を構成す
る走査時間に対して無視でき実質的に一定の光がフォト
ダイオードに入射しているものとする。なお、最大感度
(525)は、上記感度制御用の走査回路は非動作状態
のときに得られる。
第4図には、この発明が適用されたカラー用の画素増幅
型固体撮像素子の一実施例の要部回路図が示されている
。同図では、代表として例示的に示された3行、3列分
の画素アレイとその選択回路及び信号読み出し回路が示
されている。また、基本的には前記第1図の実施例と同
様であるので、回路素子に対する回路記号を省略するも
のである。
この実施例では、第1図の画素セルにおける選択用MO
3FETQ3が省略された構成になっている。すなわち
、1つの画素セルは回路的には3つのMOS F ET
と1つのフォトダイオードから構成される。この実施例
の行選択動作は、端子R5(PSE)と端子VR3によ
り行う。すなわち、増幅MO5FETQ2のゲート電圧
を、非選択期間中にVR3電位により、そのしきい値電
圧以下にリセットすれば、ソースフォロワアンプ(増幅
MO5FET)Q2の動作を停止させることができ、行
選択が行える。
また、1つの列に並べられる画素セルの増幅MO3FE
Tのソースは、その左右に縦方向に配置される一対の列
信号線に交互に接続される。これにより、2行同時選択
してカラー画素信号の読み出しが行われる。このときも
、前記のようなインクレースゲート回路により、その組
み合わせを奇数フィールドと偶数フィールドとで異なら
せるようにして、インクレースモードでのカラー画像信
号を得ることができる。
また、読み出し信号は、各列信号線に設けられたキャパ
シタから直接に行うようにするものである。すなわち、
水平帰線期間において列信号線に前記第1の実施例と類
似の動作により、リセット電圧の極性を逆にして列信号
線のキャパシタに取り込み、その後に読み出しと信号電
荷に対応した電圧を取り込むことより差動演算を行った
信号電圧を、映像期間において水平シフトレジスタH3
Rにより形成される水平走査信号に同期して時系列的に
出力させるものである。
この構成において、出力回路のキャパシタの数やそのリ
セット等のスイッチMOS F ETが省略できるから
回路素子数の低減を図ることができるものとなる。なお
、この実施例においても前記実施例と同様に感度設定用
の垂直シフトレジスタ■SREとそれに対応した行選択
スイッチMO3FETが設けられる。
上記の実施例から得られる作用効果は、下記の通りであ
る。すなわち、 (1)光ダイオードにより形成された信号電荷を電荷転
送電極により増幅素子に転送するとき、第1のタイミン
グにおいてリセット用スイッチ素子を動作させて上記増
幅素子の入力端子をリセットするとともにそのリセット
電圧を読み出し、第2のタイミングにおいて上記電荷転
送電極を制御して上記光ダイオードにより形成された信
号電荷を増幅素子の入力端子に転送してそれに対応した
信号電圧を読み出し、上記リセット電圧に対応した電圧
と信号電荷に対応した電圧との差分を出力させることに
より、同一経路での読み出しにより増幅素子のプロセス
バラツキの影響を排除するとともに、リセット雑音を相
殺させることができるから高感度化が可能となるという
効果が得られる。
(2)出力キャパシタを設けて、画像信号を保持する構
成を採ることによって、差分の電圧信号を形成するキャ
パシタが接続される列信号線における増幅素子等のソー
ス側において発生するスメアといったような偽信号の影
響を受けなくすることができるという効果が得られる。
(3)1行又は2行分の画素セルからの画素信号を水平
3:4線期間にパラレルに同時に読み出し用のキャパシ
タに転送させるものであるため、水平選択回路の負荷が
軽くなり、水平シフトレジスタの簡素化が可能になると
ともに水平シフトレジスタ動作に伴うスイノチノイスの
混入を最小にできるという効果が得られる。
(4)リセット電圧と信号電荷に対応した電圧の差分の
電圧を形成するキャパシタから直接的に出力信号を得る
ことにより、出力回路の簡素化を図ることができるとい
う効果か得られる。
以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は上記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。例えば、画素セルに設け
られる増幅素子としてはMOSFETの他、JFETや
BJTを用いるものであってもよい。このように、増幅
トランジスタやスイッチ素子としては高入力インピーダ
ンスのものであればよい。
前記実施例ではカラー撮像素子を例にして説明したが、
モノクロ撮像素子として利用するものであってもよい。
また、画素セルを実質的に1行に配置してラインセンサ
を構成するものであってもよい。
この発明は、画素増幅型固体撮像素子としで広く利用で
きるものである。
〔発明の効果〕
本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単ムこ説明すれば、下記の通りであ
る。すなわち、光グイオートにより形成された信号電荷
を電荷転送電極により増幅素子に転送するとき、第1の
タイミングにおいてリセット用スイッチ素子を動作させ
て上記増幅素子の入力端子をリセットするとともにその
リセット電圧を読み出し、第2のタイミングにおいて上
記電荷転送電極を制御して上記光ダイオードにより形成
された信号電荷を増幅素子の入力端子に転送してそれに
対応した信号電圧を読み出し、上記リセット電圧に対応
した電圧と信号電荷に対応した電圧との差分を出力させ
ることにより、同一経路での読み出しにより増幅素子の
プロセスバラツキの影響を排除するとともに、リセット
雑音を相殺させることができるから高感度化が可能とな
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は、この発明が適用された画素増幅型固体撮像素
子の一実施例を示す要部回路図、第2図は、その読み出
し動作を説明するための等価回路図、 第3図は、その読み出し動作の一例を説明するためのタ
イミング図、 第4図は、この発明が適用された画素増幅型固体撮像素
子の他の一実施例を示す要部回路図、第5図は、フォト
ダイオードと電荷転送電極の一実施例を示す概略素子構
造断面図である。 VSR・・読み出し用垂直シフトレジスタ、VSRE・
・感度設定用の垂直シフトレジスタ、H3P・・水平シ
フトレジスタ、PD・・画素アレイ。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、光ダイオードにより形成された信号電荷を転送する
    電荷転送電極と、この電荷転送電極により光ダイオード
    から転送された信号電荷を入力端子に受ける増幅素子と
    、この増幅素子の入力端子をリセットするスイッチ素子
    とを含む画素セルを複数個備え、第1のタイミングにお
    いて上記スイッチ素子を動作させて増幅素子の入力端子
    をリセットしてリセット電圧を読み出し、第2のタイミ
    ングにおいて上記電荷転送電極を制御して上記光ダイオ
    ードにより形成された信号電荷を増幅素子の入力端子に
    転送してそれに対応した信号電圧を読み出し、上記リセ
    ット電圧に対応した電圧と信号電荷に対応した電圧との
    差分を出力させる出力回路とを備えてなることを特徴と
    する画素増幅型固体撮像素子。 2、上記上記リセット電圧に対応した電圧と信号電荷に
    対応した電圧との差分を得る回路は、上記増幅素子の出
    力ノードに一方の電極が接続されたキャパシタを含み、
    上記第1のタイミングにおいてキャパシタの他方の電極
    に所定の電位を与えた状態でリセット電圧に対応した電
    圧を取り込み、上記キャパシタの他方の電極をハイイン
    ピーダンス状態にして一方の電極側を回路の接地電位点
    にした後に上記第2のタイミングで信号電荷に対応した
    電圧を供給して、他方の電極側から出力電圧を得ること
    を特徴とする特許請求の範囲第1項記載の画素増幅型固
    体撮像素子。 3、上記第2のタイミングにキャパシタの他方の電極か
    ら出力される電圧は、一方の電極が回路の接地電位に結
    合された出力キャパシタに伝えられ、この出力キャパシ
    タに保持された信号電圧が走査回路により形成されたタ
    イミング信号によりスイッチ制御されるスイッチ素子を
    介して時系列的に出力されるものであることを特徴とす
    る特許請求の範囲第2項記載の画素増幅型固体撮像素子
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