JPH044896A - セファレキシンの製造法 - Google Patents
セファレキシンの製造法Info
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- JPH044896A JPH044896A JP2105742A JP10574290A JPH044896A JP H044896 A JPH044896 A JP H044896A JP 2105742 A JP2105742 A JP 2105742A JP 10574290 A JP10574290 A JP 10574290A JP H044896 A JPH044896 A JP H044896A
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- Japan
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- cephalexin
- culture
- xanthomonas
- strain
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- Pending
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Enzymes And Modification Thereof (AREA)
- Preparation Of Compounds By Using Micro-Organisms (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、7−アミノデスアセトキシセファロスポラン
酸とフェニルグリシンおよびその反応性誘導体に酵素を
作用させて効率的にセファレキシンを製造する方法に関
する。
酸とフェニルグリシンおよびその反応性誘導体に酵素を
作用させて効率的にセファレキシンを製造する方法に関
する。
従来より、7−アミノデスアセトキシセファロスポラン
酸とフェニルグリシンおよびその反応性誘導体からセフ
ァレキシンを得る方法としては、化学的アシル化法が主
流を占めてきたが、反応液中に存在する有機溶媒や五塩
化燐などの取扱い上の安全性および化学物質の製品への
混入などの問題があった。
酸とフェニルグリシンおよびその反応性誘導体からセフ
ァレキシンを得る方法としては、化学的アシル化法が主
流を占めてきたが、反応液中に存在する有機溶媒や五塩
化燐などの取扱い上の安全性および化学物質の製品への
混入などの問題があった。
一方、これらの問題点の解決とともに光学活性体の選択
的な合成が可能であるなどの利点から、生物学的アシル
化法が注目され、各種微生物およびその生成する酵素を
用いる方法が報告されている。これらの報告の中でセフ
ァレキシンの製造に関するものには、特公昭52−20
522号、特公昭55−48797号、特公昭55−4
8798号、特公昭54−39473号公報などがある
。
的な合成が可能であるなどの利点から、生物学的アシル
化法が注目され、各種微生物およびその生成する酵素を
用いる方法が報告されている。これらの報告の中でセフ
ァレキシンの製造に関するものには、特公昭52−20
522号、特公昭55−48797号、特公昭55−4
8798号、特公昭54−39473号公報などがある
。
さらに、酵素法によるセファレキシンの製造法について
は、総説を含めてアドバンス・イン・7プライド・マイ
クロバイオロジー(^dvance 1nApplie
d Microbiology + Vol、17(1
974)、 Vol、20(1976)、 Vol、
21(1977) )およびザ・ジャバニズ・ジャーナ
ル・オブ・アンティバイオティクス・サブリメント(T
he Jap、 J、 Antib、 5upp1.(
1977))をはじめとして、多くの報告がなされてい
る。
は、総説を含めてアドバンス・イン・7プライド・マイ
クロバイオロジー(^dvance 1nApplie
d Microbiology + Vol、17(1
974)、 Vol、20(1976)、 Vol、
21(1977) )およびザ・ジャバニズ・ジャーナ
ル・オブ・アンティバイオティクス・サブリメント(T
he Jap、 J、 Antib、 5upp1.(
1977))をはじめとして、多くの報告がなされてい
る。
しかし、これら生物学的アシル化法によるセファレキシ
ンの製造が産業上で利用されているのは、バシルス・メ
ガテリウム(Bacillus megatheriu
m)B−400を用いる方法(東洋醸造■、バイオイン
ダストリー(Biotndustry+ νo1.2(
No、1)、νo】、3(No、3))およびペニシリ
ンアシラーゼを用いる方法(協和醗酵工業■、化学と生
物Vo[、l6(No、8)などの掻く少数例が報告さ
れている程度であり、他のβ−ラクタム誘導体の製造法
に生物学的方法を用いるためにも、より工業的な酵素的
製造法の開発が望まれていた。
ンの製造が産業上で利用されているのは、バシルス・メ
ガテリウム(Bacillus megatheriu
m)B−400を用いる方法(東洋醸造■、バイオイン
ダストリー(Biotndustry+ νo1.2(
No、1)、νo】、3(No、3))およびペニシリ
ンアシラーゼを用いる方法(協和醗酵工業■、化学と生
物Vo[、l6(No、8)などの掻く少数例が報告さ
れている程度であり、他のβ−ラクタム誘導体の製造法
に生物学的方法を用いるためにも、より工業的な酵素的
製造法の開発が望まれていた。
本発明者らは、従来知られた酵素的製造法をより効率よ
く行なうために、今回新たにセファロスポリン誘導体の
アミド結合を分解する酵素を生産する微生物を検索した
結果、キサントモナス(Xanthomonas) s
p、 YT−1099株が強力なセファロスポリン誘導
体のアミド結合分解能を有すると共に7−アミツデスア
セトキシセフアロスボラン酸とフェニルグリシンおよび
その反応性誘導体をアシル化させてセファレキシンを製
造させる強力な能力を有することを見出して本発明を完
成させるに至った。
く行なうために、今回新たにセファロスポリン誘導体の
アミド結合を分解する酵素を生産する微生物を検索した
結果、キサントモナス(Xanthomonas) s
p、 YT−1099株が強力なセファロスポリン誘導
体のアミド結合分解能を有すると共に7−アミツデスア
セトキシセフアロスボラン酸とフェニルグリシンおよび
その反応性誘導体をアシル化させてセファレキシンを製
造させる強力な能力を有することを見出して本発明を完
成させるに至った。
すなわち、本発明は7−アミノデスアセトキシセファロ
スポラン酸とフェニルグリジンおよびその反応性誘導体
を反応させてセファレキシンを製造する方法において、
キサントモナスsp、 YT1099株の産生ずるペニ
シリンアシラーゼを反応させることを特徴とするセフブ
レキシンの製造法に関する。
スポラン酸とフェニルグリジンおよびその反応性誘導体
を反応させてセファレキシンを製造する方法において、
キサントモナスsp、 YT1099株の産生ずるペニ
シリンアシラーゼを反応させることを特徴とするセフブ
レキシンの製造法に関する。
本発明をさらに詳細に説明すると、本発明に用いられる
キサントモナスsp、 YT−1099株は、吉冨製薬
株式会社・吉富工場内から分離されたものである。
キサントモナスsp、 YT−1099株は、吉冨製薬
株式会社・吉富工場内から分離されたものである。
本微生物の菌学的性質を常法の細菌の分離同定法、たと
えば、長谷用武治編著(微生物の分離と同定法、学会出
版センター)に記載の条件等に従って調べた。
えば、長谷用武治編著(微生物の分離と同定法、学会出
版センター)に記載の条件等に従って調べた。
その結果は、次に示す通りである。
a、形態
本菌株は、普通寒天平板培地上で黄色、半透明で湿潤し
たコロニーを形成し、色素産生はない。
たコロニーを形成し、色素産生はない。
位相差顕微鏡観察では、運動性のある桿菌で、細胞の大
きさは1〜1.5 X 3〜3.5mμである。
きさは1〜1.5 X 3〜3.5mμである。
b、pH生育範囲
本菌株を普通液体培地に接種24時間後、120時間後
および168時間後に、生育状況を観察した結果、p
H6,0〜8,0が最適生育範囲であることが分かった
。p H5,0および9.0では徐々に生育が認められ
たが、p H4,0以下およびpH10,0以上での生
育は認められなかった。
および168時間後に、生育状況を観察した結果、p
H6,0〜8,0が最適生育範囲であることが分かった
。p H5,0および9.0では徐々に生育が認められ
たが、p H4,0以下およびpH10,0以上での生
育は認められなかった。
C9培養的性質
(11背il!寒天培地
30℃、24時間の培養ではコロニーは小すいが、48
〜72時間の培養で1〜1.51の円形番こなり、辺縁
性、表面平滑で黄色半透明で湿潤し、光沢があり、水溶
性色素の産生は見られなかった。
〜72時間の培養で1〜1.51の円形番こなり、辺縁
性、表面平滑で黄色半透明で湿潤し、光沢があり、水溶
性色素の産生は見られなかった。
(2+ 9i11斜面培地
30℃、24〜48時間の培地で直答は糸状に生育し、
黄色半透明で湿潤し、光沢があり、水溶性色素の産生は
見られなかった。
黄色半透明で湿潤し、光沢があり、水溶性色素の産生は
見られなかった。
(3)普通液体培地
30℃、24時間の培地で、菌の生育に伴って培養液は
均等に混濁し、48〜72時間で試験管底に沈殿を生じ
たが、菌膜は形成されなかった。
均等に混濁し、48〜72時間で試験管底に沈殿を生じ
たが、菌膜は形成されなかった。
(4)ゼラチン培地
30℃、24〜48時間の培養で培養表面に菌の生育が
見られ、72時間ごろからゼラチンの液化が起こり、1
68時間で完全に液化した。
見られ、72時間ごろからゼラチンの液化が起こり、1
68時間で完全に液化した。
以下余白
上記の同定実験により、本菌株はキサントモナス−フル
トフィリア(Xanthomonas maltoph
ilia)に類似した性状を有することが判明した。
トフィリア(Xanthomonas maltoph
ilia)に類似した性状を有することが判明した。
本発明にR4Qlする菌株として、キサントモナスマル
トフィリア ^TCC17808、キサントモナス・マ
ルトフィリアIFO12020およびキサントモナスマ
ルトフィリアIFO12690が存在するため、これら
を対照菌株として、本発明のキサントモナスS[YT−
1099株の生理学的性質を詳細に比較検討した。
トフィリア ^TCC17808、キサントモナス・マ
ルトフィリアIFO12020およびキサントモナスマ
ルトフィリアIFO12690が存在するため、これら
を対照菌株として、本発明のキサントモナスS[YT−
1099株の生理学的性質を詳細に比較検討した。
その結果を第3表および第4表に示した。
表中、YT−1099はキサントモナスsp、 YT−
1099ATCC17808はキサントモナス・マルト
フィリアATCC17808、IFO12020はキサ
ントモナス・マルトフィリアIFO12020およびI
FO12690はキサントモナス・マルトフィリアIF
O12690をそれぞれ示し、NTは未試験を意味する
。
1099ATCC17808はキサントモナス・マルト
フィリアATCC17808、IFO12020はキサ
ントモナス・マルトフィリアIFO12020およびI
FO12690はキサントモナス・マルトフィリアIF
O12690をそれぞれ示し、NTは未試験を意味する
。
以下余白−
上記の蘭学的性質を有する本面の分類学上の位置をバー
シース・マニュアル・オプ・デターミネイティブ・バク
テリオロジー(Bergeyb Mannualof
Determinative Bacteriolog
y )第8版を参照して検討すると、本面はキサントモ
ナス属に属し、これら対照菌株に類似することが認めら
れた。
シース・マニュアル・オプ・デターミネイティブ・バク
テリオロジー(Bergeyb Mannualof
Determinative Bacteriolog
y )第8版を参照して検討すると、本面はキサントモ
ナス属に属し、これら対照菌株に類似することが認めら
れた。
しかし、本菌株は対照菌株とは炭素源の利用性および糖
の資化性の点で相違点を有するので、キサントモナス属
に属するl新菌株と認め、キサントモナスsp、 YT
−1099株と命名した。
の資化性の点で相違点を有するので、キサントモナス属
に属するl新菌株と認め、キサントモナスsp、 YT
−1099株と命名した。
なお、本菌株は、工業技術院微生物工業技術研究所に微
生物受託番号[微工研菌寄第11401号(FEI?M
P41401) Jのもとに寄託されている。
生物受託番号[微工研菌寄第11401号(FEI?M
P41401) Jのもとに寄託されている。
これらの菌株から酵素を得るために、まず培養物を得る
必要があるが、培養物を得るための培養方法としては、
通常、好気的培養が望ましく、好適には液体通気攪拌培
養により行なわれる。培地組成としては、通常バクテリ
アの培地として使用される培地、たとえばペプトン、肉
エキス、酵母エキス、大豆分解物、大豆浸出液、コーン
スチープリカーなどの窒素源、糖密、ブドウ、糖、グリ
セリンなどの炭素源、リン酸塩、マグネシウム塩、食塩
その他の無機塩または場合によりその他の生長促進物質
などを適宜含有する栄養培地をp H6〜7に調整して
使用する。培養温度は25〜30℃、培養時−間は培養
条件、特に培養装置、培地組成、培養温度などにより異
なるが、セファレキシン生産活性が最大を示す時期に培
養を終了するように決定するのがよく、通常12〜20
時間が適当である。
必要があるが、培養物を得るための培養方法としては、
通常、好気的培養が望ましく、好適には液体通気攪拌培
養により行なわれる。培地組成としては、通常バクテリ
アの培地として使用される培地、たとえばペプトン、肉
エキス、酵母エキス、大豆分解物、大豆浸出液、コーン
スチープリカーなどの窒素源、糖密、ブドウ、糖、グリ
セリンなどの炭素源、リン酸塩、マグネシウム塩、食塩
その他の無機塩または場合によりその他の生長促進物質
などを適宜含有する栄養培地をp H6〜7に調整して
使用する。培養温度は25〜30℃、培養時−間は培養
条件、特に培養装置、培地組成、培養温度などにより異
なるが、セファレキシン生産活性が最大を示す時期に培
養を終了するように決定するのがよく、通常12〜20
時間が適当である。
こうして得られた培養物またはその処理物がセファレキ
シン生産反応に使用されるが、ここでいう培養物の処理
物とは、培養物に適当な処理を加えてセファレキシン生
産活性を高め、セファレキシンの製造に有利な形にした
ものを指す。たとえば、本発明におけるセファレキシン
生産活性は、通常、菌体内に存在するので、培養液から
集菌して得られた菌体または菌体を破砕して得られる酵
素液を既知の酵素精製法、たとえば、硫安、食塩などの
可溶性塩類で塩析するか、メタノール、エタノール、ア
セトンなどの親水性有機溶媒を加えて沈殿させるか、ま
たは沈殿物を水に溶解し、これを半透膜で透析すること
により不純物を除去する。また、無機または有機吸着剤
もしくはゲル濾過剤に対する吸着親和力の差を利用して
吸着クロマトグラフィー、イオン交換クロマトグラフィ
ーもしくはゲル濾過などの通常の手段を適用して低分子
、高分子の不純物、蛋白質などを有効に分離することが
できる。得られる活性体溶液は、減圧濃縮、凍結乾燥な
どの手段により固形物として得ることもでき、そのまま
セファレキシンの生産反応に使用してもよい。さらに精
製を必要とする場合は、蛋白質、酵素などの精製に通常
使用される手段、たとえば吸着剤、ゲル濾過剤を駆使す
ることにより分離精製することができる。
シン生産反応に使用されるが、ここでいう培養物の処理
物とは、培養物に適当な処理を加えてセファレキシン生
産活性を高め、セファレキシンの製造に有利な形にした
ものを指す。たとえば、本発明におけるセファレキシン
生産活性は、通常、菌体内に存在するので、培養液から
集菌して得られた菌体または菌体を破砕して得られる酵
素液を既知の酵素精製法、たとえば、硫安、食塩などの
可溶性塩類で塩析するか、メタノール、エタノール、ア
セトンなどの親水性有機溶媒を加えて沈殿させるか、ま
たは沈殿物を水に溶解し、これを半透膜で透析すること
により不純物を除去する。また、無機または有機吸着剤
もしくはゲル濾過剤に対する吸着親和力の差を利用して
吸着クロマトグラフィー、イオン交換クロマトグラフィ
ーもしくはゲル濾過などの通常の手段を適用して低分子
、高分子の不純物、蛋白質などを有効に分離することが
できる。得られる活性体溶液は、減圧濃縮、凍結乾燥な
どの手段により固形物として得ることもでき、そのまま
セファレキシンの生産反応に使用してもよい。さらに精
製を必要とする場合は、蛋白質、酵素などの精製に通常
使用される手段、たとえば吸着剤、ゲル濾過剤を駆使す
ることにより分離精製することができる。
このようにして得られる活性体はアシラーゼ活性を有し
、D−フェニルグリシンメチルエステルを基質とする加
水分解で測定した場合、5〜45℃およびpH4,5〜
8.0で活性を示すが、5〜30°Cおよびp H5,
5〜6.0の範囲で強い活性を示した。また、その活性
は5〜30℃およびpH5〜8の範囲では、安定であっ
た。
、D−フェニルグリシンメチルエステルを基質とする加
水分解で測定した場合、5〜45℃およびpH4,5〜
8.0で活性を示すが、5〜30°Cおよびp H5,
5〜6.0の範囲で強い活性を示した。また、その活性
は5〜30℃およびpH5〜8の範囲では、安定であっ
た。
この活性体を弱酸性溶液中で、7−アミノデスアセトキ
シセファロスポラン酸とフェニルグリシンまたはその反
応性誘導体に作用させることにより、セファレキシンを
得る。この反応はpH4〜7で進行するが、p H5〜
5.5における反応活性が最も強い。
シセファロスポラン酸とフェニルグリシンまたはその反
応性誘導体に作用させることにより、セファレキシンを
得る。この反応はpH4〜7で進行するが、p H5〜
5.5における反応活性が最も強い。
また、この培養物または部分精製または精製された処理
物は物理的あるいは化学的手段によって水不溶性高分子
物質に結合された固定化酵素などの活性体としてもよい
。
物は物理的あるいは化学的手段によって水不溶性高分子
物質に結合された固定化酵素などの活性体としてもよい
。
これらの培養物またはその処理物を用いてセファレキシ
ンを製造する場合、通常、水溶液中で行なうのがよく、
その場合、反応液のpHは4〜7に調整するのが望まし
い。培養物またはその処理物が水に可溶な場合、上記反
応は緩衝液中で行なわれるが、培養物の処理物が水に不
溶な場合は、上記反応は懸濁液の形で実施されるかある
いは水不溶性の活性体をカラムに充填し、基質を溶解し
た水溶液がこのカラム内を通過する際に、生成反応が行
なわれるような形で実施される。そのような担体として
は、CNBr活性化5epharose 4B (ファ
ルマシア社製) 、AF−)レシルトヨパール650M
(東ソー社製)などの担体から選ばれる。
ンを製造する場合、通常、水溶液中で行なうのがよく、
その場合、反応液のpHは4〜7に調整するのが望まし
い。培養物またはその処理物が水に可溶な場合、上記反
応は緩衝液中で行なわれるが、培養物の処理物が水に不
溶な場合は、上記反応は懸濁液の形で実施されるかある
いは水不溶性の活性体をカラムに充填し、基質を溶解し
た水溶液がこのカラム内を通過する際に、生成反応が行
なわれるような形で実施される。そのような担体として
は、CNBr活性化5epharose 4B (ファ
ルマシア社製) 、AF−)レシルトヨパール650M
(東ソー社製)などの担体から選ばれる。
反応時間は基質濃度、培養物またはその処理物の活性の
強さ、反応温度などにより変化しうるが、通常1〜10
時間程度であって、セファレキシンが最高に生成される
時間を検討して適当な時間に反応を終了すればよい。カ
ラム弐の場合は基質の添加量を増減することにより適宜
変更できる。
強さ、反応温度などにより変化しうるが、通常1〜10
時間程度であって、セファレキシンが最高に生成される
時間を検討して適当な時間に反応を終了すればよい。カ
ラム弐の場合は基質の添加量を増減することにより適宜
変更できる。
反応温度は5〜20℃の間で選ばれる。基質濃度は主と
して培養物およびその処理物の活性の強さとの関係で決
められるが、通常0.1〜5%の範囲で選ばれる。
して培養物およびその処理物の活性の強さとの関係で決
められるが、通常0.1〜5%の範囲で選ばれる。
本発明における出発物質である7−アミノデスアセトキ
シセファロスポラン酸は様々の既知の方法により得られ
るが、反応液からセファレキシンを分離、精製する段階
で、本発明の培養物またはその処理物および本発明の反
応に悪影響を与えない範囲内の精製度で充分であり、水
)8液であればこれを特に精製することなく、適宜希釈
して、本発明に直接使用することができる。
シセファロスポラン酸は様々の既知の方法により得られ
るが、反応液からセファレキシンを分離、精製する段階
で、本発明の培養物またはその処理物および本発明の反
応に悪影響を与えない範囲内の精製度で充分であり、水
)8液であればこれを特に精製することなく、適宜希釈
して、本発明に直接使用することができる。
こうして上記の微生物の培養物またはその処理物の存在
下で生成されたセファレキシンは公知の方法、たとえば
カラムクロマトグラフィー、活性炭吸着法、非イオン性
樹脂吸着法、等電点沈殿法を使用することにより、反応
液から分離、精製することができる。
下で生成されたセファレキシンは公知の方法、たとえば
カラムクロマトグラフィー、活性炭吸着法、非イオン性
樹脂吸着法、等電点沈殿法を使用することにより、反応
液から分離、精製することができる。
以下余白
〔作用および発明の効果〕
キサントモナス sp、 VT−1099株の産生ずる
活性の強力なペニシリンアシラーゼを用いることにより
、抗生物質として繁用されているセファレキシンを効率
的に製造することができる。
活性の強力なペニシリンアシラーゼを用いることにより
、抗生物質として繁用されているセファレキシンを効率
的に製造することができる。
次に実施例を挙げて本発明方法をさらに詳細に説明する
が、これにより本発明方法を限定するものではない。
が、これにより本発明方法を限定するものではない。
実施例中で使用される二種類の培地組成を次に記す。
A培地
グルタミン酸ナトリウム 0.2 %酵母エ
キス 0.2 %ペプトン
0.5 %リン酸水素二カリウム
0.2 %塩化マグネシウム
0.1 %硫酸第二鉄
0.01%スクロース 2.0
%脱イオン水 p H7,2 B培地 グリセリン 3.0 %ポリペプ
トン 1.0 %肉エキス
1.0 %グルコース
2.0 %脱イオン水 p H6,5 実施例1 キサントモナスsp、 YT−1099(FERM P
41401)を100m1容三角フラスコ中のA培地2
0m1中に接種し、30℃で24時間振盪培養した。遠
心分離によって菌体を集め、50mMリン酸緩衝液(p
H6,0)20m]で1回洗浄した後、50mMリン酸
緩衝液(pH6,0)5mlに懸濁した。この懸濁液に
2%(W/V)の7−アミノ−3−デ人アセトキシセフ
ァロスポラン酸(以後、’1−ADCAと略記すること
もある)、4%(W/V)のD−フェニルグリシンメチ
ルエステルおよび20%のメタノールを含む50mMリ
ン酸緩衝液(pH6,0)5mlを加え、振盪しながら
37℃で60分間反応させた。反応液中に蓄積したセフ
ァレキシンを高速液体クロマト法で定量したところ、5
.8■/ m 1に達した。
キス 0.2 %ペプトン
0.5 %リン酸水素二カリウム
0.2 %塩化マグネシウム
0.1 %硫酸第二鉄
0.01%スクロース 2.0
%脱イオン水 p H7,2 B培地 グリセリン 3.0 %ポリペプ
トン 1.0 %肉エキス
1.0 %グルコース
2.0 %脱イオン水 p H6,5 実施例1 キサントモナスsp、 YT−1099(FERM P
41401)を100m1容三角フラスコ中のA培地2
0m1中に接種し、30℃で24時間振盪培養した。遠
心分離によって菌体を集め、50mMリン酸緩衝液(p
H6,0)20m]で1回洗浄した後、50mMリン酸
緩衝液(pH6,0)5mlに懸濁した。この懸濁液に
2%(W/V)の7−アミノ−3−デ人アセトキシセフ
ァロスポラン酸(以後、’1−ADCAと略記すること
もある)、4%(W/V)のD−フェニルグリシンメチ
ルエステルおよび20%のメタノールを含む50mMリ
ン酸緩衝液(pH6,0)5mlを加え、振盪しながら
37℃で60分間反応させた。反応液中に蓄積したセフ
ァレキシンを高速液体クロマト法で定量したところ、5
.8■/ m 1に達した。
実施例2
キサントモナスsp、 YT−1099を100m1容
三角フラスコ中のA培地15m1中に接種し、30°C
で24時間振盪培養した。2!容三角フラスコ中のA培
地250m1中に接種し、30°Cで30時間振盪培養
した後、30/用培養装置中のB培地201に接種し、
28℃で16時間培養した。培養終了後、遠心分離によ
って455gの湿り菌体を得た。これを50mMリン酸
緩衝液(pH6,0)11に懸濁した。この懸濁液5m
lに2%(W/V)の7−ADCA、4%(W/V)の
D−フェニルグリシンメチルエステルおよび20%のメ
タノールを含む50mMリン酸緩衝液(pH6,0)5
mlを加え、振盪しながら37℃で60分間反応させた
。反応液中に蓄積したセファレキシンを高速液体クロマ
ト法で定量したところ、8.4■/mlに達した。
三角フラスコ中のA培地15m1中に接種し、30°C
で24時間振盪培養した。2!容三角フラスコ中のA培
地250m1中に接種し、30°Cで30時間振盪培養
した後、30/用培養装置中のB培地201に接種し、
28℃で16時間培養した。培養終了後、遠心分離によ
って455gの湿り菌体を得た。これを50mMリン酸
緩衝液(pH6,0)11に懸濁した。この懸濁液5m
lに2%(W/V)の7−ADCA、4%(W/V)の
D−フェニルグリシンメチルエステルおよび20%のメ
タノールを含む50mMリン酸緩衝液(pH6,0)5
mlを加え、振盪しながら37℃で60分間反応させた
。反応液中に蓄積したセファレキシンを高速液体クロマ
ト法で定量したところ、8.4■/mlに達した。
実施例3
アルギン酸ナトリウム3gを100m1の脱イオン水に
溶解し、オートクレーブにて滅菌し、40℃まで冷却し
た。これに実施例1と同様にして培養して得た湿り菌体
1gを5mlの滅菌水に懸濁して加えた。この混合液を
オートクレーブ滅菌された5%塩化カルシウム水に滴下
し、生ずるアルギン酸カルシウムゲルビーズを濾取した
。II!容三角フラスコ中でA培地200m1を加え、
28°Cで24時間培養した後、培養液を除き固定化菌
体ビーズを得た。これを50mMリン酸緩衝液(pH6
,0)200mlに懸濁し、0.6%(W/V)の7−
ADCA、 1.8%(W/V)のD−フェニルグリシ
ンメチルエステルおよび20%のメタノールを含む50
mMリン酸緩衝液(p H6,0) 100mlを加
え、振盪しながら37℃で60分間反応させた。
溶解し、オートクレーブにて滅菌し、40℃まで冷却し
た。これに実施例1と同様にして培養して得た湿り菌体
1gを5mlの滅菌水に懸濁して加えた。この混合液を
オートクレーブ滅菌された5%塩化カルシウム水に滴下
し、生ずるアルギン酸カルシウムゲルビーズを濾取した
。II!容三角フラスコ中でA培地200m1を加え、
28°Cで24時間培養した後、培養液を除き固定化菌
体ビーズを得た。これを50mMリン酸緩衝液(pH6
,0)200mlに懸濁し、0.6%(W/V)の7−
ADCA、 1.8%(W/V)のD−フェニルグリシ
ンメチルエステルおよび20%のメタノールを含む50
mMリン酸緩衝液(p H6,0) 100mlを加
え、振盪しながら37℃で60分間反応させた。
反応液中に蓄積したセファレキシンを高速液体クロマト
法で定量したところ、1.6■/mlに達した。
法で定量したところ、1.6■/mlに達した。
実施例4
キサントモナスsp、 YT−1099を実施例2と同
様に培養して得られた湿り菌体455gを0.1 M
)リス緩衝液(pH8,0)1ρに懸濁し、圧力式細胞
破砕機(ボウリン)で菌体を破砕した後、デオキシリボ
ヌクレアーゼ■ (シグマ社)4■と硫酸マグネシウム
5gを加え、5℃にて4時間攪拌した。これに酢酸カル
シウム76gとリン酸水素二カリウム115gの500
m1水溶液を加え、さらに5℃にて6時間攪拌した後、
遠心分離して得た上滑をセファレキシン合成酵素の粗酵
素抽出液とした。酵素活性は、27℃、pH5,5で1
0mMのD−フェニルグリシンメチルエステル質とする
時の氷解速度をpHスタンドを用いて測定した。この条
件下で1分間当り1gMの基質を加水分解する酵素量を
1ユニツト(U)と定める。
様に培養して得られた湿り菌体455gを0.1 M
)リス緩衝液(pH8,0)1ρに懸濁し、圧力式細胞
破砕機(ボウリン)で菌体を破砕した後、デオキシリボ
ヌクレアーゼ■ (シグマ社)4■と硫酸マグネシウム
5gを加え、5℃にて4時間攪拌した。これに酢酸カル
シウム76gとリン酸水素二カリウム115gの500
m1水溶液を加え、さらに5℃にて6時間攪拌した後、
遠心分離して得た上滑をセファレキシン合成酵素の粗酵
素抽出液とした。酵素活性は、27℃、pH5,5で1
0mMのD−フェニルグリシンメチルエステル質とする
時の氷解速度をpHスタンドを用いて測定した。この条
件下で1分間当り1gMの基質を加水分解する酵素量を
1ユニツト(U)と定める。
この粗酵素抽出液1ml(酵素活性15U)を50mM
リン酸緩衝液(pH6.0)で希釈し5mlとし、2%
(W/V)の7−ADCA、4%(W/V)のDフェニ
ルグリシンメチルエステルおよび20%のメタノールを
含む50mMリン酸緩衝液(pH6、0)5mlを加え
、振盪しなから5°Cで60分間反応させた。反応液中
に、蓄積したセファレキシンを高速液体クロマト法で定
量したところ、9.8■/ m lに達した。
リン酸緩衝液(pH6.0)で希釈し5mlとし、2%
(W/V)の7−ADCA、4%(W/V)のDフェニ
ルグリシンメチルエステルおよび20%のメタノールを
含む50mMリン酸緩衝液(pH6、0)5mlを加え
、振盪しなから5°Cで60分間反応させた。反応液中
に、蓄積したセファレキシンを高速液体クロマト法で定
量したところ、9.8■/ m lに達した。
実施例5
実施例4で得た粗酵素抽出液lβに硫酸アンモニウムを
70%飽和濃度になるように加え、5℃で4時間静置し
た。ついで遠心分離して得た沈殿を50mMリン酸緩衝
液(p H6.0) 1 1.m溶解し、さらに遠心
分離して得た上滑を硫安塩析酵素液とした。硫安塩析酵
素液200mlをセファデックスG−25(ファルマシ
ア社)カラムを用いてゲル濾過、脱塩した。この脱塩酵
素液400mlに0、3Mリン酸緩衝液200mlを加
え、pH7.5の固定化用酵素液600mlを調製し、
これに固定化用樹脂として臭化シアン活性化セファロー
ス4B(ファルマシア社)10gを加え、5℃で16時
時間中かに振盪しながら反応後、樹脂をグラスフィルタ
ーで濾過し、さらに0.2Mグリシン溶液100n+l
、0.5M塩化ナトリウム溶液100ml、50mMリ
ン酸緩衝液(1) H6.5) 1 0 0mlの順
で洗浄して、35ml容の固定化酵素を得た。実施例4
と同様の測定法によるとこの固定化酵素の全酵素活性は
1540Uであり、活性収率は81.1%であった。こ
うして調製した固定化酵素を用いて、床体積35mlの
カラムを作り、5℃において、7 − ADCA 0.
5%、D−フェニルグリジンメチルエステル1.5%
、メタノール10%を含み、pH6、0に調整した基質
溶液を流速35ml/hrの一定流速で通過させると約
90%の変換率でセファレキシンが生成した。カラムに
よる連続合成反応で得た7.30■/mlのセファレキ
シンを含む反応液1000mlを床体積100mlのH
P−20 (三菱化成)カラムに通し、セファレキシン
を吸着させた。カラムを500mlの脱イオン水で洗浄
後、50%メタノール−塩酸水でセファレキシンを溶出
させ、これをpH 4. 0として析出した結晶を濾取
し、50%メタノール水50mlとメタノール50ml
で洗浄後乾燥し、7.1gのセファレキシン結晶を得た
。すなわち、セファレキシンの合成反応収率は90%、
精製収率97%であり、−貫収率として87%であった
。
70%飽和濃度になるように加え、5℃で4時間静置し
た。ついで遠心分離して得た沈殿を50mMリン酸緩衝
液(p H6.0) 1 1.m溶解し、さらに遠心
分離して得た上滑を硫安塩析酵素液とした。硫安塩析酵
素液200mlをセファデックスG−25(ファルマシ
ア社)カラムを用いてゲル濾過、脱塩した。この脱塩酵
素液400mlに0、3Mリン酸緩衝液200mlを加
え、pH7.5の固定化用酵素液600mlを調製し、
これに固定化用樹脂として臭化シアン活性化セファロー
ス4B(ファルマシア社)10gを加え、5℃で16時
時間中かに振盪しながら反応後、樹脂をグラスフィルタ
ーで濾過し、さらに0.2Mグリシン溶液100n+l
、0.5M塩化ナトリウム溶液100ml、50mMリ
ン酸緩衝液(1) H6.5) 1 0 0mlの順
で洗浄して、35ml容の固定化酵素を得た。実施例4
と同様の測定法によるとこの固定化酵素の全酵素活性は
1540Uであり、活性収率は81.1%であった。こ
うして調製した固定化酵素を用いて、床体積35mlの
カラムを作り、5℃において、7 − ADCA 0.
5%、D−フェニルグリジンメチルエステル1.5%
、メタノール10%を含み、pH6、0に調整した基質
溶液を流速35ml/hrの一定流速で通過させると約
90%の変換率でセファレキシンが生成した。カラムに
よる連続合成反応で得た7.30■/mlのセファレキ
シンを含む反応液1000mlを床体積100mlのH
P−20 (三菱化成)カラムに通し、セファレキシン
を吸着させた。カラムを500mlの脱イオン水で洗浄
後、50%メタノール−塩酸水でセファレキシンを溶出
させ、これをpH 4. 0として析出した結晶を濾取
し、50%メタノール水50mlとメタノール50ml
で洗浄後乾燥し、7.1gのセファレキシン結晶を得た
。すなわち、セファレキシンの合成反応収率は90%、
精製収率97%であり、−貫収率として87%であった
。
Claims (1)
- (1)7−アミノデスアセトキシセファロスポラン酸と
フェニルグリシンおよびその反応性誘導体を反応させて
セファレキシンを製造する方法において、キサントモナ
スsp.YT−1099株の産生するペニシリンアシラ
ーゼを反応させることを特徴とするセファレキシンの製
造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2105742A JPH044896A (ja) | 1990-04-20 | 1990-04-20 | セファレキシンの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2105742A JPH044896A (ja) | 1990-04-20 | 1990-04-20 | セファレキシンの製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH044896A true JPH044896A (ja) | 1992-01-09 |
Family
ID=14415720
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2105742A Pending JPH044896A (ja) | 1990-04-20 | 1990-04-20 | セファレキシンの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH044896A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8105240B2 (en) | 2006-03-10 | 2012-01-31 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Ultrasonic imaging apparatus and low attenuation medium with a prescribed pattern for apparatus localization |
-
1990
- 1990-04-20 JP JP2105742A patent/JPH044896A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8105240B2 (en) | 2006-03-10 | 2012-01-31 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Ultrasonic imaging apparatus and low attenuation medium with a prescribed pattern for apparatus localization |
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