JPH0461359A - 1/0パッドセルの配置方法 - Google Patents

1/0パッドセルの配置方法

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JPH0461359A
JPH0461359A JP17356790A JP17356790A JPH0461359A JP H0461359 A JPH0461359 A JP H0461359A JP 17356790 A JP17356790 A JP 17356790A JP 17356790 A JP17356790 A JP 17356790A JP H0461359 A JPH0461359 A JP H0461359A
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JP
Japan
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cell
pad
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cells
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Pending
Application number
JP17356790A
Other languages
English (en)
Inventor
Satoru Kishida
悟 岸田
Yoshinori Kurimoto
昌憲 栗本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP17356790A priority Critical patent/JPH0461359A/ja
Publication of JPH0461359A publication Critical patent/JPH0461359A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/0554External layer
    • H01L2224/0555Shape
    • H01L2224/05552Shape in top view
    • H01L2224/05554Shape in top view being square
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • H01L2224/491Disposition
    • H01L2224/4912Layout
    • H01L2224/49175Parallel arrangements

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  • Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、既存のフレームを再利用して新規のLSIチ
ップを設計製造する際に用いられるI/Oパッドセルの
配置方法に関するものである。
〔従来の技術〕
第8図は、従来のLSIチップの設計製造の過程を示す
フローチャートである。以下、この第8図を参照して従
来の設計製造過程について説明する。
まず、LSIチップの設計仕様において、そのチップの
ビン数を決定する(ステップ321)。ビン数を決める
と、次にこのビン数に合ったパンケージを選択する(ス
テップ522)。ある特定の機能を実行するための内部
回路を設計した後(ステップ523) 、外部信号との
入出力のための170バツドセルをこの内部回路の周辺
に、ビン数または面積などを考慮しながら配置して、チ
ップ設計を終了する(ステップ524)、1次いで、チ
ップの大きさ、形状及び選択したパンケージに適合する
ように、フレームを新規に設計し直した後(ステップ5
25) 、パンケージングを行ってLSIチップの設計
製造を完了する。
〔発明が解決しようとする課題〕
上述したような設計製造過程にあっては、新しいLSI
チップを設計する毎にそのフレームも新規に設計する必
要があり、設計時間またはコストの点において無駄が多
い上いう問題点があった。
本発明はかかる事情に鑑みてなさねたものであり、既存
のフレームに適合させてI/Oバッドセルを配置するこ
とが可能であり、従来のようにLSIチップの設計の度
にフレームを新規に設計し直す必要がなく、LSIチッ
プの設計時間及び設計コストを大幅に低減できるI/O
バッドセルの配置方法を捷供することを目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
本発明に係るI/Oバンドセルの配置方法は、既存のフ
レームの各インナーリードからのワイヤリングが可能で
あるような領域をLSIチップにおいて求め、この領域
にI/Oパッドセルを仮配置し、I/Oバッドセルの位
置及び各1/Oバツドセルへのワイヤリングが所定の条
件を満たすように、仮配置したI/Oパッドセルを領域
内で移動させてT/Oパ、7Fセルの最終的な配置位置
を決定することを特徴とする7 (作用〕 本発明のI/Oバンドセルの配置方法にあっては、この
ようにして、既存のフレームに合せてI/Oバッドセル
の設置領域が設定された後、隣合う I/Oバッドセル
間の短絡及びワイヤリング同士の短絡が発生しないよう
にI/Oパッドセルの配置位置が決定される。
〔実施例〕
以下、本発明をその実施例を示す図面に基づいて具体的
に説明する。
第1図はLSIチップのI/Oパフドセルと既存のフレ
ームのインナーリードとをワイヤボンディングした状態
を示す平面図である。図中5は、ある特定の機能を実行
する内部回路6が中央に形成されるLSIチップを示す
。LSIチップ5の周縁部には内部回路を取り囲む態様
にて複数個のT/Oバツドセル1が設けられており、L
SIチップ5の周縁はダイパッド3にて被覆されている
。LSIチップ5から適長離晴させた、各1/Oバツド
セル1に対向する位置には、既存のフレーム(図示せず
)の複数本のインナーリード2が配置されている。そし
て、対応する各インナーリード2と各1/Oバツドセル
1とはワイヤ4によりワイヤボンディングされている。
第2図は、本発明を利用して1、Slチップを設計製造
する過程を示すフローチャートであり、以下、このLS
Iチップの設計製造過程について第2図を参照して説明
する。
まず、LSIチップの設計仕様において、ピン数を決定
する(ステップ511)。次に決定したピン数に応じて
、ピン数が適合する範囲内にてパッケージを選択した後
(ステップ512)、ある特定の機能を実行するための
内部回路を設計する(ステップ513)。次いで、選択
したバフケージに合セで使用する既存のフレームを選択
する(ステップ514)。1つのパッケージに対して通
常複数の既存のフレームが存在するが、本発明ではこれ
らの既存のフレームから、チップの大きさ及び形状を考
慮して最適な既存のフレームを1個または複数個選択す
る。そして、パッケージの形状及びピン数の制限を満た
、しながら、 I/Oパッドセルlの配置位置を決定す
る(ステップ315〜519)。
以下、本発明の要旨である1/Oパ、ドセルの配置手順
について説明する。なお、以下の説明では1個の最適な
既存のフレームを選択したとする。
第3図〜第6図はこの手順を説明するための第1図の部
分拡大図である。
フレームを選択した後のステップS15の動作内容につ
いて説明する。まず、選択したフレームの各インナーリ
ード2に対してどのようなT/Oバツドセル1を対応さ
せるかという情報を、使用可能なすべてのT/Oバツド
セル1を予め格納しであるライブラリの中から任意に選
んで指定する。この際、各インナーリード2に対応する
I/OパッドセルlをLSIチップ5上の任意の位置に
配置できるわけではなく、アセンブリの設計基準により
その配置位置は限定される。ここでのアセンブリの設計
基準は、例えば以下に示す3点である。
■ワイヤ4のたるみによる短絡を防止するためのワイヤ
リングの長さの上限(第3図における距離1) ■ワイヤ4の断線等を防止するためのインナーリード2
の両端とワイヤ4との間隔の下限(第3図における距離
d+) ■LSIチップ5.  I/Oパッドセル1間の短絡を
防止するためのLSIチップ50辺縁とI/Oバッドセ
ルlとの間隔の下限(第3図における距Bdt>各イン
ナーリード2に対して以上の3点の条件を満足する領域
を算出して、この領域(第3図にハンチングを付した領
域A)をI/Oパッドセル1の配置可能領域とする。
次いで、夫々の配置可能領域A内に各I/Oパッドセル
1を仮配置し、その後下記の(1)〜(2)の条件を満
足するように配置可能領域A内において各1/Oバツド
セル1を移動させ、2条件を満足する任意の位置に各1
/Oバンドセル1を配置する(ステップS16〜519
)。
(11隣合う I/Oバッドセル1同士の短絡を防止す
るために、各1/Oパツドセル1は、隣合う I/Oパ
ッドセル1からアセンブリの設計基準にて定められる最
小間隔(第4図における距1i1d)以上の距離を隔て
て配置しなければならない。
(2)各I/Oパッドセル1にボンディングされるワイ
ヤ4は、他のI/OバッドセルIにボンディングされる
ワイヤ4から一定の間隔を保っていなければならない。
そして、条件(1)を満足していない隣合った2個のI
/Oパッドセル1がある場合には(ステップ816:Y
ES)、両者の間隔を広げるように、一方または両方の
I/Oパッドセル1を、LSIチップ5の辺縁に平行な
方向く第5図における矢符方向)に移動させる(ステッ
プ517)。なお、この際条件(11を満たすように、
また配置可能領域Aから出ないようにI/Oバンドセル
1を移動させる必要がある。
すべてのI/Oバフドセル1について条件(1)が満足
すると(ステップ316:No)、ステップ31Bへ進
む、そして、条件(2)を満足していない部分がある場
合には(ステップ318:YES) 、その部分の両端
の170パッドセル1,1が遠ざかるように、一方また
は両方のI/Oパッドセル1を、LSIチップ5の辺縁
に垂直な方向(第6図における矢符方向)に移動させる
(ステップ519)。なお、この際条件(2)を満たす
ように、また配置可能領域Aから出ないようにI/Oバ
ッドセル1を移動させる必要がある。
以上のようにして、各1/Oバツドセル1の配置を完了
する。本発明のI/Oパッドセル1の配置方法では、前
記■〜■、 (1)、 (2)の各条件を満たすように
各1/Oパツドセル1を配置するので、既存のフレーム
を使用した場合にあっても、短絡を完全に防止したLS
Iを設計製造することが可能である。
ところで、平行移動により前記+11. (21の各条
件を満足し得ない場合には、I/Oパッドセル1を回転
させてその方向を変えたり、チップの大きさを増減させ
たり、フレームを変更したりするようにしても良い。
また、予め特定のI/Oバフドセル1の方向または絶対
位置を指定しておいても、本発明を適用することは可能
である。
なお、上述の実施例では1個のフレームを選択した例に
ついて説明したが、複数個のフレームを同時に利用する
こととしても良い。このような場合には、夫々のフレー
ムのインナーリードに対する!/Oパッドセルの配置可
能領域(第7図における実線内の領域B及び破線内の領
域C)を算出し、その共通領域(第7図におけるハンチ
ングを付した領域A)をI/Oパフドセル1の配置可能
領域とするようにすれば良い。
〔発明の効果〕
以上詳述したように本発明では、短絡を起こすことなく
既存のフレームに対してI/Oバッドセルを自動的に配
置することが可能であるので、新規にLSIを設計製造
する際に既存のフレームを使用できる。この結果、従来
のようにチップを設計する度に新規にフレームを設計し
直すことが不要となり、また複数のフレームについてど
ちらにも使用可能なr/Oバッドセルの配置を実現でき
、設計時間及び設計コストの大幅な低減を図ることが可
能である等、本発明は優れた効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
第1図はI/Oバッドセルとインナーリードとをワイヤ
ボンディングした状態を示す平面図、第2図は本発明を
利用したLSIの設計製造過程を示すフローチャート、
第3図〜第7図は本発明を説明するための第1図の部分
拡大図、第8図は従来のLSIの設計製造過程を示すフ
ローチャートである。 1・・・I/Oバッドセル 2・・・インナーリード3
・・・ダイパッド 4・・・ワイヤ 5・・・LSIチ
ップA・・・配置可能領域 なお、図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)既存のフレームを使用するLSIチップについて
    I/Oパッドセルを配置する方法であって、前記LSI
    チップにおいて、既存のフレームの各インナーリードか
    らのワイヤリングが可能である配置可能領域を求める過
    程と、 使用するフレームが1種類である場合には この配置可能領域に、使用するフレームが複数種類であ
    る場合には各配置可能領域の共通領域に、I/Oパッド
    セルを仮配置し、I/Oパッドセルの位置及びI/Oパ
    ッドセルへのワイヤリングが所定の条件を満たすように
    、前記配置可能領域内または前記共通領域内におけるI
    /Oパッドセルの配置位置を決定する過程と を有することを特徴とするI/Oパッドセルの配置方法
JP17356790A 1990-06-29 1990-06-29 1/0パッドセルの配置方法 Pending JPH0461359A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60166993A (ja) * 1984-02-10 1985-08-30 三菱電機株式会社 単語音声認識装置
JP2010117962A (ja) * 2008-11-14 2010-05-27 Fujitsu Microelectronics Ltd レイアウト設計方法および半導体集積回路

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60166993A (ja) * 1984-02-10 1985-08-30 三菱電機株式会社 単語音声認識装置
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