JPH0444722B2 - - Google Patents
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- JPH0444722B2 JPH0444722B2 JP59243676A JP24367684A JPH0444722B2 JP H0444722 B2 JPH0444722 B2 JP H0444722B2 JP 59243676 A JP59243676 A JP 59243676A JP 24367684 A JP24367684 A JP 24367684A JP H0444722 B2 JPH0444722 B2 JP H0444722B2
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、光フアイバーならびにその製造方法
に関するものである。さらに詳しくは光フアイバ
ー製造における線引き後の保護コーテイングの方
法に関するものである。
に関するものである。さらに詳しくは光フアイバ
ー製造における線引き後の保護コーテイングの方
法に関するものである。
従来例の構成とその問題点
従来、光フアイバー製造における保護コーテイ
ングは、プリフオームを加熱線引後、シリコン樹
脂やエポキシ樹脂をコートし、保護膜を形成する
方法が用いられているが、これらの方法では、信
頼性が十分得られないことが明らかとなつた。
ングは、プリフオームを加熱線引後、シリコン樹
脂やエポキシ樹脂をコートし、保護膜を形成する
方法が用いられているが、これらの方法では、信
頼性が十分得られないことが明らかとなつた。
すなわち、従来のコーテイング方法では、機械
的強度は十分得られているが、耐環境性、特に耐
水性に欠陥があることがわかつた。それは、光フ
アイバーのコア部に水分が浸透することによる光
透過率の低下を引き起こすという光フアイバーに
とつて致命的な欠陥である。
的強度は十分得られているが、耐環境性、特に耐
水性に欠陥があることがわかつた。それは、光フ
アイバーのコア部に水分が浸透することによる光
透過率の低下を引き起こすという光フアイバーに
とつて致命的な欠陥である。
発明の目的
本発明の目的は、光フアイバーの信頼性向上、
特に耐湿性を強化した光フアイバーおよびその製
造方法を提供することにある。
特に耐湿性を強化した光フアイバーおよびその製
造方法を提供することにある。
発明の構成
本発明は、光フアイバー製造における保護コー
テイング工程において、シリコン界面活性剤を用
い化学吸着法により光フアイバー表面に耐湿性の
高い単分子膜をたとえば複数層形成し、信頼性を
向上させたことを特徴とする。
テイング工程において、シリコン界面活性剤を用
い化学吸着法により光フアイバー表面に耐湿性の
高い単分子膜をたとえば複数層形成し、信頼性を
向上させたことを特徴とする。
実施例の説明
例えば、第１図に示すようにプリフオーム１を
線引炉２にかけて線引きした後、キヤプスタン３
を介して、順次、吸着槽４、反応槽５、反応槽
６、吸着槽７…とくり返して浸漬していつて最後
に必要とする単分子膜の層数を得た後、ドラム８
で保護コートされた光フアイバーを巻き取る工程
を連続して行う。
線引炉２にかけて線引きした後、キヤプスタン３
を介して、順次、吸着槽４、反応槽５、反応槽
６、吸着槽７…とくり返して浸漬していつて最後
に必要とする単分子膜の層数を得た後、ドラム８
で保護コートされた光フアイバーを巻き取る工程
を連続して行う。
ここで、吸着槽４においては、シラン界面活性
剤（例えばCH2＝CH−（CH2）o−SiCl3、ｎは整
数で10〜20が最も良い）を、2.0×10-3〜5.0×
10-2Mol／程度の濃度で溶かした80％ｎ−ヘキ
サン、12％四塩化炭素、８％クロロホルム溶液を
用い、石英系光フアイバーを線引後すぐに浸漬す
ると、フアイバーのクラツド１１表面で、 の結合が生成されて、シラン界面活性剤による単
分子膜１２が一層形成される（第２図ａ）。
剤（例えばCH2＝CH−（CH2）o−SiCl3、ｎは整
数で10〜20が最も良い）を、2.0×10-3〜5.0×
10-2Mol／程度の濃度で溶かした80％ｎ−ヘキ
サン、12％四塩化炭素、８％クロロホルム溶液を
用い、石英系光フアイバーを線引後すぐに浸漬す
ると、フアイバーのクラツド１１表面で、 の結合が生成されて、シラン界面活性剤による単
分子膜１２が一層形成される（第２図ａ）。
次に反応槽５においては、室温でジボラン
1Mol／のTHF溶液を用い、シラン界面活性剤
の単分子膜の形成された光フアイバーを浸漬し、
さらに反応槽６において、NaOH0.1Mol／、
30％H2O2水溶液に浸漬すると、単分子膜１２表
面のビニル基１３に水酸基１４が付加される（第
２図ｂ）。
1Mol／のTHF溶液を用い、シラン界面活性剤
の単分子膜の形成された光フアイバーを浸漬し、
さらに反応槽６において、NaOH0.1Mol／、
30％H2O2水溶液に浸漬すると、単分子膜１２表
面のビニル基１３に水酸基１４が付加される（第
２図ｂ）。
以下、同じ浸漬液を用いた吸着槽７、反応槽…
…にくり返し線引き後の光フアイバーを浸漬する
ことにより、シラン界面活性剤の単分子膜を複数
層クラツド表面に形成できる（第２図ｃ）。
…にくり返し線引き後の光フアイバーを浸漬する
ことにより、シラン界面活性剤の単分子膜を複数
層クラツド表面に形成できる（第２図ｃ）。
なお、上記実施例ではSiO2を含む石英系光フ
アイバーを例に示したが、石英系以外の重金属酸
化物ガラス、ハライドガラス、カルコゲンガラ
ス、ハライド結晶等を原料とする光フアイバーの
コーテイングにも用いることができる。
アイバーを例に示したが、石英系以外の重金属酸
化物ガラス、ハライドガラス、カルコゲンガラ
ス、ハライド結晶等を原料とする光フアイバーの
コーテイングにも用いることができる。
また、上記実施例では、クラツド表面に単分子
保護膜を形成する場合について述べたが、シラン
界面活性剤は、純度も高く、屈折率も溶融シリカ
より低いので、コア上へ直接コートしてクラツド
としても用いることが可能である。また、各層毎
に用いるシラン界面活性剤を変えることにより、
屈折率を各単分子膜毎に変化させることも可能で
ある。
保護膜を形成する場合について述べたが、シラン
界面活性剤は、純度も高く、屈折率も溶融シリカ
より低いので、コア上へ直接コートしてクラツド
としても用いることが可能である。また、各層毎
に用いるシラン界面活性剤を変えることにより、
屈折率を各単分子膜毎に変化させることも可能で
ある。
また、試薬については、シラン界面活性剤
（CH2＝CH−（CH2）ｎ−SiCl3）を例に示した
が、ビニル基が、アセチレン基、シアノ基でも良
いし、トリクロルシラン基が、ジクロルまたはモ
ノクロルシラン基、あるいはこれらの反応基が混
合された試薬を用いることも可能である。
（CH2＝CH−（CH2）ｎ−SiCl3）を例に示した
が、ビニル基が、アセチレン基、シアノ基でも良
いし、トリクロルシラン基が、ジクロルまたはモ
ノクロルシラン基、あるいはこれらの反応基が混
合された試薬を用いることも可能である。
また連鎖状カーボン結合（−CH2）ｎ−）の中
にジアセチレン基（−Ｃ≡Ｃ−Ｃ≡Ｃ−）や、ビ
ニルベンゼン基（−C6H4−CH＝CH−）を含ん
でいても良い。
にジアセチレン基（−Ｃ≡Ｃ−Ｃ≡Ｃ−）や、ビ
ニルベンゼン基（−C6H4−CH＝CH−）を含ん
でいても良い。
さらにまた、最後の単分子膜表面に残るビニル
基は、電子線等のエネルギー線の照射により、隣
接分子間で結合を生じさせてより安定に保持する
ことも可能である。
基は、電子線等のエネルギー線の照射により、隣
接分子間で結合を生じさせてより安定に保持する
ことも可能である。
本発明の実施例で説明した方法を用いて作成し
た単分子膜の性能を評価するため、ダミーの石英
ガラス基板上に本発明の実施例で説明した方法を
用いて形成した単分子膜で、撥水性および欠陥密
を評価した結果、水に対する濡れ角度は115度で
あり、また10％フツ酸水溶液に１時間浸漬しても
全くガラスはエツチングされなかつた。さらに、
100℃で2000時間のスチームテストおよび碁盤目
試験法による耐剥離テストをおこなつたが、それ
ぞれのテスト後の撥水性評価では全く変わりがな
く115度であつた。
た単分子膜の性能を評価するため、ダミーの石英
ガラス基板上に本発明の実施例で説明した方法を
用いて形成した単分子膜で、撥水性および欠陥密
を評価した結果、水に対する濡れ角度は115度で
あり、また10％フツ酸水溶液に１時間浸漬しても
全くガラスはエツチングされなかつた。さらに、
100℃で2000時間のスチームテストおよび碁盤目
試験法による耐剥離テストをおこなつたが、それ
ぞれのテスト後の撥水性評価では全く変わりがな
く115度であつた。
このように本発明により、表面が撥水性で欠陥
のない保護膜を有する光フアイバーを得ることが
可能となつた。
のない保護膜を有する光フアイバーを得ることが
可能となつた。
発明の効果
本発明の方法を用いることにより、表面が撥水
性の高密度無欠陥保護膜を形成することができ、
フアイバー側は、強力なシロキ酸結合を有してい
るので、耐湿性が良く、耐ハクリ性にすぐれた光
フアイバーを提供することができる。
性の高密度無欠陥保護膜を形成することができ、
フアイバー側は、強力なシロキ酸結合を有してい
るので、耐湿性が良く、耐ハクリ性にすぐれた光
フアイバーを提供することができる。
また、本発明の保護膜は、コア上へ直接クラツ
ドとしても低温で形成できるので、クラツドを形
成しにくい結晶性フアイバーのクラツド材として
も有効である。
ドとしても低温で形成できるので、クラツドを形
成しにくい結晶性フアイバーのクラツド材として
も有効である。
第１図は本発明の光フアイバー製造方法におけ
る単分子膜製造工程を説明するための概念図、第
２図は光フアイバー表面の単分子膜形成工程にお
ける分子レベルまで拡大した工程断面図を示す。 １１…クラツド、１２…シラン界面活性剤の単
分子膜。
る単分子膜製造工程を説明するための概念図、第
２図は光フアイバー表面の単分子膜形成工程にお
ける分子レベルまで拡大した工程断面図を示す。 １１…クラツド、１２…シラン界面活性剤の単
分子膜。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 少くともコアまたはクラツド外面がシラン界
面活性剤の単分子膜で被われていることを特徴と
した光フアイバー。 ２ シラン界面活性剤としてCH2＝CH−（CH2）o
−SiCl3（ｎは整数）を用いることを特徴とした特
許請求の範囲第１項記載の光フアイバー。 ３ コアまたはコアとクラツドの形成されたプリ
フオームを加熱線引する工程と、シラン界面活性
剤を含んだ非水系溶媒に浸漬して線引されたコア
またはクラツド外面に前記シラン界面活性剤を化
学吸着させて単分子膜を形成する工程を含むこと
を特徴とした光フアイバーの製造方法。 ４ 単分子膜を薬品処理した後、シラン界面活性
剤を化学吸着させる工程を複数回くり返すことを
特徴とした特許請求の範囲第３項記載の光フアイ
バーの製造方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59243676A JPS61121016A (ja) | 1984-11-19 | 1984-11-19 | 光フアイバ−およびその製造方法 |
| US07/158,111 US4875759A (en) | 1984-11-19 | 1988-02-16 | Optical fiber and method of producing the same |
| US07/391,115 US5018829A (en) | 1984-11-19 | 1989-08-09 | Optical fiber and method of producing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59243676A JPS61121016A (ja) | 1984-11-19 | 1984-11-19 | 光フアイバ−およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61121016A JPS61121016A (ja) | 1986-06-09 |
| JPH0444722B2 true JPH0444722B2 (ja) | 1992-07-22 |
Family
ID=17107328
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59243676A Granted JPS61121016A (ja) | 1984-11-19 | 1984-11-19 | 光フアイバ−およびその製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4875759A (ja) |
| JP (1) | JPS61121016A (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE68927865T2 (de) * | 1988-06-28 | 1997-07-31 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Verfahren zur Herstellung von aus monomolekularen Schichten aufgebauten Filmen unter Anwendung von Silanen, die Acetylen- bindungen enthalten |
| US5240643A (en) * | 1992-03-11 | 1993-08-31 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Strain sensing composites |
| US6767579B1 (en) * | 1998-11-24 | 2004-07-27 | Corning Incorporated | Methods for protecting silica-containing article in optical fiber manufacturing |
| US6316516B1 (en) | 1999-04-29 | 2001-11-13 | Corning Incorporated | Coating composition for optical fibers |
| US6577802B1 (en) | 2000-07-13 | 2003-06-10 | Corning Incorporated | Application of silane-enhanced adhesion promoters for optical fibers and fiber ribbons |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BR7705077A (pt) * | 1976-09-08 | 1978-06-06 | Int Standard Electric Corp | Guia otica de ondas,com resistencia tensil ultra-elevada,e metodo de fabricacao da mesma |
| JPS5593104A (en) * | 1979-01-09 | 1980-07-15 | Daicel Chem Ind Ltd | Optical fiber for transmission |
| US4431263A (en) * | 1979-06-25 | 1984-02-14 | University Patents, Inc. | Novel nonlinear optical materials and processes employing diacetylenes |
| US4544499A (en) * | 1979-08-10 | 1985-10-01 | Pedro B. Macedo | Fixation by anion exchange of toxic materials in a glass matrix |
| JPS5771830A (en) * | 1980-10-16 | 1982-05-04 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Manufacturing of optical fiber |
| GB2103786A (en) * | 1981-08-14 | 1983-02-23 | Ici Plc | Fibre optic sensor |
| US4496210A (en) * | 1982-07-19 | 1985-01-29 | Desoto, Inc. | Low temperature-flexible radiation-curable unsaturated polysiloxane coated fiber optic |
| US4539061A (en) * | 1983-09-07 | 1985-09-03 | Yeda Research And Development Co., Ltd. | Process for the production of built-up films by the stepwise adsorption of individual monolayers |
| EP0183853B1 (en) * | 1984-05-30 | 1993-08-11 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | Plastic fiber having optical transmission properties |
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| JPS6221151A (ja) * | 1985-07-19 | 1987-01-29 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | パタ−ン形成方法 |
| US4756598A (en) * | 1987-08-13 | 1988-07-12 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Second harmonic generation with 5-chloro-2-nitroaniline |
-
1984
- 1984-11-19 JP JP59243676A patent/JPS61121016A/ja active Granted
-
1988
- 1988-02-16 US US07/158,111 patent/US4875759A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61121016A (ja) | 1986-06-09 |
| US4875759A (en) | 1989-10-24 |
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