JPH0451221B2 - - Google Patents

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JPH0451221B2
JPH0451221B2 JP59059476A JP5947684A JPH0451221B2 JP H0451221 B2 JPH0451221 B2 JP H0451221B2 JP 59059476 A JP59059476 A JP 59059476A JP 5947684 A JP5947684 A JP 5947684A JP H0451221 B2 JPH0451221 B2 JP H0451221B2
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membrane
solvent
polysulfone resin
water
ethylene glycol
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Kenji Koyama
Shotaro Oono
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Tosoh Corp
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Tosoh Corp
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D71/00Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by the material; Manufacturing processes specially adapted therefor
    • B01D71/06Organic material
    • B01D71/66Polymers having sulfur in the main chain, with or without nitrogen, oxygen or carbon only
    • B01D71/68Polysulfones; Polyethersulfones
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D67/00Processes specially adapted for manufacturing semi-permeable membranes for separation processes or apparatus
    • B01D67/0002Organic membrane manufacture
    • B01D67/0009Organic membrane manufacture by phase separation, sol-gel transition, evaporation or solvent quenching
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D2323/00Details relating to membrane preparation
    • B01D2323/12Specific ratios of components used
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D2325/00Details relating to properties of membranes
    • B01D2325/20Specific permeability or cut-off range

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は、透水量が高く、かつ、孔径の大きい
ポリスルフオン膜の製造方法に関するものであ
る。 従来、圧を駆動力とする分離膜は、その孔径の
大きいものから、ミクロフイルター(0.1μm以
上)、限外過膜(数十〜数百Å)そして逆浸透
膜(無機イオンを阻止する大きさ)に分類されて
いる。ミクロフイルターは一般に、膜素材高分子
を該高分子に対する良溶剤と非溶剤との混合溶剤
に溶解し、該溶液を平板上に流延し、溶剤を蒸発
させることを特徴とする乾式法によつて製造され
る。この方法では、膜の微細構造が断面方向に均
一である、対称膜が得られる。このミクロフイル
ターの最小孔径グレードは0.2μm程度である。希
に0.1μm以下のものがあるが、これらは透水性が
1m3/m3・hr・(Kg/cm3)以下と著しく低く、実
用性に乏しいのが現状である。 ミクロフイルターに対して、限外過膜は、湿
式法で製造される。膜素材となる高分子を溶剤に
溶解し、これを希望する形態に流延した後、該高
分子の非溶剤からなる凝固浴へ浸漬し、凝固させ
ることにより膜を得る。この方法では、膜の微細
構造は、膜表面が最も緻密となり、膜内部は、ス
ポンジ状空洞の多い非対称膜が得られる。よつて
膜の透水性は主として、膜表面の緻密層に支配さ
れ、微細な孔を持つにもかかわらず、比較的高い
透水性を示す。 湿式法によれば、膜表面に緻密な層が出現する
関係上、比較的孔径の小さな膜が得られる。 例えば、現在市販されている非対称限外過膜
のうち、最も大きい分画分子量は3×106である
がこの膜は、分子量2×106のブルーデキストラ
ンを98%以上阻止する。これに対して、やはり、
市販されている0.22μmの孔径を持つミクロフイ
ルターでは、ブリーデキストランをまつたく阻止
しない。このことから、乾式法によるミクロフイ
ルターの孔径の下限と、湿式法による限外過膜
の孔径の上限とのあいだに適用される孔径をもつ
膜の開発が望まれている。 本発明者等は、孔径がおよそ0.03〜0.2μmの非
対称膜を湿式製膜法で製造することに関し、鋭意
研究の結果、本発明を完成するに至つた。 本発明は高透水性で、孔径が0.03〜0.2μmのポ
リスルフオン膜を得るために湿式製膜法に関す
る。ここで言う湿市製膜法とは通常用いられる一
般的方法で、例えば膜原料である高分子を溶剤に
溶解した製膜原液をガラス板や不織布、紙などの
上に厚さ数十〜数百ミクロンに塗布し、これを膜
原料高分子の沈殿溶剤で、かつ製膜原液に用いら
れる溶剤と容易に混和する液体よりなる凝固溶中
に浸漬し、塗布された膜原料高分子を凝固させる
ことにより分離膜を得る手法である。この場合、
膜素材高分子を溶解する溶剤は単一溶剤あるいは
膜原料高分子に対して良溶剤に、各種非溶剤や無
機塩を添加したものが一般に用いられ、溶剤は水
溶性のものが多用される。凝固浴は通常、水ある
いは水を主成分とする混合液体が用いられる。凝
固浴温度は、通常、0℃から20℃が用いられてい
る。 本発明の特徴は既に述べた公知の湿式製膜法に
おいて、凝固浴温度を高く設定することにより、
容易に高透水量で、孔径0.03〜0.2μmのポリスル
フオン膜を得ることにある。実施例に述べるよう
に、本発明者等の検討によれば、ポルスルフオン
膜を通常の湿式製膜法により、製膜するに際し、
凝固浴温度が35℃未満では、その透水性および孔
径に、さしたる凝固浴温度依存性が見られないの
に対し、凝固浴温度35℃以上では顕著な温度依存
性が見られ、膜の孔径は大きくなり、透水性は大
巾に改良されることが判明した。又、 95℃を越えると溶剤が沸騰しはじめるなど操作上
問題が生じる。以下、本発明を更に詳細に説明す
る。 本発明に用いられるポリスルフオン樹脂は下記
の一般式()で示される構造をもつ。 ポリスルフオン樹脂を溶解する溶剤は、ポリス
ルフオン樹脂を溶解可能で、かつ、常温で水と実
質的に混和するものであれば、単独溶剤であろう
が混合溶媒であろうが使用できる。勿論、溶剤中
に常温では固体である無機塩、有機物やその他が
溶解していても構わない。このような溶剤とし
て、例えばN−メチル−2−ピロリドン、N,
N′−ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトア
ミド等を主成分とするものが一般的であり、これ
らの溶剤に、ポリスルフオン樹脂に対して、実質
的に非溶剤であるジメチルスルフオキシド、エチ
レングリコールモノエチルエーテル、エチレング
リコールモノメチルエーテル、アセトアミド等の
有機物、あるいはエチレングリコール、ジエチレ
ングリコール等を加えたものなどがある。 これらの溶剤群の中でも特に効果的なものに、
N−メチル−2−ピロリドンとエチレングリコー
ルモノエチルエーテルの混合溶剤がある。N−メ
チル−2−ピロリドンとエチレングリコールモノ
エチルエーテルとの体積比100:0から43:57の
範囲で変化させることにより、その他の条件を変
えずに、ある程度膜の孔径および透水性をコント
ロールできる。同様にN,N′−ジメチルホルム
アミドとエチレングリコールモノエチルエーテル
との混合系も有効である。この場合、混合比は
100:0から84:16の範囲が望ましい。 製膜原液の組成は、膜の透水性および孔径に大
きく影響する。この中で、ポリスルフオン樹脂の
濃度は、16g/dl以上、22g/dl以下の範囲であ
ることが望ましい。樹脂濃度16g/dl未満では、
得られた膜の強度が著しく低く、使用に対して、
不安であり、また22g/dlを越えると、透水性
能、孔径共に大きな改良は期待できない。 次に凝固浴について説明する。凝固浴の温度を
35℃以上95℃以下で変化させることにより、膜の
孔径を0.03〜0.2μmの範囲でかつ、1.5m3/m2
hr・(Kg/cm3)以上の透水性を持たせることがで
きるが、製膜原液中の樹脂濃度および溶剤の種類
により、その効果は多少変化する。凝固液は通
常、水で十分であるが、水にエチレングリコー
ル、ジエチレングリコール、プロピレングリコー
ル、グリセリン等のグリコール類の水溶性添加剤
を加えてもよい。ポリスルフオン樹脂に対して、
良溶剤を添加してもよい。しかし、水にこれら添
加剤を加える場合は、添加剤の容積分率は70%未
満が望ましい。容積分率が70%を越えても透水性
能が秀れた大孔径の膜は得られるが、膜の凝固浴
中での凝固速度が遅れること、凝固浴の経済性等
の問題から望ましくない。 本発明によつて得られるポリスルフオン膜は、
従来のミクロフイルターと限外過膜の間を埋め
る孔径の領域、すなわち、0.03〜0.2μmの孔径を
有する膜として、多方面へ応用が考えられる。 以下、実施例により本発明を説明するが、これ
ら実施例のみに本発明は限定されるものではな
い。 実施例1〜6、比較例1′〜4′ ポリスルフオン樹脂(「ユーデルポリスルホン
p−3500」商品名、U.C.C社製)180gを、N−
メチル−2−ピロリドンとエチレングリコールモ
ノエチルエーテルとの容積比1:1の混合溶媒1
に溶解し、均一な溶液とした。この溶液をポリ
エチレン不織布上に厚さ150μmに流延し、凝固
浴中に浸漬した。凝固浴は水で、その温度を2
℃、10℃、20℃、30℃、40℃、50℃、60℃、70
℃、80℃、90℃と変化させた。得られた膜を蒸留
水で3日間脱溶剤した後、透水テストをおこなつ
た。透水テストに用いた水は13℃の蒸留水であ
る。また、これらの膜のブル−デキストラン(分
子量2×106)の阻止率を調べた。用いた装置は
撹拌型限外過装置(「UP−50」商品名、東洋
紙(株)社製)で40mlの0.1%ブルーデキストランを
装置内へ入れ、圧力0.3Kg/cm3で過し、20mlの
液が得られた特、装置内に残つた液と膜透過液
の濃度から、次式で阻止率Rを算出した。 R(阻止率)=1−膜透過液中のブルーデキストラン濃
度/装置内液中のブルーデキストラン濃度 膜の平均孔径は、走査型電子顕微鏡写真によつ
た。これらの結果を表1に示す。
【表】
【表】 *1 観察できず
実施例7〜10、比較例5′〜7′ 実施例1〜6と同じポリスルフオン樹脂210g
をN,N′−ジメチルホルムアミド1に溶解し、
製膜原液とした。この溶液をポリプロピレン製不
織布上、ドクターナイフで厚さ160μmに塗布し、
直後、凝固浴中に浸漬し、ポリスルフオン膜を得
た。凝固液は、水/エチレングリコール=7/3
(容積)の混合液を用いた。凝固液温度を3℃、
15℃、30℃、40℃、55℃、80℃、95℃と変化さ
せ、得られた膜の性能を実施例1〜6と同様に調
べた。得られた膜の性能を表2に示す。
【表】 *2 観察できず
実施例 11〜13 実施例1〜6と同じポリスルフオン樹脂180g
をN,N′−ジメチルホルムアミドとエチレング
リコールモノエチルエーテルの容積比95:5の溶
剤1に溶解し、均一な溶液として製膜原液とし
た。 この原液をポリエチレン製不織布上、厚さ約
200μmに塗布し、凝固液中へ浸漬してポリスル
フオン膜を得た。凝固液は水とし、温度を40℃、
60℃、80℃とした。得られたポリスルフオン膜の
性質を実施例1〜6と同様に調べ、その結果を表
3に示す。
【表】 比較例 8′ 実施例11〜13とまつたく同様にし、ポリスルフ
オン樹脂量のみを150g/dlとして、ポリスルフ
オン膜を得た。得られた膜は、いずれも透水量は
2m3/m2・hr・(Kg/cm3)以上を示したが、支持
体のポリエチレン不織布と剥離してしまつた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式()に示す繰り返し単位を持つポリ
    スルフオン樹脂を湿式製膜法により分離膜を得る
    方法において、発泡剤を含まない製膜原液を用
    い、凝固浴温度範囲が35℃〜95℃で、浴剤として
    水が主成分であることを特徴とする高透水性ポリ
    スルフオン膜の製造方法。 2 凝固浴温度が50℃から95℃である特許請求の
    範囲第1項記載の方法。 3 凝固浴の30容積%以上が水であり、他の成分
    がエチレングリコール、ジエチレングリコール、
    プロピレングリコール、グリセリンまたはそれら
    の2以上の混合溶液である特許請求の範囲第1項
    または第2項記載の方法。 4 ポリスルフオン樹脂を溶解する水溶性溶剤
    が、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルホル
    ムアミド、ジメチルアセトアミドのいずれか、あ
    るいは、これらの混合物である特許請求の範囲第
    1項〜第3項のいずれかの項記載の方法。 5 ポリスルフオン樹脂を溶解する溶剤が、N,
    N−ジメチルホルムアミドとエチレングリコール
    モノエチルエーテルとの容積比が100:0から、
    84:16の範囲の混合溶剤であることを特徴とする
    特許請求の範囲第1項〜第3項のいずれかの項記
    載の方法。 6 ポリスルフオン樹脂を溶解する溶剤が、N−
    メチル−2−ピロリドンとエチレングリコールモ
    ノエチルエーテルとの容積比100:0から43:57
    の範囲の混合溶剤であることを特徴とする特許請
    求の範囲第1項〜第3項のいずれかの項に記載の
    方法。 7 ポリスルフオン樹脂溶液中のポリスルフオン
    樹脂の濃度が16g/dlから22g/dlであることを
    特徴とする特許請求の範囲第1項〜第6項のいず
    れかの項記載の方法。
JP59059476A 1984-03-29 1984-03-29 ポリスルフォン膜の製造方法 Granted JPS60206416A (ja)

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