JPH0445981B2 - - Google Patents
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- JPH0445981B2 JPH0445981B2 JP56211715A JP21171581A JPH0445981B2 JP H0445981 B2 JPH0445981 B2 JP H0445981B2 JP 56211715 A JP56211715 A JP 56211715A JP 21171581 A JP21171581 A JP 21171581A JP H0445981 B2 JPH0445981 B2 JP H0445981B2
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Description
【発明の詳細な説明】
(a) 発明の技術分野
本発明は半導体チツプがチツプ・キヤリアに実
装された半導体装置に係り、特に半導体チツプと
して半導体メモリ素子がチツプ・キヤリアに実装
された半導体装置に於ける外部導電端子の構造に
関する。
装された半導体装置に係り、特に半導体チツプと
して半導体メモリ素子がチツプ・キヤリアに実装
された半導体装置に於ける外部導電端子の構造に
関する。
(b) 従来の背景
計算機システム等の大規模化に伴い、該計算機
システムに搭載される半導体メモリ素子等の半導
体集積回路(IC)素子の数は非常に膨大となつ
てきており、このことはシステムの大型化を招
き、それに伴つてシステム内の配線長が長くなり
計算速度の低下を招く。そこで、計算機システム
等に対する半導体IC素子の実装密度を高めシス
テムの大型化を抑える手段として提供されたの
が、チツプ・キヤリア実装構造の半導体IC装置
である。
システムに搭載される半導体メモリ素子等の半導
体集積回路(IC)素子の数は非常に膨大となつ
てきており、このことはシステムの大型化を招
き、それに伴つてシステム内の配線長が長くなり
計算速度の低下を招く。そこで、計算機システム
等に対する半導体IC素子の実装密度を高めシス
テムの大型化を抑える手段として提供されたの
が、チツプ・キヤリア実装構造の半導体IC装置
である。
(c) 従来技術と問題点
従来から用いられているチツプ・キヤリアの中
で、最も実装密度が高められる構造にリードレ
ス・チツプ・キヤリアがある。第1図はリードレ
ス・チツプ・キヤリアに実装された半導体IC装
置に於ける一例の断面図イ及び底面図ロを示した
ものである。そして該図に於て1はセラミツク基
板、2はセラミツク枠、3は表面に金Auめつき
等が施されたチツプ・ステージ、4は表出部に
Auめつき等が施されている内部配線、5は内部
配線からそれぞれ延出されAuめつき等が施され
ている外部配線、6は外部配線がそれぞれ底面に
延出され表面にAuめつき等が施された被膜状の
外部端子、7はキヤツプろう付け用メタライズ
層、8は金属キヤツプ、9は銀Ag合金等のろう
材、10は半導体ICチツプ、11はボンデイン
グ・パツド、12はアルミニウムAl等のボンデ
イング・ワイヤ、13は金Au/シリコンSi層を
示している。
で、最も実装密度が高められる構造にリードレ
ス・チツプ・キヤリアがある。第1図はリードレ
ス・チツプ・キヤリアに実装された半導体IC装
置に於ける一例の断面図イ及び底面図ロを示した
ものである。そして該図に於て1はセラミツク基
板、2はセラミツク枠、3は表面に金Auめつき
等が施されたチツプ・ステージ、4は表出部に
Auめつき等が施されている内部配線、5は内部
配線からそれぞれ延出されAuめつき等が施され
ている外部配線、6は外部配線がそれぞれ底面に
延出され表面にAuめつき等が施された被膜状の
外部端子、7はキヤツプろう付け用メタライズ
層、8は金属キヤツプ、9は銀Ag合金等のろう
材、10は半導体ICチツプ、11はボンデイン
グ・パツド、12はアルミニウムAl等のボンデ
イング・ワイヤ、13は金Au/シリコンSi層を
示している。
このような構造を有する従来のチツプ・キヤリ
アに実装された半導体IC装置は、計算機システ
ム等に配設される配線基板に対して底面を下にし
て水平に(平面)実装される。その実装状態を示
したのが第2図で、図中14は前記チツプ・キヤ
リア実装構造の半導体IC装置、15はセラミツ
クス或るいはプラスチツクスにより形成された配
線基板、16は配線パターン、6は前記外部端
子、17は半田等のろう材を表わしている。
アに実装された半導体IC装置は、計算機システ
ム等に配設される配線基板に対して底面を下にし
て水平に(平面)実装される。その実装状態を示
したのが第2図で、図中14は前記チツプ・キヤ
リア実装構造の半導体IC装置、15はセラミツ
クス或るいはプラスチツクスにより形成された配
線基板、16は配線パターン、6は前記外部端
子、17は半田等のろう材を表わしている。
上記のように従来のチツプ・キヤリア実装構造
の半導体IC装置に於ては配線基板に対して平面
実装がなされるために、チツプ・キヤリアの平面
積によつて実装密度が制限され更に実装密度を高
めることができなかつた。
の半導体IC装置に於ては配線基板に対して平面
実装がなされるために、チツプ・キヤリアの平面
積によつて実装密度が制限され更に実装密度を高
めることができなかつた。
(d) 発明の目的
本発明は上記問題点に鑑み、配線基板に対して
垂直に装着することが可能な構造を有するチツ
プ・キヤリア実装の半導体装置を提供し、実装密
度を向上せしめることを目的とする。
垂直に装着することが可能な構造を有するチツ
プ・キヤリア実装の半導体装置を提供し、実装密
度を向上せしめることを目的とする。
(e) 発明の構成
本発明は半導体装置に於て、半導体チツプが、
一外部側面にピン状の導電端子を有し他の外部側
面に被膜状の外部導電端子を有するチツプ・キヤ
リアに実装されてなることを特徴とする。
一外部側面にピン状の導電端子を有し他の外部側
面に被膜状の外部導電端子を有するチツプ・キヤ
リアに実装されてなることを特徴とする。
(f) 発明の実施例
以下本発明を、半導体メモリ装置に於ける一実
施例について、第3図に示す上面図イ、側面図
ロ、A−A′矢視断面図ハ、下面図ニ、及び第4
図に示す実装方法に於ける一実施例の上面図イ、
側面図ロを用いて詳細に説明する。
施例について、第3図に示す上面図イ、側面図
ロ、A−A′矢視断面図ハ、下面図ニ、及び第4
図に示す実装方法に於ける一実施例の上面図イ、
側面図ロを用いて詳細に説明する。
本発明を適用した半導体メモリ装置は、例えば
第3図イ,ロ,ハ,ニに示すよう、一側面に例え
ば2〔本〕のピン状外部導電端子21が配設され、
他の三側面に所望数の複膜状外部導電端子22が
配設されたセラミツク・チツプ・キヤリア23内
に半導体メモリ・チツプ24が実装され、該チツ
プ・キヤリア23上に例えば金属キヤツプ25が
封着されてなつている。なお前記チツプ・キヤリ
ア23に於けるピン状外部導電端子21は、通常
構造の内部配線26aからチツプ・キヤリア23
の一側面に延出された外部配線27a上に鉄/ニ
ツケル合金等通常の端子材料からなる例えばピン
状打抜き加工片が銀ろう28等によりろう付けさ
れて形成され、又被膜状外部導電端子22は内部
配線26bからチツプ・キヤリア23の前記以外
の三側面に導出された外部配線27b上に金めつ
き等が施されて形成される。そして半導体メモ
リ・チツプ24は通常構造のチツプ・ステージ2
9上に金/シリコン合金30等を介してろう付け
され、例えば該半導体メモリ・チツプ24のチツ
プ・セレクト端子等チツプ固有の信号が流される
パツド端子31aとピン状外部導電端子に接続す
る内部配線26aとがアルミニウム等のボンデイ
ング・ワイヤ31により接続される。又入出力端
子、電源端子等各メモリ・チツプに対して共通に
配線されるパツド端子31bと被膜状外部導電端
子22に接続する内部配線26bとがボンデイン
グ・ワイヤ32により接続される。本発明の構造
に於ては、通常このようにピン状該部導電端子2
1をチツプ・セレクト端子等各メモリ装置に固有
な信号端子とし、被膜状外部導電端子22を入出
力端子或るいは電源端子等各メモリ装置に対する
共通信号の端子とする。そして上記のように半導
体メモリ・チツプ24が実装されたチツプ・キヤ
リア23上面に形成されている通常構造の封止枠
33上に、鉛/錫合金等のろう材34を介して金
属キヤツプ25が気密にろう付けされてなつてい
る。
第3図イ,ロ,ハ,ニに示すよう、一側面に例え
ば2〔本〕のピン状外部導電端子21が配設され、
他の三側面に所望数の複膜状外部導電端子22が
配設されたセラミツク・チツプ・キヤリア23内
に半導体メモリ・チツプ24が実装され、該チツ
プ・キヤリア23上に例えば金属キヤツプ25が
封着されてなつている。なお前記チツプ・キヤリ
ア23に於けるピン状外部導電端子21は、通常
構造の内部配線26aからチツプ・キヤリア23
の一側面に延出された外部配線27a上に鉄/ニ
ツケル合金等通常の端子材料からなる例えばピン
状打抜き加工片が銀ろう28等によりろう付けさ
れて形成され、又被膜状外部導電端子22は内部
配線26bからチツプ・キヤリア23の前記以外
の三側面に導出された外部配線27b上に金めつ
き等が施されて形成される。そして半導体メモ
リ・チツプ24は通常構造のチツプ・ステージ2
9上に金/シリコン合金30等を介してろう付け
され、例えば該半導体メモリ・チツプ24のチツ
プ・セレクト端子等チツプ固有の信号が流される
パツド端子31aとピン状外部導電端子に接続す
る内部配線26aとがアルミニウム等のボンデイ
ング・ワイヤ31により接続される。又入出力端
子、電源端子等各メモリ・チツプに対して共通に
配線されるパツド端子31bと被膜状外部導電端
子22に接続する内部配線26bとがボンデイン
グ・ワイヤ32により接続される。本発明の構造
に於ては、通常このようにピン状該部導電端子2
1をチツプ・セレクト端子等各メモリ装置に固有
な信号端子とし、被膜状外部導電端子22を入出
力端子或るいは電源端子等各メモリ装置に対する
共通信号の端子とする。そして上記のように半導
体メモリ・チツプ24が実装されたチツプ・キヤ
リア23上面に形成されている通常構造の封止枠
33上に、鉛/錫合金等のろう材34を介して金
属キヤツプ25が気密にろう付けされてなつてい
る。
本発明の構造を有する半導体装置は該半導体装
置に配設されたピン状外部導電端子を介して配線
基板上に立てて実装することができる。
置に配設されたピン状外部導電端子を介して配線
基板上に立てて実装することができる。
第4図は前記実施例に示した半導体メモリ装置
の実装例を図示したもので、図示21はピン状外
部導電端子(固有信号端子)、22は被膜状外部
導電端子(共通信号端子)、23はセラミツク・
チツプ・キヤリア、25は金属キヤツプ、34は
はろう材、35は半導体メモリ装置、36はセラ
ミクス又はプラスチツクス等からなる配線基板、
37はスルーホール、38は半田、39は導線を
表わしている。
の実装例を図示したもので、図示21はピン状外
部導電端子(固有信号端子)、22は被膜状外部
導電端子(共通信号端子)、23はセラミツク・
チツプ・キヤリア、25は金属キヤツプ、34は
はろう材、35は半導体メモリ装置、36はセラ
ミクス又はプラスチツクス等からなる配線基板、
37はスルーホール、38は半田、39は導線を
表わしている。
即ち該第4図は最も実装密度を高めた実装例
で、該実装構造に於ては、半導体メモリ装置35
は上、下面でお互いが接し合う状態で配線基板3
6上に立て並べられ、各半導体メモリ装置35の
ピン状外部導電端子21が配線基板36に於ける
所定のスルーホール37にさし込まれ半田付けさ
れて固定される。そして各メモリ装置35に於け
る共通信号端子である被膜状外部導電端子22上
には各列毎にそれぞれ導線39からなる一連の共
通信号線が半田付けされる。
で、該実装構造に於ては、半導体メモリ装置35
は上、下面でお互いが接し合う状態で配線基板3
6上に立て並べられ、各半導体メモリ装置35の
ピン状外部導電端子21が配線基板36に於ける
所定のスルーホール37にさし込まれ半田付けさ
れて固定される。そして各メモリ装置35に於け
る共通信号端子である被膜状外部導電端子22上
には各列毎にそれぞれ導線39からなる一連の共
通信号線が半田付けされる。
なお上記実施例に於てはピン状外部導電端子を
2〔本〕設けたが、該端子は必要に応じ何本でも
さしつかえない。又該ピン状外部導電端子は棒状
で一端がキヤリア内に埋め込まれて形成されたも
のでも良い。又キヤツプはセラミツクスであつて
も良い。更に又本発明は金属パツケージ、プラス
チツクパツケージにも適用することができる。
2〔本〕設けたが、該端子は必要に応じ何本でも
さしつかえない。又該ピン状外部導電端子は棒状
で一端がキヤリア内に埋め込まれて形成されたも
のでも良い。又キヤツプはセラミツクスであつて
も良い。更に又本発明は金属パツケージ、プラス
チツクパツケージにも適用することができる。
(g) 発明の効果
以上説明したように本発明の構造を有する半導
体装置は、配線基板上に立てて実装することがで
きる。そこで第4図に示すような配線基板上への
実装方法が可能であり、図からも明らかなように
従来の平面実装構造に比べて実装密度を大幅に向
上せしめることができる。
体装置は、配線基板上に立てて実装することがで
きる。そこで第4図に示すような配線基板上への
実装方法が可能であり、図からも明らかなように
従来の平面実装構造に比べて実装密度を大幅に向
上せしめることができる。
従つて本発明は計算機システム等の高速化、小
型化に対して有効である。
型化に対して有効である。
第1図は従来構造の断面図イ及び下面図ロ、第
2図は従来の実装構造の断面模式図、第3図は本
発明の半導体装置に於ける一実施例の上面図イ、
側面図ロ、A−A′矢視断面図ハ、下面図ニで、
第4図は本発明の半導体装置に於ける一実装例の
上面図イ及び側面図ロである。 図に於て、21はピン状外部導電端子(固有信
号端子)、22は被膜状外部導電端子(共通信号
端子)、23はセラミツク・チツプ・キヤリア、
24は半導体メモリ・チツプ、25は金属キヤツ
プ、26a及び26は内部配線、27a及び27
bは外部配線、28は銀ろう、29はチツプ・ス
テージ、30は金/シリコン合金、31a及び3
1bはパツド端子、32はボンテイング・ワイ
ヤ、33は封止枠、34はろう材、35は半導体
メモリ装置、36は配線基板、37はスルーホー
ル、38は半田、39は導線を示す。
2図は従来の実装構造の断面模式図、第3図は本
発明の半導体装置に於ける一実施例の上面図イ、
側面図ロ、A−A′矢視断面図ハ、下面図ニで、
第4図は本発明の半導体装置に於ける一実装例の
上面図イ及び側面図ロである。 図に於て、21はピン状外部導電端子(固有信
号端子)、22は被膜状外部導電端子(共通信号
端子)、23はセラミツク・チツプ・キヤリア、
24は半導体メモリ・チツプ、25は金属キヤツ
プ、26a及び26は内部配線、27a及び27
bは外部配線、28は銀ろう、29はチツプ・ス
テージ、30は金/シリコン合金、31a及び3
1bはパツド端子、32はボンテイング・ワイ
ヤ、33は封止枠、34はろう材、35は半導体
メモリ装置、36は配線基板、37はスルーホー
ル、38は半田、39は導線を示す。
Claims (1)
- 1 半導体チツプが、一外部側面にピン状の外部
導電端子を有し、他の外部側面に被膜状の外部導
電端子を有するチツプ・キヤリアに実装されてな
ることを特徴とする半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56211715A JPS58112348A (ja) | 1981-12-25 | 1981-12-25 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56211715A JPS58112348A (ja) | 1981-12-25 | 1981-12-25 | 半導体装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58112348A JPS58112348A (ja) | 1983-07-04 |
JPH0445981B2 true JPH0445981B2 (ja) | 1992-07-28 |
Family
ID=16610394
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56211715A Granted JPS58112348A (ja) | 1981-12-25 | 1981-12-25 | 半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58112348A (ja) |
Families Citing this family (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5943556A (ja) * | 1982-09-03 | 1984-03-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 端面電極形成方法 |
JPS60181072U (ja) * | 1984-05-12 | 1985-12-02 | イビデン株式会社 | チツプ搭載用プリント配線基板 |
KR900008647B1 (ko) * | 1986-03-20 | 1990-11-26 | 후지쓰 가부시끼가이샤 | 3차원 집적회로와 그의 제조방법 |
JPH07109873B2 (ja) * | 1988-07-05 | 1995-11-22 | 株式会社東芝 | 半導体記憶装置 |
US5475920A (en) * | 1990-08-01 | 1995-12-19 | Burns; Carmen D. | Method of assembling ultra high density integrated circuit packages |
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US5499160A (en) * | 1990-08-01 | 1996-03-12 | Staktek Corporation | High density integrated circuit module with snap-on rail assemblies |
EP0509065A1 (en) * | 1990-08-01 | 1992-10-21 | Staktek Corporation | Ultra high density integrated circuit packages, method and apparatus |
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JPH09283652A (ja) * | 1996-04-15 | 1997-10-31 | Nec Corp | 電子デバイス組立体 |
US5945732A (en) * | 1997-03-12 | 1999-08-31 | Staktek Corporation | Apparatus and method of manufacturing a warp resistant thermally conductive integrated circuit package |
US6572387B2 (en) | 1999-09-24 | 2003-06-03 | Staktek Group, L.P. | Flexible circuit connector for stacked chip module |
US6462408B1 (en) | 2001-03-27 | 2002-10-08 | Staktek Group, L.P. | Contact member stacking system and method |
US6576992B1 (en) | 2001-10-26 | 2003-06-10 | Staktek Group L.P. | Chip scale stacking system and method |
KR100800140B1 (ko) | 2005-06-27 | 2008-02-01 | 주식회사 하이닉스반도체 | 패키지 스택 |
-
1981
- 1981-12-25 JP JP56211715A patent/JPS58112348A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS58112348A (ja) | 1983-07-04 |
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