JPH0446947B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は感光性の１，２−ナフトキノン−２−
ジアジド−４−スルホン酸モノエステル化合物に
関する。さらに、本発明はこれらの１，２−ナフ
トキノン−２−ジアジド−４−スルホン酸モノエ
ステル感光性化合物とともにアルカリ可溶性の樹
脂を含有する、ポジ型のフオトレジスト組成物と
して有用な感光性混合物と、同じくこれで被覆し
た基体とに関している。

従来の技術 フオトレジスト組成物は、微小な電子部品を作
るためのマイクロソリグラフ法において、集積回
路や印刷配線板回路などの製造に際して用いられ
ている。一般的にこれらの方法では、フオトレジ
スト組成物のうすい皮膜または塗膜が、集積回路
を作るのに用いるシリコンウエハ、または印刷配
線板用のアルミニウムもしくは銅版のような基体
材料にまず付与される。この被覆済みの基体は、
ついで基体上に塗膜を固着するためにベークされ
る。基体のベーク済み被覆表面は次に画像状の輻
射線露光を受ける。この輻射線露光は、皮膜面の
露光された区域に化学的の変化を生じさせる。輻
射線源には紫外線光（UV）と電子ビームエネル
ギが、現在マイクロリソグラフ法で普通に用いら
れている。この画像状露光の後で、基体皮膜面の
輻射線露光をされた区域あるいは未露光区域のい
ずれかを溶解し除去するため、被覆済み基体は現
像液で処理される。

フオトレジスト組成物にはネガ型とポジ型との
２つの形式がある。ネガ型のフオトレジスト組成
物を輻射線に対して画像状に露光したとき、輻射
線に露光されたレジスト組成物の区域は現在液に
対して不溶性となり（即ち架橋化反応が生じ）、
これに反しフオトレジスト塗膜の未露光区域は現
像液に対して可溶性のままである。このように、
現像液で露光したネガ型レジストを処理すると、
レジスト塗膜の未露光部が除去されフオトレジス
ト塗膜中にネガ画像が生成される。一方ポジ型フ
オトレジスト組成物が輻射線に対し画像状に露光
されると、輻射線に露光されたレジスト組成物の
区域は現像液に対して可溶性となり（即ち分解反
応が生じ）、これに反し露光されなかつた区域は
現像液に対して不溶性のままである。このように
現像液で露光したポジ型レジストを処理すると、
レジスト塗膜の露光部が除去されフオトレジスト
塗膜中にポジ画像が生成される。

この現像操作の後で、部分的に保護されなくな
つた基体は、基体エツチ液またはプラズマガスま
たは同様のものが処理される。このエツチ液また
はプラズマガスは、フオトレジスト塗膜が現像中
に除去された基体の部分をエツチする。フオトレ
ジスト塗膜がまだ残つている基体の区域は保護さ
れ、かくして活性輻射線の画像状の露光に対応し
たエツチ図形が基体材料中に生成する。この後
で、フオトレジスト塗膜の残部は剥離工程で除去
され、エツチングのすんだ清浄な基体面とされ
る。

ポジ型のフオトレジスト組成物は解像性と図形
伝達とが一般に良いため、ネガ型のフオトレジス
トよりも今日賞用されている。

フオトレジストの解像性には、レジスト組成物
が露光と現像の後で、画像の縁の高度の鮮鋭性と
ともにフオトマスクから基体へと伝達できる。幾
何学的等間隔パターンに下限がある、今日の多く
の製造上の利用では、１ミクロンまたはこれ以下
の程度のレジストの解像性が必要である。

これに加えて、現像したフオトレジストの側面
は基体に対してほぼ垂直であるのがのぞましい。
レジスト塗膜の現像および未現像区域間のこのよ
うな形の境界は、エツチング後に基体上にマスク
像の正確な図形伝達をする。

各種成分でポジ型フオトレジスト組成物は作ら
れている。光安定な、水不溶性、アルカリ可溶性
そして皮膜形成性の樹脂（または樹脂混合物）が
通常主要な固体成分である。フエノール−ホルム
アルデヒドノボラツクおよびクレゾール−ホルム
アルデヒドノボラツクおよびポリビニルフエノー
ルなどが、このような樹脂の良く知られたものの
例である。１つまたはいくつかの感光性化合物
（また光活性化合物または感光剤として知られて
いる）がフオトレジスト組成物中に存在してい
る。ナフトキノンジアジド化合物はかかる感光剤
の例である。皮膜がこの樹脂成分から作られたと
き、これはアルカリ性の水系現像液中に可溶性で
ある。しかしながら、この感光剤の添加は現像液
中での皮膜の溶解を抑制する。このポジ型フオト
レジスト組成物を被覆した基体を輻射線の画像状
露光したとき、この感光剤は塗膜の露光された区
域において輻射線誘発化学変換を生じる。この光
化学的変換は、アルカリ性現像液中で皮膜形成樹
脂について感光剤が有していた溶解抑制性を除去
してしまう。従つて、塗膜の輻射線露光区域はい
まや未露光区域よりもアルカリ性水系現像液に対
してより可能性となるのである。この溶解速度の
相違は、被覆済み基体がアルカリ性の水系現像液
中に浸されたとき、フオトレジスト皮膜の溶解を
生ずるが、未露光区域はほとんど影響がなく、か
くして基体上にポジのレリーフ図形が生成され
る。

置換ナフトキノンジアジド感光剤については
１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５または
４−スルホン酸のシクロヘキサノールモノエステ
ル（シユミツト氏の米国特許第2767092号参照）、
ベンゼン置換体（ノイゲバウアー氏の米国特許第
3106465号、ウールリツヒ氏他の米国特許第
313047号およびサス氏他の同第3640992号参照）、
およびシクロヘキサノール置換体（ドイツチ氏他
の米国特許第3823130号参照）などがある。

ポジ型フオトレジスト組成物は皮膜形成樹脂と
感光剤とのほかに好ましくその他の成分を含んで
いる。例えば、１つまたはいくつかの溶剤を加え
ることができる。乳酸エチル、エチレングリコー
ル酢酸メチルエーテル、プロピレングリコール酢
酸メチルエーテル、Ｎ−メチル−２−ピロリド
ン、およびエチルセロソルブアセテートとブチル
アセテートとキシレンとの混合物などが通常用い
られる溶剤の例である。樹脂と感光剤とは基体に
付与するのを容易とするために、溶剤または複数
の溶剤中に溶解される。

この他のフオトレジスト用添加剤の好ましいも
のには活性化およびコントラスト用色素、ならし
剤、可塑剤、速度増加剤などが含まれる。活性化
色素は、基体裏側に散乱する光を抑制することに
より解像性を増加させるのに役立つ。この裏面散
乱は光学的ノツチングに好ましくない作用を生
じ、ことに基体表面が高反射性であるかまたはそ
のような形をもつときに著しい。コントラスト用
色素は現像された画像の可視性を良くし、そして
製造中のパターン配列を容易とする。ならし剤は
フオトレジスト塗膜または皮膜を均一な厚みとす
るために平面化させる。このことは皮膜面に均一
な輻射線露光をするのに重要である。可視剤はフ
オトレジスト組成物の塗膜と接着性とを改善し、
基体上に平滑かつ均一な厚みのフオトレジストの
うすい塗膜または被覆の付与を可能とする。速度
増加剤は、露光部および未露光部のいずれにおい
ても、フオトレジスト塗膜の溶解性を増加させ、
そこでこれらはある程度コントラストがぎせいと
なることがあつても現像速度が考慮されるような
用途で用いられるが、フオトレジスト塗膜の露光
部は現像液により更に速やかに溶解するけれど
も、未露光部のフオトレジスト塗膜の大量の損失
も生ずるであろう。

ポジ型のフオトレジストを作るのに多くの形式
の感光剤が用いられているが、特定の利用のため
特定の皮膜形成性樹脂とともに、あるいは特定の
溶剤または添加剤とともにより良い性能を示す新
規のものを見出す必要がある。そこで本発明はこ
のような事情の下に利点をもつ感光性化合物の新
規なものに向けて行われた。

発明の要点 本発明は、新規なものとして次の式（）に相
当する１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４
−スルホン酸のシクロアルキル置換フエノールモ
ノエステルに関するものである。

ここでｎは約２から約10の数である。

さらに本発明は (a) 少なくとも１つのアルカリ可溶性樹脂；と (b) 少なくとも１つの前記式（）のモノエステ
ル化合物、とからなるポジ型フオトレジスト組
成物として有用な感光性混合物を包含する。

その上本発明はこれらの感光性混合物で被覆さ
れた基体をも包含している。

発明の具体的説明 本発明のエステル化合物は、１，２−ナフトキ
ノン−２−ジアジド−４−スルホン酸ハライドを
相当するシクロアルキル置換フエノールと反応さ
せることにより作ることができる。この反応は以
下の反応式(A)により示され、ここでは１，２−ナ
フトキノン−２−ジアジド−４−スルホン酸クロ
ライドと４−シクロヘキシルフエノールとがプレ
カーサーである。

前記式（）のエステル化合物は適当な溶剤中
に、好ましくはスルホン酸クロライドであるスル
ホン酸ハライドプレカーサーをまず溶解すること
により作られる。適当な溶剤はアセトン、ジオキ
サン、２−ブタノンまたはシクロヘキサノンなど
が含まれる。この液にシクロアルキル置換フエノ
ールを次いで添加する。この反応はアルカリ金属
炭酸塩または重炭酸塩、アルカリ土類金属炭酸塩
または重炭酸塩、第四級脂肪族アミンまたはピリ
ジンのような、酸スカベンジヤ塩基の存在下に都
合よく行われる。

この反応のエステル化生成物は反応混合物から
通常の手段によつて回収でき、好ましくはエチレ
ンクロライドまたはその他の水と混じり合わない
抽出溶剤で抽出されついで乾燥される。

ポジ型のフオトレジスト組成物として有用な感
光性混合物を作るため、少なくとも１つの本発明
のエステル化合物がアルカリ可溶性の樹脂の１つ
またはいくつかと混合される。「アルカリ可溶性
樹脂」なる用語は、ポジ型フオトレジスト組成物
について普通に用いられている、アルカリ性水系
現像液中に完全に溶解する樹脂を意味するように
ここで用いられている。適当なアルカリ可溶性樹
脂にはフエノール−ホルムアルデヒドノボラツク
樹脂、クレゾール−ホルムアルデヒドノボラツク
樹脂、およびポリビニルフエノール樹脂などの約
500から約30000の分子量、さらに好ましくは約
1000から約20000のものが含まれる。これらのノ
ボラツク樹脂は、フエノールまたはクレゾールと
ホルムアルデヒドとの縮合反応により好ましく調
製され、光安定性、水不溶性、アルカリ可溶性そ
して皮膜形成性などにより特徴づけられる。もつ
とも好ましい程度のノボラツク樹脂は、メタノ−
およびパラ−クレゾール混合物とホルムアルデヒ
ドとの縮合反応により、約500から約5000の分子
量をもつものが作られる。かかる適当な樹脂の調
製例は米国特許第4377631号、同第4529682号およ
び同第4587196号中に説明されており、これらの
特許はいずれもメダート・トウキイ氏に対して認
可されたものであり、ここに参考として述べてお
く。

感光性混合物中の前記式（）のエステル化合
物の割合は、好ましくは約５から約50パーセント
量の範囲であり、さらに好ましくは感光性混合物
の非揮発性成分（即ち溶剤をぬきにした）の重量
の約８から約30パーセント量である。感光性混合
中のアルカリ可溶性樹脂の割合は、好ましくは約
50から約95パーセント量の範囲であり、さらに好
ましくは感光性混合物の非揮発性成分（即ち溶剤
をぬきにした）の約70から約92パーセントであ
る。

これらの感光性混合物はまた溶剤、色素、なら
し剤、可塑性、速度増加剤、非イオン性界面活性
剤などのような、通常のフオトレジスト組成物の
成分を含むことができる。これらの追加的の成分
は、基体上に液を塗布する前にノボラツク樹脂と
感光剤の溶液に添加することができる。

適当な溶剤の例としてはエチルセルソルブアセ
テート、酢酸ブチル、キシレン、乳酸エチル、プ
ロピレングリコールアルキルエーテルアセテー
ト、これらの混合物などが含まれる。溶剤の好ま
しい分量は、樹脂と感光剤の合計を基準として重
量で約50％から約500％で、さらに好ましくは約
100％から約300％である。

活性化色素の例は、約400〜460nｍの光エネル
ギを吸収するもの〔例えばフアストブラウンＢ
（C.I.No.12010）；フアストブラウンRR（C.I.No.
11285）；２−ヒドロキシ−１，４−ナフトキノン
（C.I.No.75480）およびキノリンイエローＡ（C.I.No.
47000）〕および約300〜340nｍの光エネルギを吸
収するもの〔例えば２，５−ジフエニルオキサゾ
ール（PPO−Chem.Abs.Reg.No.92−71−７）お
よび２−（４−ビフエニル）−６−フエニル−ベン
ゾオキサゾール（PBBO−Chem.Abs.Reg.No.
17064−47−０）〕などが含まれる。

本発明の感光性混合物とともに用いることので
きるコントラスト用色素添加剤の例はソルベント
レツド24（C.I.No.26105）、ベーシツクフクシン
（C.I.No.42514）、オイルブルーＮ（C.I.No.61555）お
よびカルコレツドＡ（C.I.No.26125）などが含ま
れ、樹脂と感光剤との合計量を基準に、重量で10
％までの量で用いられる。

ならし剤は樹脂と感光剤との合計量を基準に、
重量で５％までの量で用いることができる。なら
し剤として適当なものの１つは非イオン性のシリ
コン変性ポリマである。非イオン界面活性剤をこ
の目的に用いることができ、これらは例えばノニ
ルフエノキシポリ（エチレンオキシ）エタノー
ル、オクチルフエノキシ（エチレンオキシ）エタ
ノール、およびジノニルフエノキシポリ（エチレ
ンオキシ）エタノールが含まれる。

使用できる可塑剤は例えばトリ−（β−クロロ
エチル）−リン酸エステル、ステアリン酸、ジカ
ンフアー、ポリプロピレン、アセタール樹脂、フ
エノキシ樹脂およびアルキル樹脂などが含まれ、
樹脂と感光剤との合計量を基準に、重量で10％ま
での量で用いられる。

使用できる速度増加剤は例えばピクリン酸、ニ
コチン酸またはニトロケイ皮酸が含まれ、樹脂と
感光剤との合計量を基準に、重量で20％までの量
で用いられる。

調製された感光性レジスト混合物はデイツピン
グ、スプレイング、ワーリングおよびスピン塗布
などを含む、フオトレジスト技術で用いられてい
る普通の方法により基体に施される。スピン塗布
のとき、例えばレジスト混合物は、用いられるス
ピン装置の与えられた形成とスピン工程の時間量
により、所望の厚みの塗膜を得るために固体成分
のパーセントが調整される。適当な基体にはシリ
コン、アルミニウムまたはポリマ性樹脂、二酸化
けい酸、ドープした二酸化けい素、シリコン樹
脂、ヒ化ガリウム、窒化けい素、タンタル、銅、
ポリシリコン、セラミツクおよびアルミニウム／
銅混合物などが含まれる。

前述の方法で作られたフオトレジスト塗膜は、
熱的に生長されたシリコン／二酸化けい素被覆ウ
エハに付与するのに特に適しており、これはマイ
クロプロセツサおよびその他の微小な集積回路部
品の生産に利用される。アルミニウム／酸化アル
ミニウムウエハも同様に用いられることができ
る。基体はまた各種のポリマ性樹脂、特にポリエ
ステルのような透明のもので構成されることもあ
る。

レジスト組成物溶液が基体上に塗布された後
に、基体は約80°〜105℃の温度で実質的にすべて
の溶剤が蒸発するまでベークされ、基体上には厚
み１ミクロン程度の、フオトレジスト組成物のう
すい均一な被覆または皮膜が残留する。この被覆
ずみ基体は、ついで適当なマスク、ネガチブ、ス
テンシル、テンプレートなどを用いることにより
作られる、所望の露光図形状に輻射線、特に紫外
線に対し露光される。

露光されたレジスト被覆済み基体は、次にアル
カリ性の現像液中に浸漬される。この液は好まし
く、例えば窒素ガス撹拌によつて、かきまぜられ
る。スプレー現像またはパドル現像のような他の
現像法、またはこれらを組合せたものを用いるこ
ともできる。

基体は露光された区域からすべてのレジスト塗
膜が溶解されるまで現像液中に入れておかれる。
普通約30秒から約３分の現像時間が利用される。
アルカリ性現像液の適当なものの例は水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム、テトラメチルアンモニ
ウム水酸化物、コリン、リン酸ナトリウム、炭酸
ナトリウム、メタケイ酸ナトリウムなどの水溶液
である。

現像液から塗布ずみウエハをとり出した後で、
これらは好ましくは脱イオン水のリンス、さらに
好ましくは窒素でかきまぜながらリンスをし、つ
いでフイルタした空気で吹付け乾燥する。塗膜の
接着性を増加しエツチング液およびその他の物質
に対する化学的抵抗性を増大させるため、現像後
の熱処理またはベーキングが行われる。現像後の
熱処理は塗膜と基体とを塗膜の軟化点以下の温度
でオーブン中でベーキングして行われる。

工業的の応用、特にシリコン／二酸化けい素型
の基体上に微小回路ユニツトを作る際に、現像さ
れた基体はついでバツフアされたフツ化水素酸エ
ツチング液またはプラズマガスエツチで処理され
る。本発明のレジスト組成物は、酸エツチング液
またはプラズマガスに抵抗性であり、未露光のレ
ジストの塗布された区域の基体を充分に保護す
る。

最後に、フオトレジスト塗膜の残留部分は、普
通のフオトレジスト剥離手段によりエツチされた
基体面から取り除かれる。

本発明は以下の実施例によりさらに詳細に説明
される。すべての部とパーセントとは特に断らな
い限り重量によるものである。

実施例 １ １，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−ス
ルホン酸の４−シクロヘキシルフエノールモノ
エステルの合成 反応フラスコに33.36ｇの４−オキソ−３，４
−ジヒドロ−３−ジアゾ−１−ナフタレンスルホ
ニルクロライド（また１，２−ナフトキノン−２
−ジアジド−４−スルホン酸クロライドとしても
知られている）、21.88ｇの４−シクロヘキシルフ
エノール、および300mlのｐ−ジオキサンが加え
られた。撹拌して固体が溶解した後で199mlの蒸
留水中に13.17ｇの炭酸ナトリウムの液を20分か
けて添加した。混合物は周囲温度で16時間撹拌し
た。

反応混合物は1200mlの蒸留水と25mlの12NHCl
との中に注加された。沈殿した生成物をガラス棒
でビーカー壁にこすり付けると黄色の固体結晶と
なつた。この反応混合物中に約800mlのメチレン
クロライドを加え、固体結晶を溶解した。この混
合物を分離ロート中に入れ、２％炭酸ナトリウム
水溶液２回、300mlの蒸留水で２回、飽和食塩水
で２回洗い、そして無水硫酸マグネシウムで乾燥
し過をした。

蒸発して残留した黄色固体は減圧下に空気流の
許で乾燥し38.4ｇの黄色固体を得た；理論量の76
％の生成物が得られた。

生成物はIR、プロトンNMRおよびUV分析な
どにより、表題の構造であることが確認された。

融点 134〜136℃（分解） IR（KBr）：3100（環Ｃ−Ｈ）、2851、2924（脂肪族
Ｃ−Ｈ）、2143（ジアゾ）、1360、1143（スルホン
酸エステルのＳ−Ｏ伸縮）、870（ｐ−ジ置換ベ
ンゼン）cm^-1。¹ H−NMR（DMSO−D₆）：τ1.63〜．４（5H、環
プロトン）、8.2〜9.2（11H、脂肪族プロトン） UV（CH₂Cl₂／CH₃OH＝１／１）：303nｍ
（4919）、323nｍ（5270）375nｍ（7027） 実施例 ２ １，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−ス
ルホン酸の４−シクロペンチルフエノールモノ
エステルの合成 容器に11.8ｇの４−オクソ−３，４−ジヒドロ
−３−ジアゾ−ナフタレン−１−スルホニルクロ
ライド（また１，２−ナフトキノン−２−ジアジ
ド−４−スルホン酸クロライドとしても知られて
いる）、7.5ｇの４−シクロペンチルフエノール、
および125mlのｐ−ジオキサンが加えられた。こ
の液に47mlの10％炭酸ナトリウム溶液が15分間か
けて添加された。

反応混合物は16時間周囲温度で撹拌された。

この混合物は800mlの水中に注加され、500mlの
メチレンクロライドで抽出された。この液は50ml
の10％炭酸ナトリウム液で１回、水で２回、そし
て食塩液で２回洗われ、硫酸マグネシウムで乾燥
され、そして過された。

この液は減圧下に濃縮され、シクロヘキサンを
加えて粉末化され、高真空下に乾燥されて13.5ｇ
の生成物となつた。理論値の78％。

生成物はIR、プロトンNMRおよびUV分析に
より普通の構造であることが確認された。

融点 133〜135℃（分解） IR（KBr）：3072（環Ｃ−Ｈ）、2948、2858（脂肪族
Ｃ−Ｈ）、2145（ジアゾ）、1359、1144（スルホン
酸エステルのＳ−Ｏ伸縮）、869（ｐ−ジ置換ベ
ンゼン）cm^-1。¹ H−NMR（DOSO−D₆）：δ1.0〜2.2（9H、脂肪族
プロトン）、6.6〜8.5（5H、環プロトン）。

UV（CH₂Cl₂／CH₃OH＝１／１）：303nｍ
（5573）、323nｍ（5278）、377nｍ（7377）。

実施例 ３ 実施例１の感光剤によるフオトレジスト組成物
の調製 ６オンス（170c.c.）の褐色のびんの中で、エチ
ルセルソルブアセテート85％、酢酸ブチル10％お
よびキシレン５％からなる混合溶剤88.27ｇと、
80％ｍ−と20％ｐ−クレゾール−ホルムアルデヒ
ドノボラツク樹脂33.48ｇとからなる混合液、セ
ライト過助剤約１ｇ、非イオン性シリコン変性
ポリマならし剤31mgおよび実施例１で作つた感光
剤3.15ｇを混合した。すべての固体が溶解される
まで、このびんは室温で約12時間高速ローラ上で
回転させた。得られたレジスト液は、ミリポア微
細過システム（100mlのバーレルと47mmのデイ
スクを用いた）を使用して、0.2ミクロン空孔サ
イズのフイルタを通して過された。この過は
10ポンド平方インチ（0.7Kg／cm²）の圧力下窒素
雰囲気中で行われた。約110ｇの過済みレジス
ト液が得られた。

実施例 ４ 実施例２の感光剤によるフオトレジスト組成物
の調製 実施例３で述べたのと同じ方法で、実施例２で
得た感光剤3.15ｇが同じクレゾール−ホルムアル
デヒドノボラツク、溶剤混合物およびならし剤と
混合された。この混合物は実施例３と同じに溶解
しそして過した。

実施例 ５ 基体上へのフオトレジスト組成物の塗布 実施例３と４の過済みレジスト組成物の約１
ｇを、その表面上に500nｍの二酸化シリコン層
をもつ直径３インチ（7.6cm）の熱的に生長させ
たシリコン／二酸化シリコンウエハ上に、ヘツド
ウエイリサーチ社製のスピンナを用いてそれぞれ
塗布した。レジスト塗膜は毎分5000回転のスピン
速度で30秒間付与された。２つの塗布済みウエハ
は100°〜105℃の空気循環オーブン中で30分間ベ
ークされた。皮膜の厚みはスローランデクタク
ａ型表面プロフイロメータで測定して約１ミクロ
ンであつた。

実施例 ６ 塗布済み基体の画像状露光 実施例５の２つの塗布済みウエハは、290nｍ
のコールドミラーと共に密着モードでキヤノン平
行光アライナPLA501F型を用いて、300〜340nｍ
の中間UV波長光に対して画像状露光をされた。
この中間UV波長光は、ウエハの塗布面に各種の
露光エネルギの区域を与えるために、石英製のオ
プトラインフオトレジストステツプ片を通じて約
15秒間与えられた。全量透過の点で、310nｍの
波長の表面エネルギ９ｍＷ／cm²と測定された。

実施例 ７ 露光したレジスト塗布済み基体の現像 実施例６により露光された２つのレジスト塗布
済みウエハは、円形のテフロン製ウエハボート上
に置き、約12.5のPHをもつアルカリ性のバツフア
液であるウエイコートポジ用LSI現像液、タイプ
（オリン・ハント・スペシヤルテイ・プロダク
ツ社製）を入れた２のテフロン容器中に漬けら
れた。現像を助け促進させるため、テフロン容器
には窒素ガス撹拌が準備された。ウエハは１分間
現像液中に漬けておかれた。とり出されたウエハ
は脱イオン水で１分間すすがれ、過した空気流
中で乾燥した。

露光し現像されたウエハは、実施例３と４のフ
オトレジスト塗膜の感光度とコントラストとを決
定するために検査された。

各レジストの感光度は、オプトラインステツプ
片の異なる透過率％の窓に相当する、レジスト塗
膜の現像されたそれぞれの区域を見ることにより
測定された。各レジストの感光度は、レジスト塗
膜が完全に現像された（即ち可溶性の塗膜がすべ
て除去された）ステツプ片の窓の透過率％に、全
量透過の露光エネルギを乗ずることにより計算さ
れる。計算された感光度は以下の表中に示してあ
る。

コントラストは、各透過率％の窓毎に現像後に
残留する皮膜の熱みに対し、露光エネルギ量の対
数をプロツトすることにより測定される。この点
のプロツトでコントラスト曲線となり、これから
曲線のほぼ垂直部の外挿により直線が得られる。
この直線の傾斜がレジストのコントラスト値であ
る。各レジストについて測定した値は以下の表に
示してある。

第１表 実施例３と４のレジスト組成物 の写真光度とコントラスト値 組成物 感光度 コントラスト 実施例３ 30.1 2.59 実施例４ 29.0 2.57 このデータは、１，２−ナフトキノン−２−ジ
アジド−４−スルホン酸の環式脂肪族フエニルエ
ステル部分を含んだ組成物が、市販のフオトレジ
スト組成物に匹敵した感光度とコントラスト値を
もつことを示し、そこで産業上の利用に適したも
のと思われる。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 次の式に相当する感光性の１，２−ナフトキ
   ノン−２−ジアジド−４−スルホン酸のシクロア
   ルキル置換フエノールモノエステル化合物： ここでｎは約２から約10の数である。 ２ 次の成分 (a) 約50から約95パーセント量の、少なくとも１
   つのアルカリ可溶性樹脂；および (b) 約50から約５パーセント量の、次の式に相当
   する感光性の１，２−ナフトキノン−２−ジア
   ジド−４−スルホン酸のシクロアルキル置換フ
   エノールモノエステル化合物 （ここでｎは約２から約10の数であり、前記(a)と
   (b)のパーセント量は混合物の非揮発性成分を基準
   としたものである）の混合物を含むポジ型フオト
   レジスト組成物として有用な感光性混合物。 ３ 次の成分 (a) 約50から約95パーセント量の、少なくとも１
   つのアルカリ可溶性樹脂；および (b) 約50から約５パーセント量の、次の式に相当
   する感光性の１，２−ナフトキノン−２−ジア
   ジド−４−スルホン酸のシクロアルキル置換フ
   エノールモノエステル化合物 （ここでｎは約２から約10の数であり、前記(a)と
   (b)のパーセント量は混合物の非揮発性成分を基準
   としたものである）の混合物を含む、感光性混合
   物の皮膜が被覆された基体からなる被覆済み基
   体。 ４ 前記基体がポリエステル、ポリオレフイン、
   シリコン、ヒ化ガリウム、シリコン／二酸化けい
   素、ドープした二酸化けい素、窒化シリコン、ア
   ルミニウム／銅混合物、タンタル、銅およびポリ
   シリコンよりなる群から選ばれたものである請求
   項３記載の被覆済み基体。