JPH04500807A - 環状ホスファイト及び安定化高分子組成物 - Google Patents

環状ホスファイト及び安定化高分子組成物

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JPH04500807A
JPH04500807A JP1510720A JP51072089A JPH04500807A JP H04500807 A JPH04500807 A JP H04500807A JP 1510720 A JP1510720 A JP 1510720A JP 51072089 A JP51072089 A JP 51072089A JP H04500807 A JPH04500807 A JP H04500807A
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hydrogen
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ウォン,リチャード スー― シャイン
マイアーズ,ガリー リン
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イーストマン コダック カンパニー
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 環状ホスファイト及び安定化高分子組成物本発明は、ある種の新規な環状ホスフ ァイト化合物及びある種のホスファイト化合物で安定化された高分子物質に関す る。更に詳しくは、本発明はある種のホスファイトクロリド、それから製造され た加水分解安定性環状ホスファイト及び少な(とも1種の環状ホスファイトの存 在によって熱誘導酸化崩壊に対して安定化された高分子物質に関する。
ポリアミド及びポリオレフィン、特にポリプロピレンのような合成高分子物質は 、溶融加工(processing)の間における高分子物質の性質の有意な変 化を防ぐために熱崩壊に対する安定化を必要とする。たとえば、適切な安定化が なされない場合には、ポリプロピレンのメルトフローレートは、種々の配合物及 び製品の配合においてその押出の間にかなり変化する。種々の環状ホスファイト 及びポリオレフィン中におけるその使用は公知である。たとえば、米国特許第4 .252.750号及び第4.673.701号参照。これらの公知環状ホスフ ァイト化合物の多くは中等度〜不良な加水分解安定性を有し、そのために、ポリ オレフィン安定剤としてのそれらの有効性は、ある期間、特に高湿度領域におい て貯蔵された場合に減少する。本発明によって提供される新規な環状ホスファイ トは優れた加水分解安定性を示し、ポリオレフィンのための有効な加工安定剤で ある。
本発明の環状ホスファイトは一般式 (式中、各R1は水素、アルキル、アルアルキル、アリール、カルボキシ、アル コキシカルボニルまたはハロゲンから独立して選ばれ; 各R2は水素、アルキル、アルアルキル、アルコキシ、アリール、カルボキシ、 アルコキシカルボニルまたはハロゲンから独立して選ばれ、 R3は(a)n9月である場合には水素、アルキル、シクロヘキシルまたはアリ ールであり; (b)nか2である場合にはアルキレン、シクロヘキシレン、シ クロヘキシレンジアルキレン、アリーレンまたは式 [式中、R1及びR2は前に定義した通りであり、A2はl。
3−または1,4−フェニレンである]を有する二価の基であり; (c)nが 3である場合にはアルカントリイルであり二または(d)nが4である場合には アルカンテトライルであり; nは1.2.3または4であり;そしてA1は1,3−フェニレンである) を有する。
R’ 、R2及びR″によって表されるアルキル基の例としては炭素数18以下 のアルキル、たとえば、メチル、エチル、プロピル、2−プロピル、ブチル、2 −ブチル、2−メチル−2−プロピル、ペンチル、2−ペンチル、ヘキシル、2 −エチルヘキシル、2,4.4−トリメチル−2−ペンチル、デシル、ドデシル 、ヘキサデシル及びオクタデシルが挙げられる。R1及びR2によって表される アルキル基は好ましくは、炭素数が8以下である。R2が表すことができるアル コキシ基ならびにR1及びR1が表すことができるアルコキシカルボニル基のア ルコキシカルボニル部分のアルコキシ部分は、炭素数が8以下で、メトキシ、エ トキシ、プロポキシ、ブトキシ、ヘキシルオキシ、オクチルオキシ及びそれらの 異性体を含む。R’、R”及びR3によって表されるアリール基ならびにR1及 びR2によって表されるアルアルキル基ならびにR3によって表されるアリーレ ン基のアリール部分は、未置換のフェニルであってもよいし、あるいは低級、す なわち、炭素数4以下のアルキル、低級アルコキシまたはハロゲン、たとえば、 塩素もしくは臭素から選ばれた1個または2個の基で置換されたフェニルであっ てもよい。アルアルキル基のアルキル部分は代表的には低級アルキルである。R 3が表すことができるアルキレン基は炭素数が8以下であることができる。R3 が表すことができるアルカントリイル及びアルカンテトライル残基は炭素数が3 〜8であることができる。
式(I)の化合物は、式 を有する本発明の新規ホスファイトクロリドと水、アルカノールまたは式HO− R’を有するフェノール、式HO−R’−0)1を有するジオールまたは式 [式中、R1、R1、RH及びA1は前に定義した通りである] を有するトリオールもしくはテトラオールのようなヒドロキシ化合物とを反応さ せることによって製造できる。ヒドロキシ化合物の例としてはメタノール、エタ ノール、プロパツール、ブタノール、2−エチル−2−プロパツール、2−エチ ルヘキサノール、ドデカノール、シクロヘキサノール、フェノール、4−メトキ シフェノール、2,4−ビス(2−エチル−2−プロピル)フェノール、1+、 2−エタンジオール、1.4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1 ゜4−シクロヘキサンジメタツール、ヒドロキノン、レソルシノール、グリセリ ン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン及びペンタエリスリトール が挙げられる。ヒドロキシ化合物はまた、下記の式(I)を有する1、4−ビス (ヒドロキシフェニルプロピル)ベンゼン化合物またはそれらの1,4−フェニ レン異性体の1つ、好ましくはR1が水素または炭素数1〜8のアルキルである ものとすることかで式(If、)のホスファイトクロリド化合物は、式を有する ビス(ヒドロキシフェニルプロピル)ベンゼン化合物と三塩化燐とを公知のホス ファイトエステル合成法に従って反応させることによって得ることができる。た とえば、三塩化燐は炭化水素のような不活性溶媒中に溶解させたビス(ヒドロキ シフェニルプロピル)ベンゼン化合物に徐々にまたは一度に加える。次いで、塩 化水素が発生しなくなるまで、たとえば、40〜90°Cの範囲において得られ た混合物を加熱することができる。ホスファイトクロリド化合物の炭化水素溶液 を使用して式(I)の化合物を製造できる。通常、酸受容体、好ましくは炭化水 素溶媒中に可溶性であるかまたは炭化水素溶媒と混和性であるものをホスファイ トクロリドの溶液に加え、次いで、ヒドロキシ化合物の添加を行う。
ビス(ヒドロキシフェニルプロピル)ベンゼン化合物は、m−またはp−ジイソ プロペニルベンゼンと式[式中、R1及びR1は前に定義した通りである]を有 するフェノールとを反応させることによって製造する。
フェノール(IV)の例としては2−メチルフェノール、2゜4−ビス(2−メ チル−2−ブチル)フェノール、4−(2゜4.4−トリメチル−2−ペンチル )フェノール、2,4−ビス(2−メチル−2−プロピル)フェノール、4−メ チルフェノール、2−(2−メチル−2−プロピル)−4−メチルフェノール、 4−オクチルフェノール、4−ドデシルフェノール、2−(2−ブチル)−4− (2−メチル−2−プロピル)フェノール、4−メトキシフェノール、4−クロ ロフェノール、4−メトキシカルボニルフェノール、4− (2−フェニル−2 −プロピル)フェノール及び2−メチル−4−(1−フェニルエチル)フェノー ルが挙げられる。フェノール(■)の他の例は米国特許第4.141.903号 、第4.219.480号及び第4.275.004号中に示されている。フェ ノール(■)はまた、ホスファイトクロリド(II)と反応させたヒドロキシ化 合物として使用できる。
本発明の好ましい化合物は式(I) し式中、R1は水素または炭素数8以下のアルキルであり;]R2は炭素数8以 下のアルキルまたはアルコキシ、炭素数7〜9のフェニルアルキル、クロロまた はメトキシカルボニルであり: nは】または2であり; R3は水素、炭素数18以下のアルキル、炭素数2〜10のアルキレンまたはフ ェニレンである] の化合物である。
本発明の環状ホスファイト化合物及びそれらの製造について以下の例によってさ らに説明する。
例1 70°Cにおいてトルエン1リットル中1. 3−ビス−[2−[2−(2−ヒ ドロキシ−5−メチルフェニル)コブロピル]ベンゼン(0,267モル)に2 0分間にわたって窒素流と共に三塩化燐(0,32モル)を滴加する。70°C において6.5時間加熱後、塩化水素が発生しなくなる。次いで、トルエン溶液 を5°Cに冷却し、水(0,426モル)を滴加する。窒素でスバージしながら 、混合物を5°Cにおいて1時間攪拌する。溶媒をストリップして構造: の生成物110g (理論量の97%)を生じる。
FDMS MW = 420; M、P、=78〜83℃。
例2 例1において記載したようにして製造したホスファイトクロリド中間体の5°C トルエン溶液にピリジン(300ml)及びメタノール(1,25モル)を順次 加える。得られた混合物を5°Cにおいて1時間攪拌し、次いで、濾過してピリ ジニウム塩を除去する。溶媒の除去時に得られた粗製生成物をヘプタンメタノー ルから再結晶して構造: を有する生成物を収率81%で生じる。
FDMS MW = 434. M、P、=84〜85℃。
例3 例1に従って製造したホスファイトクロリド0,02モルのトルエン溶液にピリ ジン(20ml)及び2,4−ビス−(2−メチル−2−プロピル)フェノール (0,02モル)を順次滴加する。混合物を70°Cにおいて15分間攪拌し、 次いで、−夜装置する。混合物を濾過した後、溶媒を除去して構造:を有する生 成物を収率77%で生じる。
元素分析 (C,。H4−01P)についての計算値: C,78,90゜P、5.10 実測値: C,78,00,P、 5.05FDMS MW = 608゜ 例4 メタノールではなく、オクタツールを用いて例2を繰り返して、構造: を有する環状ホスファイトを収率59%で得る。
FDMS MW = 532゜ 例5 例2を繰り返して、構造: を有するビスー環状ホスファイトを収率73%で得る。
元素分析 実測値: C,75,35; H,7,88FDMS MIV = 908゜ ルを用いて例2を繰り返して、構造: を有するビスー環状ホスファイトを収率69%で得る。
FDMS MW = 948゜ 口I P−IP−11−INへ ヘ ヘ H77Elr′(0(F+:: N  :: 二c=l ++l r−1s + m wぷf い ψ r−+ Φ O r4 +−1t@ + r−I N 本発明によって提供される他の環状ホスファイト化合物を表■中に示す。式(i )に従うこれらの化合物は、適当なビス−(ヒドロキシフェニルプロピル)ベン ゼン化合物(I)と三塩化燐とを反応させ、そして中間体ホスファイトクロリド とヒドロキシ化合物とを反応させることによって前記手法によって製造できる。
前記環状ホスファイト化合物及び2個の公知ホスファイト化合物の加水分解安定 性を、各ホスファイト化合物の秤量したサンプル(1(Ig)を60″C及び湿 度100%の炉中に入れることによって評価する。2. 6.10及び31時間 の間隔で炉からサンプルを取り出し、秤量して、各サンプルによって吸収された 水の量(重量%)を測定する。サンプルが秤量される時間毎の、各サンプルによ って吸収される全水分を表■中に示す。ホスファイト化合物A、B及びCは各々 、例1,2及び3において製造された環状ホスファイト化合物である。ホスファ イトD及びEは構造: を有する。
表■ 2 0.5 0 0 1.3 0 6 0.5 0 0 6.7 0.9 10 0.5 0 0 8.3 0.931 1.5 1.3 0 10.2  2.0ホスファイト化合物C,D及びEの各サンプルを、加水分解崩壊生成物で ある2、4−ビス−(2−メチル−2−プロピル)フェノールの存在についてガ スクロマトグラフィーによって最初に及び2.5,4.5及び25.5時間の間 隔において分析する。検出されたフェノールのモル%を表組中に示す。
2.5 +、9 2.5 8.2 4、5 2.4 10.6 25、5 3.970.0 27.3 式(I)の環状ホスファイト化合物は、熱及び/または可視光線及び紫外線を含 む輻射線・\の暴露時に分解を受けやすい種々の合成高分子物質中に使用できる 。このような高分子物質の例としては、a−オlノフィンのホモポリマー及びコ ポリマー、たとえば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン、ポリ−3− メチルブテン及びエチレンプロピレンコポリマー、エチレン−ビニルアセテート コポリマー、ポリスチレン、スチレンと他のエチレン系不飽和モノマー、たとえ ば、無水マレイン酸、ブタジェン及びアクリロニトリルとのコポリマー、ポリビ ニルアセテート、アクリロニトリル−ブタジェン−スチレンポリマー、ポリメタ クリレートポリマー、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリアミ ド、たとえば、ポリカプロラクタム(ナイロン6)、ポリカーボネート、不飽和 ポリエステルならびにポリビニリデンクロリドが挙げられる。本発明の好ましい 安定化組成物は、安定量の1種または複数の式(I)の化合物を含む炭素数2〜 4のa−オレフィンのホモポリマー及びコポリマー、特にポリプロピレンを含ん でなる。
ポリマー分解を効果的に抑制するであろう高分子物質中のホスファイト化合物の 濃度は、安定化されるポリマー及び安定化高分子物質の最終用途に応じてかなり 変化させることができる。一般に、o、ooi〜5.0重量%の範囲の濃度を使 用でき、0.01〜0.5重量%の濃度が最も普通である。本発明によって提供 されるホスファイト安定剤は代表的には、他の常用の安定剤、たとえば、フェノ ール系酸化防止剤、有機酸の多価塩及びチオエーテルと組み合わせて使用される であろう。
さらに、商用高分子組成物の配合において常用される他の添加剤、たとえば、可 塑剤、滑剤、乳化剤、静電防止剤、難燃剤、顔料及び充填剤も存在できる。
常用のブレンド法によって高分子物質中にホスファイト安定剤を混合できる。た とえば、安定剤を練りロール機上でポリマーの溶融液に直接加えて、ホスファイ ト化合物をポリマー全体に均一に分布させることができる。あるいは、ホスファ イト化合物をペレットのような微細な形のポリマーとトライブレンドし、次いで そのトライブレンドをさらに混合して4、押出機から押出できる。
ホスファイト化合物を含まない及びホスファイト化合物A。
BまたはDを0.031)hr含み、ステアリン酸カルシウム0.05phr( ポリプロピレン100重量部当りの重量部)、グリセロール0、03phr及び 2.2−ビス[[3−[3,5−ビス−(1゜1−ジメチルエチル)−4−ヒド ロキシフェニル]−1−オキソプロポキシ]−メチル]−1,3−プロパンジイ ル−3゜5−ビス(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシベンゼンプロパ ノエート(Irganox 1010安定剤) 0.05phrを含むポリプロ ピレンのサンプルを、プラスチック袋中で添加剤とポリプロピレンペレットとを 一緒に振盪し、次いでそのドライミックスをブレンドし、そして各サンプルを2 30°Cにおいてブラベンダーー軸スクリューロッド押出機から押出することに よって調製する。各ポリプロピレンサンプルを5回押出した。各押出後、各サン プルについてメルトフローレート(ASTM法DI238、手順A、条件Egg /10分、MFR)及び黄色度指数(ASTM法D1925.b値)を測定する 。各ホスファイト化合物のポリプロピレン熱崩壊に対する抑制効果を表■に示す 。
表■ ホスファイト 第1回押出 第3回押出 第5回押出化合物 b* MFRb*  MFRb値 MFRな し 9.1 4.2. 9.3 5,0 11.6  6.3A Io、2 0,8 12.6 1.4 12.7 1.9B 9.1  1,0 11.4 1,2 13.8 1.6D 8.0 1.1 9.1  1.3 11.1 2.0本発明を特に、その好ましい実施態様に関して詳細に 説明したが、発明の精神及び範囲内において変更及び修正が行えることを理解さ れたい。
国際調査報告 国際調査報告

Claims (22)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.式 ▲数式、化学式、表等があります▼(I){式中、各R1は水素、アルキル、ア ルアルキル、アリール、カルボキシ、アルコキシカルボニルまたはハロゲンから 独立して選ばれ; 各R2は水素、アルキル、アルアルキル、アルコキシ、アリール、カルボキシ、 アルコキシカルボニルまたはハロゲンから独立して選ばれ、 R3は(a)nが1である場合には水素、アルキル、シクロヘキシルまたはアリ ールであり;(b)nが2である場合にはアルキレン、シクロヘキシレン、シク ロヘキシレンジアルキレン、アリーレンまたは式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R1及びR2は前に定義した通りであり、A2は1,3−または1,4 −フェニレンである]を有する二価の基であり;(c)nが3である場合にはア ルカントリイルであり;または(d)nが4である場合にはアルカンテトライル であり; nは1,2,3または4であり;そしてA1は1,3−フェニレンである}を有 する化合物。
  2. 2.式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R3は水素、アルキルまたはアリールである]を有する請求の範囲第1 項に記載の化合物。
  3. 3.R1が水素または炭素数8以下のアルキルであり;R2が炭素数8以下のア ルキルもしくはアルコキシ、炭素数7〜9のフェニルアルキル、クロロまたはメ トキシカルボニルであり;且つ R3が水素または炭素数18以下のアルキルである請求の範囲第2項に記載の化 合物。
  4. 4.式 ▲数式、化学式、表等があります▼(I)[式中、R3はアルキレン、シクロヘ キシレン、シクロヘキシレンジアルキレンまたはアリーレンである]を有する請 求の範囲第1項に記載の化合物。
  5. 5.R1が水素または炭素数8以下のアルキルであり;R2が炭素数8以下のア ルキルもしくはアルコキシ、炭素数7〜9のフェニルアルキル、クロロまたはメ トキシカルボニルであり;且つ R3が炭素数2〜10のアルキレンまたはフェニレンである請求の範囲第4項に 記載の化合物。
  6. 6.式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R2はアルカントリイルである]を有する請求の範囲第1項に記載の化 合物。
  7. 7.R1が水素または炭素数8以下のアルキルであり;R2が炭素数8以下のア ルキルもしくはアルコキシ、炭素数7〜9のフェニルアルキル、クロロまたはメ トキシカルボニルであり;.且つ R2が炭素数3〜8のアルカントリイルである請求の範囲第6項に記載の化合物 。
  8. 8.式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R3はアルカンテトライルである]を有する請求の範囲第1項に記載の 化合物。
  9. 9.R1が水素または炭素数8以下のアルキルであり;R2が炭素数8以下のア ルキルもしくはアルコキシ、炭素数7〜9のフェニルアルキル、クロロまたはメ トキシカルボニルであり;且つ R3が炭素数3〜8のアルカンテトライルである請求の範囲第6項に記載の化合 物。
  10. 10.式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、各R1は水素、アルキル、アルアルキル、アリール、カルボキシ、アル コキシカルボニルまたはハロゲンから独立して選ばれ; 各R2は水素、アルキル、アルアルキル、アルコキシ、アリール、カルボキシ、 アルコキシカルボニルまたはハロゲンから独立して選ばれ、 Aは1,3−フェニレンである]を有する化合物。
  11. 11.R1が水素または炭素数8以下のアルキルであり;且つ R2が炭素数8以下のアルキルもしくはアルコキシ、炭素数7〜9のフェニルア ルキル、クロロまたはメトキシカルボニルである請求の範囲第10項に記載の化 合物。
  12. 12.安定化量の、請求の範囲第1項において定義された化合物を含む、熱及び /または輻射線への暴露時に分解を受けやすい合成高分子物質を含んでなる安定 化組成物。
  13. 13.安定化量の、請求の範囲第2項において定義された化合物を含む請求の範 囲第12項に記載の安定化組成物。
  14. 14.高分子物質の重量に基づき0.01〜0.5重量%の請求の範囲第1項に おいて定義された化合物を含む、熱及び/または輻射線への暴露時に分解を受け やすい合成高分子物質を含んでなる請求の範囲第12項に記載の安定化組成物。
  15. 15.高分子物質の重量に基づき0.01〜0.5重量%の請求の範囲第2項に おいて定義された化合物を含む、熱及び/または輻射線への暴露時に分解を受け やすい合成高分子物質を含んでなる請求の範囲第12項に記載の安定化組成物。
  16. 16.高分子物質の重量に基づき0.01〜0.5重量%の請求の範囲第4項に おいて定義された化合物を含む、熱及び/または輻射線への暴露時に分解を受け やすい合成高分子物質を含んでなる請求の範囲第12項に記載の安定化組成物。
  17. 17.高分子物質の重量に基づき0.01〜0.5重量%の請求の範囲第6項に おいて定義された化合物を含む、熱及び/または輻射線への暴露時に分解を受け やすい合成高分子物質を含んでなる請求の範囲第12項に記載の安定化組成物。
  18. 18.高分子物質の重量に基づき0.01〜0.5重量%の請求の範囲第8項に おいて定義された化合物を含む、熱及び/または輻射線への暴露時に分解を受け やすい合成高分子物質を含んでなる請求の範囲第12項に記載の安定化組成物。
  19. 19.前記高分子物質がa−オレフィンホモポリマーまたはコポリマーである請 求の範囲第12項に記載の安定化組成物。
  20. 20.前記高分子物質がポリプロピレンである請求の範囲第12項に記載の安定 化組成物。
  21. 21.a−オレフィンポリマーの重量に基づき0.01〜0.05重量%の請求 の範囲第2項において定義された化合物を含む、a−オレフィンホモポリマーま たはコポリマーを含んでなる請求の範囲第12項に記載の安定化組成物。
  22. 22.a−オレフィンポリマーの重量に基づき0.01〜0.05重量%の請求 の範囲第4項において定義された化合物を含む、a−オレフィンホモポリマーま たはコポリマーを含んでなる請求の範囲第12項に記載の安定化組成物。
JP1510720A 1988-10-04 1989-10-03 環状ホスファイト及び安定化高分子組成物 Pending JPH04500807A (ja)

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