JPH0444260B2 - - Google Patents

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JPH0444260B2
JPH0444260B2 JP61291305A JP29130586A JPH0444260B2 JP H0444260 B2 JPH0444260 B2 JP H0444260B2 JP 61291305 A JP61291305 A JP 61291305A JP 29130586 A JP29130586 A JP 29130586A JP H0444260 B2 JPH0444260 B2 JP H0444260B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
coating
support
photographic
emulsion
coated
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP61291305A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS63143539A (ja
Inventor
Naoya Tashiro
Hiroshi Uehara
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Paper Mills Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Paper Mills Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Paper Mills Ltd filed Critical Mitsubishi Paper Mills Ltd
Priority to JP29130586A priority Critical patent/JPS63143539A/ja
Publication of JPS63143539A publication Critical patent/JPS63143539A/ja
Publication of JPH0444260B2 publication Critical patent/JPH0444260B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/74Applying photosensitive compositions to the base; Drying processes therefor
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/76Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
(A) 産業上の利用分野 本発明は写真感光材料の製造方法に関するもの
である。更に連続走行している長尺帯状支持体に
写真乳剤等の塗布液を均一に塗布してなる写真感
光材料製造法に関するものである。特に多層同時
塗布で塗布ヘツドと支持体の間でリボンを形成す
る塗布方法における塗布故障を少なくした写真感
光材料の製造方法である。 (B) 従来の技術 一般に写真用支持体は、写真用原紙にポリエチ
レンを被覆し、その表面にコロナ放電処理等で親
水化したり、下引層を設けたりし製造される。そ
してその表面に写真乳剤層、表面保護層、裏塗り
層、中間層、フイルター層、受像層等の写真用親
水性コロイド層を塗布し、写真感光材料を製造す
る。 近年、親水性コロイド層を支持体上に塗設する
方法には著しい改良がなされた多層同時、高速
化、薄層化が進められてきた。しかしながらこの
様な多層同時、高速化、薄層化に伴い写真乳剤等
の親水性コロイドより成る塗布液(以下単に塗布
液と称する)が支持体上に均一に塗布できないと
いういわゆる塗布ムラの発生、及び支持体上にあ
る微細な凹みによつて塗布液がはじいてしまい微
細な未塗布部分ができるといういわゆる塗布ハジ
キの発生等、塗布故障が問題になつてきた。 この様な塗布故障は支持体の単位面積当たりの
塗布液量(以下、塗布量と称する)が少ない程、
或いは支持体の走行速度が大きい程、発生しやす
くなることが認められている。特に塗布ヘツドと
支持体の間でリボンを形成する塗布方法並びに多
層のリボンを形成する塗布方法において、塗布故
障が発生し易いことが認められている。 このような塗布故障が何故起きるかは現在のと
ころ次の様に考えられている。 一つには一段に写真用支持体は絶縁性であり、
帯電しやすい。そのため表面や内部に帯電防止剤
が支持体に塗布されていたり、含まれていたりす
るが、その効果が必ずしも十分とは言い難く支持
体搬送時における金属ロールとの接触等による接
触剥離帯電やコロナ処理による帯電が生じ、支持
体の表面に電荷のムラが起きて塗布故障になると
考えられている。 また、支持体を製造する際や、塗布前に支持体
が走行している間に表面に微細な凹みを作つてし
まうことがある。この様な微細な凹みのある支持
体に塗布液を塗布すると、その部分で塗布液が乱
れたり微細な未塗布部分となり塗布ハジキを発生
させて製品にならなくなる。 塗布故障を起こる原因と考えられている支持体
の電荷ムラを解消する方法として、例えば、接地
したロールや電荷除去装置の使用、写真用支持体
の乳剤を塗布される面のコロナを弱める、また、
特開昭54−54020にある様に塗布直前に加温する
試み、また、特開昭60−230137にある様に写真用
支持体の乳剤を塗布される面に、オワン状のクー
リングロールを用いて型付する試みが、これまで
もなされてきたが、これらの方法はある程度の効
果はあるものの完全に塗布むらを解消するまでに
至らなかつた。 この原因として塗布直前に写真用支持体を加温
しただけでは、効果が小さいためと考えられる。 つまり、写真用支持体を製造してから、塗布す
るまでの期間、外気温度の影響を受けてしまうか
らと考えられる。例えば冬場の液間は0℃位まで
気温が下がるし、また、夏場は写真用支持体製造
後、写真性への悪影響をさけるため、外部と遮断
する必要があり、倉庫に保管することになるが、
その場合倉庫内部の温度は40℃位まで上昇するこ
とになり、塗布直前の写真用支持体の温度は季節
によつて大きく変動してしまう。このことは、
春、秋でも同様であり、直前に加温するだけでは
均一に乳剤を塗布するのは困難であると考えられ
る。 微細な凹みが原因となつている塗布故障につい
ては現在のところ塗布速度を下げて塗布する以外
に効果的な対策方法が見当たらず塗布の高速化が
求められている折、この塗布故障を解決すること
が必要である。 (C) 発明が解決しようとする問題点 本発明の目的はかかる高速塗布や、薄層塗布に
おける塗布ムラ、塗布ハジキ等の塗布故障を少な
くし生産性を向上させることにある。 (D) 問題点を解決するための手段 本発明者等は前記の様な問題点を解消するため
に鋭意研究を重ねた結果、驚くべきことに塗布に
先立つて写真用支持体を20℃〜30℃の雰囲気に保
存する事によつて目的を達成されることを見出し
た。 即ち、写真用支持体を塗布前に20〜30℃の雰囲
気に保存することを特徴とする写真感光材料の製
造方法を完成した。 本発明では、例えば保管雰囲気の湿度を相対湿
度40〜70%に管理することも、又、支持体の含水
率を5〜9%に管理することも可能である。 保存すべき期間は、製造された巻取の温度等に
よつて異なるが、通常24時間以上が好ましい。 (E) 作 用 支持体の保存温度が20℃未満だけ、塗布ムラ、
塗布ハジキに効果が得られない。一方30℃を超え
ると水濡れ性の減衰が大きくなり、塗布液と支持
体との接着性が劣つてくる。 これは、塗布ムラを引き起こしていると思われ
る支持体の表面の電荷ムラが加温することりより
支持体を構成している分子の運動が活発になつ
て、電荷ムラが非常に細かくされた見掛け上均一
化されるものと考えられる。 また、塗布ハジキを引き起こす支持体表面の微
細な凹みを加温することで塗布ハジキ無くなるの
は支持体上の微細な凹みにある空気と塗布液の置
替えが支持体の表面の温度を上げると容易に行わ
れるようになるためと考えられる。そして微細な
凹みにある空気が塗布液に触れて微小な泡になり
塗布液の温度で膨脹したり、乾燥途中で膨脹した
りして塗布ハジキになるが支持体の表面温度が塗
布液の温度の近辺にあると空気が膨脹しにくくな
り、塗布ハジキにならないと考えられる。 連続した写真用支持体としては、バライタ紙、
可塑性のあるプラスチツクフイルム、ポリエチレ
ン被覆紙等が使用され、いずれも本発明で効果が
認められるが、特にポリエチレン被覆紙において
本発明の効果が顕著である。 (F) 実施例 本発明を実施例を以て、更に詳しく説明する。 実施例 1 坪量170g/m2の原紙に乳剤が塗布される側の
面に密度0.92の低密度ポリエチレン64重量部密度
0.96の高密度ポリエチレン25重量部、酸化チタン
10重量部と青味顔料及び樹脂安定剤等の添加剤で
1重量部の樹脂配合を30μの厚みに押出しコーテ
イング法で塗布し、反対の面には密度0.92の低密
度ポリエチレン50重量部、密度0.96の高密度ポリ
エチレン50重量部の樹脂配合を30μの厚みに押出
しコーテイング法で塗布した。押出しコーテイン
グする際乳剤が塗布される面及び反対の面がマツ
ト面を持つクーリングロールで型付され、乳剤が
塗布される面はすべてコロナ処理により50dyn/
cmにされた支持体を作成し、この支持体を一定温
度で2カ月保管後、写真乳剤塗布機にかけ、カラ
ー用写真乳剤を塗布した。 このときのカラー写真乳剤は6層の構成となつ
いて、これを同時に押出し方式の塗布ヘツドで
150m/minで塗布し乾燥した。こうして得られ
たカラー印画紙を評価した。乾燥後の乳剤層の厚
みは約10μであつた。 評価の結果は表1の通りである。
【表】 実施例 2 実施例1と同様の写真用支持体を一定温度で3
日保管後、写真乳剤塗布機にかけ、実施例1と同
様にカラー用写真乳剤を塗布した。 評価の結果は表2の通りである。 尚、試料No.10の場合、乳剤塗布前の写真用支持
体の水ぬれ性の低下がNo.6〜9の低下より激しか
つた。また、乳剤塗布後のカラー印画紙の乳剤接
着力は巾方向において、中央部と端部とでは強度
に大きなバラツキが生じ、端部が低かつた。
【表】 実施例 3 実施例1と同様の写真用支持体を保管温度と保
管期間を変えて実施例1と同様にカラー用写真乳
剤を塗布した。 評価の結果を表−3及び表−4に示す。 尚、試料No.15の場合、乳剤塗布前の写真用支持
体の水ぬれ性の低下がNo.11〜14の低下より大きか
つた。また、乳剤塗布後のカラー印画紙の乳剤接
着力は巾方向において、中央部と端部とで強度に
バラツキが生じ、端部が低かつた。
【表】
【表】

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 連続走行している支持体面上に塗布液を塗布
    して写真感光材料を製造する方法において、塗布
    に先立つて前記支持体を20℃〜30℃の雰囲気制御
    に24時間以上保管することを特徴とする写真感光
    材料の製造方法。 2 支持体両面に耐水性の樹脂を被覆した樹脂被
    覆紙である特許請求の範囲第1項記載の写真感光
    材料の製造方法。
JP29130586A 1986-12-05 1986-12-05 写真感光材料の製造方法 Granted JPS63143539A (ja)

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JP29130586A JPS63143539A (ja) 1986-12-05 1986-12-05 写真感光材料の製造方法

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JPS63143539A JPS63143539A (ja) 1988-06-15
JPH0444260B2 true JPH0444260B2 (ja) 1992-07-21

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Families Citing this family (4)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01304456A (ja) * 1988-06-02 1989-12-08 Fuji Photo Film Co Ltd 両面塗布方法
JPH0293641A (ja) * 1988-09-30 1990-04-04 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀写真感光材料
JPH0648352B2 (ja) * 1989-04-13 1994-06-22 三菱製紙株式会社 写真感光材料の製造方法
JP2890219B2 (ja) * 1991-09-05 1999-05-10 富士写真フイルム株式会社 塗布方法

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4915210A (ja) * 1972-05-23 1974-02-09
JPS6129841A (ja) * 1984-07-20 1986-02-10 Konishiroku Photo Ind Co Ltd 写真用支持体およびその形成方法

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