JPH0460997A - 不揮発性半導体記憶装置 - Google Patents
不揮発性半導体記憶装置Info
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- JPH0460997A JPH0460997A JP2166376A JP16637690A JPH0460997A JP H0460997 A JPH0460997 A JP H0460997A JP 2166376 A JP2166376 A JP 2166376A JP 16637690 A JP16637690 A JP 16637690A JP H0460997 A JPH0460997 A JP H0460997A
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- memory device
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- semiconductor memory
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 16
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 26
- 230000006870 function Effects 0.000 claims description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 16
- 239000000872 buffer Substances 0.000 description 11
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 3
- 101150073536 FET3 gene Proteins 0.000 description 2
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明は、出力制御信号とプログラミング用電圧との共
通端子を有し、この共通端子にプログラミング用電圧が
印加されたときに、内部の記憶セルにデータの書込みを
行なう不揮発性半導体記憶装置に関する。
通端子を有し、この共通端子にプログラミング用電圧が
印加されたときに、内部の記憶セルにデータの書込みを
行なう不揮発性半導体記憶装置に関する。
[従来の技術]
従来、この種の不揮発性半導体記憶装置として、第9図
に示す回路が知られている。
に示す回路が知られている。
複数のメモリセルアレイ1゜〜17には、Xデコーダ2
及びY選択トランジスタ群3゜〜37が接続されている
。アドレス入力端子10から入力されるアドレスA。−
A工。は、アドレスバッファ20を介してXデコーダ2
及びY選択トランジスタ3゜〜37に供給されており、
これによりXデコーダ2及びY選択トランジスタ群3゜
〜37によって任意のメモリセルが選択されるようにな
っている。
及びY選択トランジスタ群3゜〜37が接続されている
。アドレス入力端子10から入力されるアドレスA。−
A工。は、アドレスバッファ20を介してXデコーダ2
及びY選択トランジスタ3゜〜37に供給されており、
これによりXデコーダ2及びY選択トランジスタ群3゜
〜37によって任意のメモリセルが選択されるようにな
っている。
選択されたメモリセルに対しては、データ入出力端子4
゜〜47からデータ人出力バッファ8゜〜87、書込回
路6゜〜67及びY選択トランジスタ群3゜〜37を介
してデータが書き込まれ、Y選択トランジスタ群3゜〜
3゜、センスアンプ5o〜57及びデータ人出力バッフ
ァ8゜〜87を介してデータ入出力端子4゜〜47にデ
ータが読み出されるようになっている。
゜〜47からデータ人出力バッファ8゜〜87、書込回
路6゜〜67及びY選択トランジスタ群3゜〜37を介
してデータが書き込まれ、Y選択トランジスタ群3゜〜
3゜、センスアンプ5o〜57及びデータ人出力バッフ
ァ8゜〜87を介してデータ入出力端子4゜〜47にデ
ータが読み出されるようになっている。
一方、OE(出力制御信号)/Vpp(プログラム用電
源)入力端子11を介して外部から供給されたO R/
V pp倍信号、OE/vppバッファ15に入力さ
れている。OE/Vppバッファ15から出力されるプ
ログラム用電圧VPPは、書込回路6o〜67及び書込
み制御回路16に供給されている。また、OE/Vpp
バッファ15から出力される出力制御信号oeは、書込
み制御回路16に供給されている。
源)入力端子11を介して外部から供給されたO R/
V pp倍信号、OE/vppバッファ15に入力さ
れている。OE/Vppバッファ15から出力されるプ
ログラム用電圧VPPは、書込回路6o〜67及び書込
み制御回路16に供給されている。また、OE/Vpp
バッファ15から出力される出力制御信号oeは、書込
み制御回路16に供給されている。
また、CE(素子選択信号)入力端子12を介して外部
から入力された素子選択信号CEは、CEバッファ17
に入力され、ここで内部信号Ceに変換されて書込み制
御回路16に入力されるようになっている。書込み制御
回路16の出力は、書込回路6゜〜67に夫々出力され
ている。
から入力された素子選択信号CEは、CEバッファ17
に入力され、ここで内部信号Ceに変換されて書込み制
御回路16に入力されるようになっている。書込み制御
回路16の出力は、書込回路6゜〜67に夫々出力され
ている。
次にこのように構成された不揮発性半導体記憶装置の動
作について説明する。
作について説明する。
第10図は、この回路の動作を示すタイミング図である
。
。
先ず、データ書込時には、外部からOE/Vpp入力端
子11にプログラム用電圧VpPを印加すると共に、ア
ドレス入力端子10及びデータ入出力端子4゜〜47に
夫々任意のアドレス及びデータを印加する。この状態で
CE入力端子12をHレベルからLレベルへと変化させ
ると、書込み制御回路16が機能して、書込み回路6゜
〜67による1ワード(8ビツト)ずつのデータの書込
みが行われる。
子11にプログラム用電圧VpPを印加すると共に、ア
ドレス入力端子10及びデータ入出力端子4゜〜47に
夫々任意のアドレス及びデータを印加する。この状態で
CE入力端子12をHレベルからLレベルへと変化させ
ると、書込み制御回路16が機能して、書込み回路6゜
〜67による1ワード(8ビツト)ずつのデータの書込
みが行われる。
一方、データ読み出し時には、OE/VPP入力端子1
1にLレベルの信号を印加すると共に、アドレス入力端
子10に任意のアドレスを供給する。
1にLレベルの信号を印加すると共に、アドレス入力端
子10に任意のアドレスを供給する。
この状態でCE入力端子12をHレベルからLレベルへ
と変化させると、アドレスA。−A+eによって選択さ
れたメモリセルのデータがセンスアンプ5゜〜57で増
幅され、データ入出カバ・ソファ8o〜87を介してデ
ータ入出力端子4゜〜47から読み出されることになる
。
と変化させると、アドレスA。−A+eによって選択さ
れたメモリセルのデータがセンスアンプ5゜〜57で増
幅され、データ入出カバ・ソファ8o〜87を介してデ
ータ入出力端子4゜〜47から読み出されることになる
。
[発明が解決しようとする課題]
しかしながら、上述した従来の不揮発性半導体記憶装置
では、データ書込み時に、1ワード(例えば8ビツト)
ずつの書込み動作しか行うことができず、8Mビット以
上の大容量の記憶装置になると、データの書込みに長時
間を要するという問題点があった。
では、データ書込み時に、1ワード(例えば8ビツト)
ずつの書込み動作しか行うことができず、8Mビット以
上の大容量の記憶装置になると、データの書込みに長時
間を要するという問題点があった。
本発明は、かかる問題点に鑑みてなされたものであって
、高速なデータ書込みが可能な不揮発性半導体記憶装置
を提供することを目的とする。
、高速なデータ書込みが可能な不揮発性半導体記憶装置
を提供することを目的とする。
[課題を解決するための手段]
本発明に係る不揮発性半導体記憶装置は、出力制御信号
とプログラミング用電圧との共通入力端子に印加された
プログラミング用電圧を検知して内部を書込み可能な状
態に設定する書込み制御手段を有する不揮発性半導体記
憶装置において、特定の外部端子に通常使用される電圧
以外の特定電圧が印加されたことを検知する検知手段と
、この検知手段で前記特定電圧が検知されたら前記書込
み制御手段を複数ワード同時書込みモードに設定するモ
ード設定手段と、この手段により複数ワード同時書込み
モードに設定された前記書込み制御手段によって制御さ
れて外部から複数ワードのデータを順次ラッチするデー
タラッチ手段とを備え、前記書込み制御手段は、複数ワ
ード同時書込みモ−ド時には、前記データラッチ手段に
ラッチされた複数ワードのデータを同時に記憶セルに書
込むものであることを特徴とする。
とプログラミング用電圧との共通入力端子に印加された
プログラミング用電圧を検知して内部を書込み可能な状
態に設定する書込み制御手段を有する不揮発性半導体記
憶装置において、特定の外部端子に通常使用される電圧
以外の特定電圧が印加されたことを検知する検知手段と
、この検知手段で前記特定電圧が検知されたら前記書込
み制御手段を複数ワード同時書込みモードに設定するモ
ード設定手段と、この手段により複数ワード同時書込み
モードに設定された前記書込み制御手段によって制御さ
れて外部から複数ワードのデータを順次ラッチするデー
タラッチ手段とを備え、前記書込み制御手段は、複数ワ
ード同時書込みモ−ド時には、前記データラッチ手段に
ラッチされた複数ワードのデータを同時に記憶セルに書
込むものであることを特徴とする。
[作用]
本発明によれば、特定の外部端子に特定電圧が印加され
ると、検知手段がこれを検知し、書込み制御手段を通じ
て内部が複数ワード同時書込みモードに設定される。そ
して、外部から順次入力される複数ワードのデータがデ
ータラッチ手段に次々にラッチされ、これが記憶セルに
同時に書込まれることになるので、データ書込み速度を
大幅に向上させることができる。
ると、検知手段がこれを検知し、書込み制御手段を通じ
て内部が複数ワード同時書込みモードに設定される。そ
して、外部から順次入力される複数ワードのデータがデ
ータラッチ手段に次々にラッチされ、これが記憶セルに
同時に書込まれることになるので、データ書込み速度を
大幅に向上させることができる。
[実施例コ
以下、添付の図面に基づいて本発明の実施例について説
明する。
明する。
第1図は、本発明の実施例に係る8Mビット不揮発性半
導体記憶装置の構成を示すブロック図である。なお、第
1図において第9図と同一部分には同一符号を付し、重
複する部分の説明は省略する。
導体記憶装置の構成を示すブロック図である。なお、第
1図において第9図と同一部分には同一符号を付し、重
複する部分の説明は省略する。
この第1図の回路では、アドレスA。−A+eが入力さ
れるアドレス入力端子13.14(7)うち、アドレス
入力端子13に印加される電圧が1通常のアドレス信号
A I Bの設定レベルよりも高いレベルであることを
検知する高電圧レベル検知回路18が備えられている。
れるアドレス入力端子13.14(7)うち、アドレス
入力端子13に印加される電圧が1通常のアドレス信号
A I Bの設定レベルよりも高いレベルであることを
検知する高電圧レベル検知回路18が備えられている。
この高電圧レベル検知回路18からの検知出力HVDは
、ページプログラミングモード設定回路19に入力され
ている。ページプログラミングモード設定回路19は、
高電圧の検知出力HVDに基づいて、データの書込みモ
ードとしてページプログラミングモードを設定する。書
込み制御回路16は、ページプログラミングモード設定
回路16からのページプログラミング設定信号PGSを
参照してメモリの書込みモードを設定する。
、ページプログラミングモード設定回路19に入力され
ている。ページプログラミングモード設定回路19は、
高電圧の検知出力HVDに基づいて、データの書込みモ
ードとしてページプログラミングモードを設定する。書
込み制御回路16は、ページプログラミングモード設定
回路16からのページプログラミング設定信号PGSを
参照してメモリの書込みモードを設定する。
一方、書込回路6゜〜67の前段には、データ入出力端
子4゜〜47からデータ人出力バッファ88〜87を介
して入力されたデータをラッチするデータラッチ回路7
゜〜77が設けられている。
子4゜〜47からデータ人出力バッファ88〜87を介
して入力されたデータをラッチするデータラッチ回路7
゜〜77が設けられている。
この回路では、アドレス入力端子13を利用して、特定
の書込みモードを設定する方式を採用しているので、外
部端子数は従来と同じである。即ち、アドレス入力端子
13.14として20ピン、データ入出力端子4゜〜4
7として8ピン、その他にOE / V pp入力端子
11及びCE入力端子12として2ピン、更に、電源■
。D端子と接地端子として2ピンを必要とするだけであ
るから、従来と同様、第2図に示すように、32ピンの
パッケージで構成することができる。
の書込みモードを設定する方式を採用しているので、外
部端子数は従来と同じである。即ち、アドレス入力端子
13.14として20ピン、データ入出力端子4゜〜4
7として8ピン、その他にOE / V pp入力端子
11及びCE入力端子12として2ピン、更に、電源■
。D端子と接地端子として2ピンを必要とするだけであ
るから、従来と同様、第2図に示すように、32ピンの
パッケージで構成することができる。
次に、この回路の動作について説明する。
第3図は、この不揮発性半導体記憶装置の動作を示すタ
イミング図である。
イミング図である。
なお、ここでは、4ワードのページプログラミングモー
ドについて説明する。
ドについて説明する。
先ず、第1ステツプとして、ページプログラミングモー
ドの設定が行われる。この設定時には、アドレス端子1
3にVpP以上の高電圧を印加する。
ドの設定が行われる。この設定時には、アドレス端子1
3にVpP以上の高電圧を印加する。
このとき、素子選択信号ceがLレベルになると、高電
圧レベル検知回路18がアドレス入力端子13の高電圧
を検知し検知信号HVDを出力する。
圧レベル検知回路18がアドレス入力端子13の高電圧
を検知し検知信号HVDを出力する。
この検知信号HVDが、ページプログラミングモード設
定回路19に入力され、更に■/VPP信号がHレベル
からLレベルへ立ち下がると、ページプログラミングモ
ード設定回路19の設定信号PGSがLレベルからHレ
ベルへと変化する。
定回路19に入力され、更に■/VPP信号がHレベル
からLレベルへ立ち下がると、ページプログラミングモ
ード設定回路19の設定信号PGSがLレベルからHレ
ベルへと変化する。
これを受けた書込み制御回路16は、書込み系の動作モ
ードをページプログラミングモードに切替える。
ードをページプログラミングモードに切替える。
次に、第2ステツプとして、データラッチが行われる。
即ち、CE入力端子12にHレベルの信号を与え、アド
レス端子13.14に任意のアドレスA。−AHを与え
、更にデータ入出力端子4o〜47にデータを与えた状
態で、OE/Vpp入力端子11をLレベルへと立ち下
げると、データ入出力端子4゜〜47に印加されたデー
タがデータラッチ回路7゜〜77にラッチされる。次に
、OE / V pp端子11にLレベルのパルスを与
えながら、これに同期させてアドレス入力端子13゜1
4に与えるアドレスA。−A、9と、データ入出力端子
4゜〜47に与えるデータとを次々と変化させると、4
ワ一ド分のデータがデータラッチ回路7゜〜77に格納
される。
レス端子13.14に任意のアドレスA。−AHを与え
、更にデータ入出力端子4o〜47にデータを与えた状
態で、OE/Vpp入力端子11をLレベルへと立ち下
げると、データ入出力端子4゜〜47に印加されたデー
タがデータラッチ回路7゜〜77にラッチされる。次に
、OE / V pp端子11にLレベルのパルスを与
えながら、これに同期させてアドレス入力端子13゜1
4に与えるアドレスA。−A、9と、データ入出力端子
4゜〜47に与えるデータとを次々と変化させると、4
ワ一ド分のデータがデータラッチ回路7゜〜77に格納
される。
続いて、第3ステツプとして、データの書込みが行われ
る。即ち、OE/vpp入力端子11にプログラミング
電圧VPPを印加し、CE入力端子12にLレベルのパ
ルスを印加すると、データラッチ回路7゜〜77にラッ
チされているデータが4ワ一ド分同時に所定のメモリセ
ルに書込まれる。
る。即ち、OE/vpp入力端子11にプログラミング
電圧VPPを印加し、CE入力端子12にLレベルのパ
ルスを印加すると、データラッチ回路7゜〜77にラッ
チされているデータが4ワ一ド分同時に所定のメモリセ
ルに書込まれる。
次に、第4ステツプとしてデータの読み出しを行う場合
には、OE/vpp入力端子11及びCE入力端子12
にLレベルを印加し、アドレス入力端子13.14に任
意のアドレスを入力する。そうすると、これらのアドレ
スで選択されるメモリセルのデータがセンスアンプ5゜
〜5□を通して、データ入出力端子4゜〜47から読み
出されることになる。
には、OE/vpp入力端子11及びCE入力端子12
にLレベルを印加し、アドレス入力端子13.14に任
意のアドレスを入力する。そうすると、これらのアドレ
スで選択されるメモリセルのデータがセンスアンプ5゜
〜5□を通して、データ入出力端子4゜〜47から読み
出されることになる。
最後に、第5ステツプとしてページプログラミングモー
ド解除を行う場合には、設定時と同様に、アドレス入力
端子13にアドレスA1゜とじて高電圧(プログラミン
グ電圧VPP以上)を印加し、OE / V pp入力
端子11とGE入力端子12とにLレベルのパルスを印
加する。これにより、ページプログラミングモードが解
除される。
ド解除を行う場合には、設定時と同様に、アドレス入力
端子13にアドレスA1゜とじて高電圧(プログラミン
グ電圧VPP以上)を印加し、OE / V pp入力
端子11とGE入力端子12とにLレベルのパルスを印
加する。これにより、ページプログラミングモードが解
除される。
第4図に高電圧レベル検知回路18の具体的構成例を、
また、第5図にページプログラミングモード設定回路1
9の具体的構成例を夫々示す。
また、第5図にページプログラミングモード設定回路1
9の具体的構成例を夫々示す。
第4図において、アドレス入力端子13から入力される
アドレスA+eは、デイプレッション型(以下、D型と
呼ぶ)NMO8FET31.32のゲートに入力されて
いる。これらのD型NMO5FET31.32は、NM
O8FET35.36を夫々介して共通接続され、更に
NMO8FET39を介して接地されている。FET3
5のゲートは、電源と上記共通接続点との間に直列に接
続された負荷回路であるD型NMO8FET33及びN
MO8FET37の接続点に接続され、FET3Bのゲ
ートは、電源と上記共通接続点との間に直列に接続され
た負荷回路であるD型NMO5FET34及びNMO8
FET38の接続点に接続されている。また、FET3
9は、素子選択信号で1を入力とするPMO8FET4
1及びNMO8FET42からなるインバータの出力に
よって駆動されるようになっている。
アドレスA+eは、デイプレッション型(以下、D型と
呼ぶ)NMO8FET31.32のゲートに入力されて
いる。これらのD型NMO5FET31.32は、NM
O8FET35.36を夫々介して共通接続され、更に
NMO8FET39を介して接地されている。FET3
5のゲートは、電源と上記共通接続点との間に直列に接
続された負荷回路であるD型NMO8FET33及びN
MO8FET37の接続点に接続され、FET3Bのゲ
ートは、電源と上記共通接続点との間に直列に接続され
た負荷回路であるD型NMO5FET34及びNMO8
FET38の接続点に接続されている。また、FET3
9は、素子選択信号で1を入力とするPMO8FET4
1及びNMO8FET42からなるインバータの出力に
よって駆動されるようになっている。
一方、PMO8FET43.44及びNMO8FET4
5.46によって2人力NAND回路が構成されており
、その一方の入力端にFET32゜36の接続点が接続
され、他方の入力端にFET41.42からなるインバ
ータの出力が接続されている。そして、この2人力NA
ND回路の出力端から高電圧の検知信号HVDが出力さ
れるようになっている。
5.46によって2人力NAND回路が構成されており
、その一方の入力端にFET32゜36の接続点が接続
され、他方の入力端にFET41.42からなるインバ
ータの出力が接続されている。そして、この2人力NA
ND回路の出力端から高電圧の検知信号HVDが出力さ
れるようになっている。
この回路では、アドレス端子13に高電圧を印加したと
きのみD型NMO8FET31.32がオン状態となる
ので、下記第1表に示す真理値表のように、素子選択信
号CeとしてLレベルが与えられ、且つアドレス端子1
3にVpp以上の高電圧EXHが与えられたときのみ高
電圧検知信号HVDがLレベルになり、その他の場合に
は、Hレベルになる。
きのみD型NMO8FET31.32がオン状態となる
ので、下記第1表に示す真理値表のように、素子選択信
号CeとしてLレベルが与えられ、且つアドレス端子1
3にVpp以上の高電圧EXHが与えられたときのみ高
電圧検知信号HVDがLレベルになり、その他の場合に
は、Hレベルになる。
第1表
一方、ページプログラミングモード設定回路19は、第
5図に示すように、縦続接続された2つのNANDゲー
ト81.82を主体として構成されている。NANDゲ
ート61は、その出力がインバータ63及びトランスフ
ァゲート64を介して一方の入力端に帰還されたものと
なっている。
5図に示すように、縦続接続された2つのNANDゲー
ト81.82を主体として構成されている。NANDゲ
ート61は、その出力がインバータ63及びトランスフ
ァゲート64を介して一方の入力端に帰還されたものと
なっている。
NANDゲート62は、その出力がインバータ65及び
トランスファゲート66を介して一方の入力端に帰還さ
れたものとなっている。また、NANDゲート61の出
力は、インバータ63及びトランスファゲート67を介
してNANDゲート62の前記入力端に入力されている
。更に、NANDゲート62の出力は、トランスファゲ
ート68を介してNANDA−ト61の前記入力端に帰
還されている。
トランスファゲート66を介して一方の入力端に帰還さ
れたものとなっている。また、NANDゲート61の出
力は、インバータ63及びトランスファゲート67を介
してNANDゲート62の前記入力端に入力されている
。更に、NANDゲート62の出力は、トランスファゲ
ート68を介してNANDA−ト61の前記入力端に帰
還されている。
一方、出力制御信号oeと高電圧検知信号HVDとは、
NORゲート51に入力されており、このNORゲート
51の出力信号TCと、この信号TCのインバータ52
による反転信号BCとが、トランスファゲート64.e
B、67.88のゲート制御信号として与えられている
。
NORゲート51に入力されており、このNORゲート
51の出力信号TCと、この信号TCのインバータ52
による反転信号BCとが、トランスファゲート64.e
B、67.88のゲート制御信号として与えられている
。
また、電源骨接地間に直列に接続された負荷としてPM
O8FET53及び容量54と、その接続点がゲートに
接続されそのソースが接地されたNMO8FET5f3
と、とのFET56のドレインと電源端子との間に接続
された容量55と、これらFET5E3と容量55との
接続点を入力とするインバータ57とでパワーオンリセ
ット回路60が構成されている。そして、このパワーオ
ンリセット回路60の出力がNANDA−ト61,62
の他方の入力端に入力されている。
O8FET53及び容量54と、その接続点がゲートに
接続されそのソースが接地されたNMO8FET5f3
と、とのFET56のドレインと電源端子との間に接続
された容量55と、これらFET5E3と容量55との
接続点を入力とするインバータ57とでパワーオンリセ
ット回路60が構成されている。そして、このパワーオ
ンリセット回路60の出力がNANDA−ト61,62
の他方の入力端に入力されている。
第6図は、このように構成されたページプログラミング
モード設定回路のタイミング図である。
モード設定回路のタイミング図である。
この回路では、電源電圧の投入後に、リセットがかかり
、ページプログラミングモード設定信号PGSがLレベ
ルに設定されるようになっている。
、ページプログラミングモード設定信号PGSがLレベ
ルに設定されるようになっている。
先ず、電源電圧vDDが投入された直後においては、パ
ワーオンリセット回路60のFET53゜56及び容量
54.55による時定数で決定される期間だけLレベル
のパルスが節点Aに出力される。これにより、ページプ
ログラミングモード設定信号PGSがLレベルにリセッ
トされる。
ワーオンリセット回路60のFET53゜56及び容量
54.55による時定数で決定される期間だけLレベル
のパルスが節点Aに出力される。これにより、ページプ
ログラミングモード設定信号PGSがLレベルにリセッ
トされる。
このとき、第4図の高電圧レベル検知回路18のアドレ
ス入力端子13には、高電圧を印加しないものとすると
、高電圧レベル検知回路18からの検知信号HVDは、
第1表で示した通りHレベルとなり、内部信号BC,T
Cは、夫々11 HI+及び“L”レベルとなる。した
がって、トランスファゲートee、esがオンになり、
パワーオンリセット回路60の出力点、つまり節点Aが
Hレベルに反転しても、トランスファゲート84.67
がオフになる。このとき、節点Aは、上述したように、
Lレベルのパルスが印加されると、ページプログラミン
グモード設定信号PGSは、Lレベルに設定される。こ
のようにして、電源電圧投入と同時にページプログラミ
ングモード設定回路の出力信号PGSは、Lレベルにリ
セットされる。
ス入力端子13には、高電圧を印加しないものとすると
、高電圧レベル検知回路18からの検知信号HVDは、
第1表で示した通りHレベルとなり、内部信号BC,T
Cは、夫々11 HI+及び“L”レベルとなる。した
がって、トランスファゲートee、esがオンになり、
パワーオンリセット回路60の出力点、つまり節点Aが
Hレベルに反転しても、トランスファゲート84.67
がオフになる。このとき、節点Aは、上述したように、
Lレベルのパルスが印加されると、ページプログラミン
グモード設定信号PGSは、Lレベルに設定される。こ
のようにして、電源電圧投入と同時にページプログラミ
ングモード設定回路の出力信号PGSは、Lレベルにリ
セットされる。
次に、ページプログラミングモード設定モード時には、
第1表に示すように、内部信号HVDはLレベルとなる
。この時点でoeにLレベルのパルスが印加されると、
第6図に示すように、内部信号BC,TCは夫々“L”
及び“H”レベル及びLレベルとなるので、ページプロ
グラミングモード設定信号PGSはHレベルに設定され
る。このレベルは、検知信号HVDがHレベルになって
も保持される。
第1表に示すように、内部信号HVDはLレベルとなる
。この時点でoeにLレベルのパルスが印加されると、
第6図に示すように、内部信号BC,TCは夫々“L”
及び“H”レベル及びLレベルとなるので、ページプロ
グラミングモード設定信号PGSはHレベルに設定され
る。このレベルは、検知信号HVDがHレベルになって
も保持される。
更にページプログラミングモード解除モードでは、設定
モードと同様に、検知信号HVDはLレベルとなり、O
E入力端子12にLレベルのパルスを印加すると、第6
図に示すように、プログラミングモード設定信号はLレ
ベルにリセットされる。
モードと同様に、検知信号HVDはLレベルとなり、O
E入力端子12にLレベルのパルスを印加すると、第6
図に示すように、プログラミングモード設定信号はLレ
ベルにリセットされる。
第7図は、ページプログラミングモード設定口路の他の
構成例を示す回路図である。
構成例を示す回路図である。
この回路が第5図の回路と異なる点は、第5図における
NANDA−ト6i1.72の代わりに、NORゲート
71.72を設けた点と、第5図におけるパワーオンリ
セット回路60の出力端にインバータ58を一段追加し
てパワーオンリセット回路70を構成した点と、出力端
にインバータ69を一段追加した点である。
NANDA−ト6i1.72の代わりに、NORゲート
71.72を設けた点と、第5図におけるパワーオンリ
セット回路60の出力端にインバータ58を一段追加し
てパワーオンリセット回路70を構成した点と、出力端
にインバータ69を一段追加した点である。
第8図は、このページプログラミングモード設定回路の
動作を示すタイミング図である。
動作を示すタイミング図である。
この図に示すように、本回路における節点A乃至Eの波
形は、第5図の回路における節点A乃至Eと丁度反転し
た関係にあるが、最終的に得られるモード設定信号PG
Sは、同一となる。
形は、第5図の回路における節点A乃至Eと丁度反転し
た関係にあるが、最終的に得られるモード設定信号PG
Sは、同一となる。
[発明の効果コ
以上説明したように、本発明によれば、特定の外部端子
に特定電圧が印加されたことを検知手段が検知すると、
書込み制御手段を通じて内部が複数ワード同時書込みモ
ードに設定され、外部から入力される複数ワードのデー
タをデータラッチ手段で次々にラッチすると共に、これ
を記憶セルに同時に書込むようにしたから、従来の1ワ
ード毎の書込み動作に比べ、書込み時間を大幅に短縮す
ることができるという効果を奏する。
に特定電圧が印加されたことを検知手段が検知すると、
書込み制御手段を通じて内部が複数ワード同時書込みモ
ードに設定され、外部から入力される複数ワードのデー
タをデータラッチ手段で次々にラッチすると共に、これ
を記憶セルに同時に書込むようにしたから、従来の1ワ
ード毎の書込み動作に比べ、書込み時間を大幅に短縮す
ることができるという効果を奏する。
第1図は本発明の実施例に係る8Mビット不揮発性半導
体記憶装置の構成を示すブロック図、第2図は同記憶装
置の外観を示す平面図、第3図は同記憶装置の動作を示
すタイミング図、第4図は同記憶装置における高電圧レ
ベル検知回路の回路図、第5図は同記憶装置におけるペ
ージプログラミングモード設定回路の回路図、第6図は
同設定回路の動作を示す波形図、第7図は同記憶装置に
おけるページプログラミングモード設定回路の他の構成
例を示す回路図、第8図は同設定回路の動作を示す波形
図、第9図は従来の不揮発性半導体記憶装置の構成を示
すブロック図、第10図は同記憶装置の動作を示すタイ
ミング図である。 18〜17 ;メモリセルアレイ、2;Xデコーダ、3
8〜37;Y選択トランジスタ群、4o〜4□;データ
入出力端子N 50〜57;センスアンプ、6o〜67
;書込回路、78〜7゜;データラッチ回路、8o〜8
□ ;データ入出力バッファ、10.13,14;アド
レス入力端子、11; OE / V pp入力端子、
12;CE入力端子、15 ; OE / Vppハッ
7 y、16;書込み制御回路、17;CEバッファ、
18;高電圧レベル検知回路、19;ページプログラミ
ングモード設定回路、20;アドレスバッファ
体記憶装置の構成を示すブロック図、第2図は同記憶装
置の外観を示す平面図、第3図は同記憶装置の動作を示
すタイミング図、第4図は同記憶装置における高電圧レ
ベル検知回路の回路図、第5図は同記憶装置におけるペ
ージプログラミングモード設定回路の回路図、第6図は
同設定回路の動作を示す波形図、第7図は同記憶装置に
おけるページプログラミングモード設定回路の他の構成
例を示す回路図、第8図は同設定回路の動作を示す波形
図、第9図は従来の不揮発性半導体記憶装置の構成を示
すブロック図、第10図は同記憶装置の動作を示すタイ
ミング図である。 18〜17 ;メモリセルアレイ、2;Xデコーダ、3
8〜37;Y選択トランジスタ群、4o〜4□;データ
入出力端子N 50〜57;センスアンプ、6o〜67
;書込回路、78〜7゜;データラッチ回路、8o〜8
□ ;データ入出力バッファ、10.13,14;アド
レス入力端子、11; OE / V pp入力端子、
12;CE入力端子、15 ; OE / Vppハッ
7 y、16;書込み制御回路、17;CEバッファ、
18;高電圧レベル検知回路、19;ページプログラミ
ングモード設定回路、20;アドレスバッファ
Claims (3)
- (1)出力制御信号とプログラミング用電圧との共通入
力端子に印加されたプログラミング用電圧を検知して内
部を書込み可能な状態に設定する書込み制御手段を有す
る不揮発性半導体記憶装置において、特定の外部端子に
通常使用される電圧以外の特定電圧が印加されたことを
検知する検知手段と、この検知手段で前記特定電圧が検
知されたら前記書込み制御手段を複数ワード同時書込み
モードに設定するモード設定手段と、この手段により複
数ワード同時書込みモードに設定された前記書込み制御
手段によって制御されて外部から複数ワードのデータを
順次ラッチするデータラッチ手段とを備え、前記書込み
制御手段は、複数ワード同時書込みモード時には、前記
データラッチ手段にラッチされた複数ワードのデータを
同時に記憶セルに書込むものであることを特徴とする不
揮発性半導体記憶装置。 - (2)前記特定の外部端子は、特定のアドレス端子であ
り、前記モード設定手段は、前記検知手段で前記特定電
圧が検知されたら前記特定電圧が解除されても前記複数
ワード同時書込みモードを解除しないものであることを
特徴とする請求項1に記載の不揮発性半導体記憶装置。 - (3)前記モード設定手段は、電源投入時には前記複数
ワード同時書込みモードをリセットする機能を備えたも
のであることを特徴とする請求項1に記載の不揮発性半
導体記憶装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2166376A JPH0460997A (ja) | 1990-06-25 | 1990-06-25 | 不揮発性半導体記憶装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2166376A JPH0460997A (ja) | 1990-06-25 | 1990-06-25 | 不揮発性半導体記憶装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0460997A true JPH0460997A (ja) | 1992-02-26 |
Family
ID=15830266
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2166376A Pending JPH0460997A (ja) | 1990-06-25 | 1990-06-25 | 不揮発性半導体記憶装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0460997A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011192385A (ja) * | 2005-03-10 | 2011-09-29 | Hynix Semiconductor Inc | マルチプレーン型フラッシュメモリのプログラム動作および読出し動作の制御方法 |
-
1990
- 1990-06-25 JP JP2166376A patent/JPH0460997A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011192385A (ja) * | 2005-03-10 | 2011-09-29 | Hynix Semiconductor Inc | マルチプレーン型フラッシュメモリのプログラム動作および読出し動作の制御方法 |
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