JPH0458474B2 - - Google Patents

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JPH0458474B2
JPH0458474B2 JP59082140A JP8214084A JPH0458474B2 JP H0458474 B2 JPH0458474 B2 JP H0458474B2 JP 59082140 A JP59082140 A JP 59082140A JP 8214084 A JP8214084 A JP 8214084A JP H0458474 B2 JPH0458474 B2 JP H0458474B2
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は植物生長抑制及び殺菌・殺カビ
(fungicidal)活性を有する化合物の合成に対す
る中間体として使用し得る公知のオキシランの新
規な製造方法に関するものである。
硫化ジメチル及び硫酸ジメチルを反応させ、次
にこれにより中間体として生じるトリメチルスル
ホニウム硫酸メチルを不活性有機溶媒、例えばア
セトニトリルの存在下で、且つ強塩基の存在下で
カルボニル化合物と反応させることによりオキシ
ランを製造し得ることは既に開示されている〔J.
Amer.Chem.Soc.87、1353〜1364(1965)及び
Ber.96、1881(1963)参照)。
また硫化ジメチル及び硫酸ジメチルから調製し
たトリメチルスルホニウム硫酸メチルをナトリウ
ムメチラートの存在下にてアセトニリル中の1−
(4−クロロフエニル)−4,4−ジメチル−3−
ペンタノンと反応させることにより2−(4−ク
ロロフエノキシメチル)−2−t−ブチルオキシ
ランを製造することができる〔ヨーロツパ特許出
願公開(EP−OS)第40345号参照〕。この方法の
収率は良好であるが、それにもかかわらず、実際
の目的に対して常に適しているとは限らない。更
に、この方法に対しては比較的長い反応時間が必
要である。
t−ブタノールの存在下で硫化ジメチルを硫酸
ジメチルで処理し、そしてそれにより生成する式 (CH33S CH3SO4 () のトリメチルスルホニウム硫酸メチルを前もつて
単離せずに、塩基の存在下にて、且つt−ブタノ
ールの存在下にて0乃至60℃間の温度で式 式中、Xは酸素またはCH2を表わし、 Yは塩素またはフエニルを表わし、そして Zは水素またはハロゲンを表わす、 のケトンと反応させることを特徴とする式 式中、X、Y及びZは上記の意味を有する、 の公知のオキシランが得られることが見い出され
た。
本発明による方法により溶媒としてアセトニト
リルを用いる従来公知の方法により高収率で式
()のオキシラン、例えば2−(4−クロロフエ
ニルエチル)−2−t−ブチルオキシランを製造
し得ることは極めて驚くべきことと言わねばなら
ない。また溶媒として特にt−ブタノールが殊に
良好に適しており、一方他の低沸点のアルコール
の存在下では反応により所望の結果が得られない
ことは驚くべきことである。
本発明による方法は多数の利点を有している。
かくして、このものは高収率にて式()のオキ
シランの製造を可能にする。更に、出発物質は比
較的低価格であり、そして工業的規模で入手でき
る。更に、反応時間は式()のオキシランの製
造に対する従来公知の方法よりかなり短い。
本発明の方法により製造し得るオキシランは式
()により定義される。この式において、Xは
酸素またはCH2基を表わし、そしてYは塩素また
はフエニルを表わす。基Zは好ましくは水素、フ
ツ素または塩素を表わす。
本発明による方法において硫化ジメチル及び硫
酸ジメチルに加えて、出発物質として1−(4−
クロロフエニル)−4,4−ジメチル−3−ペン
タノンを用い、そして塩基としてナトリウムメチ
ラートを用いる場合、反応の径路を下の図で説明
することができる: (a) (CH32S+(CH32SO4 →(CH33S CH3SO4 本発明の方法における出発物質として必要なケ
トンは式()で定義される。この式において、
Yは塩素またはフエニルを表わし、そしてXは酸
素またはCH2基を表わす。基Zは好ましくは水
素、フツ素または塩素を表わす。
式()のケトンは公知のものである〔ドイツ
国特許第2201063号、ドイツ国特許出願公開(DE
−OS)第2705678号及び同第2737489号参照〕。
また本発明による方法に対する出発物質として
必要な式()のトリメチルスルホニウム硫酸メ
チルは同様に公知である〔Heterocycles
397(1977)参照〕。硫化ジメチルの硫酸ジメチル
との反応により生成し、そしてこのものを前もつ
て単離せずに更に使用することにより上記の上に
おいて新たに調製した状態で用いる。
本発明による方法に対する塩基として強い無機
性または有機性の塩基を用いることができる。適
当で且つ好ましいものには水素化ナトリウム、ナ
トリウムアミド、またアルカリ金属アルコラート
例えばナトリウムメチラート、ナトリウムエチラ
ート及びカリウムt−ブチラート、更に水素化カ
リウムがある。
本発明による方法を行う際に、反応温度をある
範囲内で変えることができる。一般に、トリメチ
ルスルホニウム硫酸メチルの調製及びその続いて
の式()のケトンとの反応の両方に対する反応
温度は0乃至60℃間、好ましくは10乃至50℃間で
ある。
本発明による反応は一般に常圧下で行われる。
しかしながら、昇温または減圧下でも行うことが
できる。
本発明による方法を行う際に、式()のケト
ン1モルに対して1.0〜2.2モル、好ましくは1.0〜
1.5モルの硫化ジメチル、1.0〜2.0モル、好ましく
は1.0〜1.5モルの硫酸ジメチル、及び1.0〜4.0モ
ル、好ましくは1.0〜2.0モルの塩基を一般に用い
るように反応における成分の量を一般に選ぶ。
本発明による方法を行うための特定の方法は硫
化ジメチル及び硫酸ジメチルをt−ブタノール中
で固定し、この溶液を数時間撹拌し、そしてt−
ブタノール中の式()のケトン及び塩基の混合
物に加えることである。常法で処理を行う。一般
に、この方法は酸化剤例えば過酸化水素水溶液ま
たは次亜塩素酸ナトリウムもしくは次亜塩素酸カ
リウムの希釈水溶液の混合物並びに水とほとんど
混和しない有機溶媒及び水を反応混合物に加え、
次に有機相を分別し、洗浄し、そして必要に応じ
て予備的な乾燥後に蒸発させることからなる。こ
れにより生じる生成物を更に精製するために減圧
下で蒸留することができる。
本発明の方法により製造し得る式()のオキ
シランは植物生長抑制及び殺菌・殺カビ特性に優
れた1−ヒドロキシ−エチルアゾール誘導体の合
成に対する価値ある出発物質である(ヨーロツパ
特許出願公開第40345号〕。
かくして、例えば水酸化カリウムの存在下で2
−(4−クロロフエニルエチル)−2−t−ブチル
オキシランを1,2,4−トリアゾールと反応さ
せることにより式 の1−(4−クロロフエニル)−4,4−ジメチル
−3−(1,2,4−トリアゾル−1−イルメチ
ル−3−ペンタノールを製造することができる。
この合成は下の式で説明できる: 本発明による方法を次の実施例で説明する。
実施例 1 硫酸ジメチル94.5g(0.75モル)を室温で撹拌
しながらt−ブタノール150ml中の硫化ジメチル
53g(0.85モル)の混合物に加え、その間に反応
混合物の温度は65℃に上昇した。この混合物を4
時間撹拌し、次に氷浴中で冷却しながら96%の1
−(4−クロロフエニル)−4,4−ジメチル−3
−ペンタノンからなる生成物117g(0.5モル)を
加えた。次にカリウムt−ブチラート112.2g
(1モル)を迅速に加え、その間に反応混合物の
温度は40℃に上昇した。次に揮発成分を82℃の最
高温度までで留去した。水2及び次亜塩素酸ナ
トリウム水溶液200mlを残留した残渣に連続的に
加えた。次にトルエン500mlを加え、そしてその
相を分離した。有機相を中性になるまで水に洗浄
し、ろ過し、そして減圧下で濃縮した。ガスクロ
マトグラムにより93%の2−(4−クロロフエニ
ルエチル)−2−t−ブチルオキシランからなる
重量113gの油状残渣が残留した。これから計算
された収率は理論量の88.1%であつた。
比較実施例 公知の方法による式 の2−(4−クロロフエニルエチル)−2−t−ブ
チルオキシランの製造。
アセトニトリル130ml中の硫化ジメチル108ml
(1.47モル)の溶液を撹拌しながらアセトニトリ
ル670ml中の硫酸ジメチル126ml(1.33モル)の溶
液に滴下して加えた。この反応混合物を一夜放置
し、次に固体粉末のナトリウムメチラート79.2g
(1.47モル)を加え、その際に反応混合物の温度
を約20℃に保持した。次にアセトニトリル250ml
中の1−(4−クロロフエニル)−4,4−ジメチ
ル−3−ペンタノン179g(0.8モル)の溶液を滴
下しながら加えた。この反応混合物を4時間撹拌
し、次に一液放置した。次にこの反応混合物を減
圧下で濃縮し、そして残留した残渣を酢酸エチル
に溶解させた。これにより生成した溶液を水で洗
浄し、そして硫酸ナトリウム上で乾燥した後、減
圧下で溶媒を除去することにより濃縮した。残留
した残渣を真空蒸留した。0.01ミリバールで102
〜105℃の沸点を有し、そしてガスクロマトグラ
ムにより53%の2−(4−クロロフエニルエチル)
−2−t−ブチルオキシランからなる生成物157
gがこのようにして得られた。これから計算され
た収率は理論量の43%であつた。
植物生長抑制及び殺菌・殺カビ活性を有する1−
ヒドロキシエチルアゾール誘導体の合成に対する
本発明により製造し得るオキシランの使用実施例 n−プロパノール100ml中の80%2−(4−クロ
ロフエニルエチル)−2−t−ブチルオキシラン
からなる生成物27.1g(0.1モル)、1,2,4−
トリアゾール8.3g(0.12モル)及び水酸化カリ
ウム0.06g(0.01モル)を95℃で30分間加熱し
た。次にこのものを冷却し、そして減圧下で溶媒
を除去することにより反応混合物を濃縮した。残
留した残渣をトルエン中に取り出し、これにより
生じた懸濁物をろ過し、そして減圧下で溶媒を除
去することによりろ液を濃縮した。生じた残渣を
リグロインから再結晶した。HPLC分析により
67.4%の1−(4−クロロフエニル)−4,4−ジ
メチル−3−(1,2,4−トリアゾル−1−イ
ルメチル)−3−ペンタノールからなる生成物
30.6gがこのようにして得られた。これから計算
された収率は理論量の67%であつた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 t−ブタノールの存在下で、硫化ジメチルを
    硫酸ジメチルで処理し、そしてそれにより生成す
    る式 (CH33S CH3SO4 () のトチメチルスルホニウム硫酸メチルを、前もつ
    て単離せずに、塩基の存在下且つt−ブタノール
    の存在下にて、0と60℃の間の温度で、式 式中Xは酸素またはCH2を表わし、 Yは塩素またはフエニルを表わし、そして Zは水素またはハロゲンを表わす、 のケトンと反応させることを特徴とする式 式中、X、Y及びZは上記の意味を有する、 のオキシラン類の製造法。 2 反応を10と50℃の間の温度で行うことを特徴
    とする特許請求の範囲第1項記載の方法。 3 塩基として、水素化ナトリウム、ナトリウム
    アミド、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチ
    ラート、カリウムt−ブチラートまたは水素化カ
    リウムを用いることを特徴とする特許請求の範囲
    第1項記載の方法。 4 式()のケトンとして1−(4−クロロフ
    エニル)−4,4−ジメチル−3−ペンタノンを
    用いることを特徴とする特許請求の範囲第1項記
    載の方法。
JP59082140A 1983-04-29 1984-04-25 オキシラン類の製造法 Granted JPS59206377A (ja)

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