JPH0461320A - 篭形ボート - Google Patents

篭形ボート

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Publication number
JPH0461320A
JPH0461320A JP17341790A JP17341790A JPH0461320A JP H0461320 A JPH0461320 A JP H0461320A JP 17341790 A JP17341790 A JP 17341790A JP 17341790 A JP17341790 A JP 17341790A JP H0461320 A JPH0461320 A JP H0461320A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafers
dummy
supporting
support
wafer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP17341790A
Other languages
English (en)
Inventor
Shinichiro Toyoda
豊田 真一郎
Yoshinari Matsushita
圭成 松下
Shigeyuki Yamamoto
山本 重之
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH0461320A publication Critical patent/JPH0461320A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は半導体ウェハ等の被処理を搭載するための篭形
ボートに関するものである。
従来の技術 以下、半導体ウェハ・ダミーウェハを複数枚支持する従
来の篭形ボートについて第3図を参照して説明する。
第3図は篭形ボートの斜視図である。同図において、1
は篭形ボート、2は支柱である。
発明が解決しようとする課題 しかしながら、従来のダミーウェハ4は、半導体ウェハ
3と同材質・同寸法のものが用いられていた。そのため
、第2図の篭形ボートの支柱の部分斜視図に示すように
支柱2に設けである半導体ウェハ3支持用溝5とダミー
ウェハ4支持用溝6aの幅が同一である。
そのため、ダミーウェハ4は熱変化及び形成膜厚によっ
て生じる歪に対する強度にばらつきがあり、CVD装置
を自動化した時は、破損による搬送トラブルが発生し易
くかつ形成膜厚管理によるダミーウェハ4の交換時期の
見極めが難しいという課題を有していた。この課題を解
決するため破損しにくいダミーウェハとして半導体ウェ
ハ3と同材質で肉厚が厚いものを採用し、熱変化及び形
成膜厚によって生じる歪に対する強度を向上させた。
そこで本発明は、半導体ウェハ3と前記ダミーウェハ4
を複数枚支持することが可能な篭形ボートを提供するも
のである。
課題を解決するための手段 本発明は、支柱2に設けであるダミーウェハ支持用の溝
の幅が半導体ウェハ支持用溝に比べ広くし、肉厚の厚い
ダミーウェハを搭載可能にした篭形ボートである。
作   用 本発明によれば、半導体ウェハ支持用溝に比べ、ダミー
ウェハ支持用溝幅が広いため、肉厚が厚いダミーウェハ
が搭載できる。
実施例 本発明の実施例について以下、図面を参照して説明する
第1図は本発明の実施例における篭形ボートの支柱2の
部分斜視図である。
同図において、2は支柱、5は半導体ウェハ3支持用溝
、6はダミーウェハ4支持用溝である。
本実施例によれば、半導体ウェハ3支持用溝5の幅Bに
比ベダミーウエハ4の支持用溝6の幅Aが広いため肉厚
の厚いダミーウェハの搭載が可能となる。CVD装置で
肉厚の厚いダミーウェハを搭載した場合、ダミーウェハ
の熱変化及び形成膜厚によって生じる歪に対する強度が
向上し、破損による搬送トラブルの低減ができる。
発明の効果 以上のように本発明によれば、篭形ボートの支柱で、ダ
ミーウェハ支持用溝幅を半導体ウェハ支持用溝幅より広
くすることにより、半導体ウェハより肉厚の厚いダミー
ウェハの使用が可能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例における篭形ボートの支柱の部
分斜視図、第2図は従来の篭形ボートの支柱の部分斜視
図、第3図は篭形ボートの斜視図である。 1・・・・・・篭形ボート、2・・・・・・支柱、3・
・・・・・半導体ウェハ 4・・・・・・従来のダミー
ウェハ、4′・・・・・・肉厚の厚いダミーウェハ 5
・・・・・・半導体ウェハ支持用溝、6・・・・・・従
来のダミーウェハ支持用溝、6・・・・・・肉厚の厚い
ダミーウェハ支持用溝。 代理人の氏名 弁理士 粟野重孝 はか1名?−−−養
狂 @1図 C−・q′ミーう工へtm漢 第3図 ? 第 2 図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  半導体ウェハ及びダミーウェハを所定のピッチ毎に複
    数枚配列して支持し、CVD膜を生成する縦型CVD装
    置に用いられる篭形ボートにおいて、半導体ウェハを支
    持する支柱の溝の幅に比し、ダミーウェハを支持する溝
    の幅を広くしたことを特徴とする篭形ボート。
JP17341790A 1990-06-29 1990-06-29 篭形ボート Pending JPH0461320A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6303874B1 (en) 1997-03-12 2001-10-16 Seiko Epson Corporation Electronic parts module and electronic equipment
CN105304538A (zh) * 2015-11-24 2016-02-03 山东华光光电子有限公司 一种2英寸芯片光刻胶剥离用花篮

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6303874B1 (en) 1997-03-12 2001-10-16 Seiko Epson Corporation Electronic parts module and electronic equipment
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