JPH0442077B2

JPH0442077B2 -

Info

Publication number: JPH0442077B2
Application number: JP63300997A
Authority: JP
Inventors: Taisuke Mochinaga; Norio Nakano; Tooru Yamaguchi; Masashi Endo; Masao Sakashita; Katsue Ooshima
Original assignee: Nippon Steel Corp
Current assignee: Nippon Steel Corp
Priority date: 1988-11-30
Filing date: 1988-11-30
Publication date: 1992-07-10
Also published as: JPH02149395A

Description

【発明の詳細な説明】

（産業上の利用分野）本発明は、調理環境衛生用、手洗い用、食品材
料用及びおしぼり用等の殺菌水の製造装置及び殺
菌水の製造方法に関し、さらに詳しくは、塩化ナ
トリウム水溶液の有隔膜電解によりアノード側に
生成する残留塩素濃度の高い水を、さらに希釈用
原水及び／またはカソード側生成水で混合希釈
し、安全な殺菌水を低コストで製造できる装置及
び該殺菌水の製造方法に関する。（従来の技術）従来、殺菌の殺菌装置としては種々の装置が知
られている。例えば、熱処理、アルコール処理、
紫外線照射、オゾンによる酸化等を利用した装
置、また、食器や食品あるいは水道水の殺菌には
次亜塩素酸や次亜塩素酸ナトリウムの希釈水溶液
を利用した装置が広く用いられている。ところで、海水及び高濃度の塩化ナトリウム水
溶液を無隔膜電解することにより、次亜塩素酸ナ
トリウムを製造したり、あるいは有隔膜電解によ
りアノード側で塩素ガス、カソード側で苛性ソー
ダを製造することは、工業的に従来から行なわれ
ている。また、「淡水に近い低濃度食塩水溶液の
無隔膜直接電解による次亜塩素酸塩の生成」が電
気化学および工業物理化学56.NO5（1988）に報告
されている。さらに特開昭61−283391号には、水
道水中に少量含まれる塩素イオンを塩素に変換す
ることによる飲料水の殺菌方法が示されている。このように、塩素ガスを水に注入したり、次亜
塩素酸ナトリウムの希釈水溶液を使用したりする
いわゆる塩素殺菌の場合は、水溶液のPHにより残
留塩素の存在比が変化し（第１０図参照）、それ
に伴つて同一の残留塩素濃度でも殺菌効果が変動
する。殺菌効果が最も大きいといわれている次亜
塩素酸（HClO）の存在比の高いPH範囲、すなわ
ちPH３〜７好ましくはPH４〜６にすれば低い残留
塩素濃度でも大きな殺菌効果を発揮することがで
きる。（発明が解決しようとする課題）ところが、通常使用される水道水（以下、「原
水」という。）のPHは、5.8〜8.6の範囲で一般的
にはPH７前後が多い。そのため、単に塩素ガスを
水に注入したり、あるいは次亜塩素酸や次亜塩素
酸ナトリウムの水溶液を添加するのみでは、上記
のPH範囲にコントロールすることはできない。し
たがつて、例えば殺菌抵抗の強い芽胞菌等を殺菌
するためには残留塩素濃度を高めるか、あるいは
塩酸等の酸をさらに適量添加しPHをコントロール
する必要がある。また、一般に、次亜塩素酸ナトリウムの水溶液
は、使用場所とは別の場所で製造され容器に入れ
られた状態で供給されるため、別の容器に水道水
と次亜塩素酸ナトリウム水溶液を入れ所定濃度に
混合希釈後使用する例が多く、いわゆる溜置き式
となり連続的に殺菌水を使用するこどができな
い。このため、料理店の厨房や食品工場等で食器、
調理器具、食品類、手洗い、おしぼり等の殺菌に
用いるには、操作性、安全性及び殺菌効果等の点
で問題があつた。一方、塩化ナトリウム水溶液を無隔膜電解によ
り次亜塩素酸ナトリウムを製造する装置では、そ
の構造上アノード側及びカソード側の生成物が、
直ちに中和反応を起こすことから、PHを原水より
も酸性側にすることは不可能である。また、特開昭61−283391号に示される水道水中
に少量含まれる塩素イオンを塩素に変換する方法
では、電気伝導率が小さいので少電流しか流せ
ず、残留塩素濃度を高くするには長時間を要し、
また、無隔膜のためPHをコントロールすることが
できない。本発明は、上記した問題点を解消し、食器、調
理器具、食品類、手洗い及びおしぼり等の殺菌に
適した残留塩素濃度とPHを有する殺菌水を連続的
に製造することができる殺菌水製造装置及び殺菌
水製造方法を提供することを目的とする。（課題を解決するための手段）本発明者らは、上記目的を達成するため鋭意研
究を重ねた結果、塩化ナトリウム水溶液を有隔膜
電解して、アノード側に生成する残留塩素濃度の
高い水を、希釈用原水及び／またはカソード側に
生成するアルカリ水で混合希釈することにより、
殺菌に適した残留塩素濃度とPHを有する殺菌水を
製造することができることを見出し、本発明を完
成するに至つた。すなわち、本発明の殺菌水製造装置は、電解用
直流電源装置；アノード室とカソード室及び両電
極の間に隔膜を有し、アノード室とカソード室と
に分離された電解槽；原水導入管から供給される
原水と、塩化ナトリウム水溶液添加手段から供給
される塩化ナトリウム水溶液とを混合して成る被
電解水を、該アノード室とカソード室に供給する
導入管；該アノード室とカソード室のそれぞれか
ら生成水を取り出す導出管；該アノード室から取
り出された生成水と、該原水導入管から分岐させ
た希釈用原水導管から供給される原水及び／また
は前記カソード室から取り出される生成水とを混
合希釈する手段；を有することを特徴とし、ま
た、本発明の殺菌水製造方法は、塩化ナトリウム
水溶液と原水導入管から供給される原水とを混合
して成る被電解水を、アノード室とカソード室と
を有する電解槽に供給して電解し、ついで、該ア
ノード室から取り出された生成水を、該原水導入
管の中途で分岐させた希釈用原水導管から供給さ
れる原水及び／またはカソード室から取り出され
る生成水で混合希釈することを特徴とする。原水で希釈する手段を設けると、アノード側に
生成する残留塩素濃度の高い生成水を所定の濃度
まで希釈するとともに、PHを制御でき、さらに殺
菌水の量をアノード側生成水量の数倍に増加させ
ることが可能となる。一方、カソード側生成水で希釈する手段を設け
るのは、主としてPHを制御するためである。しか
しながら、カソード側生成水は、少量添加しただ
けでPHを上昇させるので、殺菌水の量をあまり増
加させることができない。また、原水とカソード側生成水の双方を添加す
る手段を設けることにより、PHの制御及び殺菌水
量を種々に調節でき殺菌水製造装置としてより有
利である。なお、これらの操作は、手動でもまた殺菌水中
の残留塩素濃度及びPHを連続的に測定する装置を
設け、それぞれの値が設定範囲内に保持されるよ
うに自動制御してもよい。自動制御にすれば、原
水の供給圧力、PH、電気伝導率等の変化にかかわ
らず性状の安定した殺菌水を人手を要さずにしか
も容易に供給することができる。次に図面に基づいて詳細に説明する。第１図〜第３図は手動操作による本発明の殺菌
水製造装置の例を示す。第１図は、アノード側生成水を、希釈用原水の
みで混合希釈する場合の概略系統図、第２図は、
希釈用原水及びカソード側生成水の双方で希釈す
る場合の概略系統図、第３図は、カソード側生成
水のみで希釈する場合の概略系統図である。まず、電解槽について説明する。電解槽はケー
シング１２ａ，１２ｂ、アノード１３、スペーサ
ー１５ａ，１５ｂ、隔膜１６及びカソード１４に
より構成されている。図では単槽平板式の場合を
示すが、これらの数量を増した複槽平板式あるい
は円筒式でもよい。製作加工の面からは平板式が
好ましい。スペーサー１５は、電極間距離を設定するとと
もに被電解水の流路を確保する役割を担つてい
る。スペーサーを薄くして電極間距離を小さくす
れば低い電圧で電解可能となるが、被電解水の流
速が大きくなり圧力損失が大きくなるので、双方
の条件を考慮して厚さを選定する。図に示した例
では、スペーサーの厚みを３mmとし電極間距離を
設定した。隔膜１６は、陽イオン及び陰イオンの双方を通
過させる中性膜を使用し、その材質はアノード側
に生成する塩素ガスに冒されないフツ素系とする
のが好ましい。炭化水素系の隔膜は塩素ガスに冒
され易く、実用的でない。また、透水性の大きな
ものは、隔膜の効果を減少させるので小さいもの
が好ましい。アノード１３の材質は、電解効率に大きく影響
するので、塩素過電圧が小さく酸素過電圧が大き
いものが好ましい。図に示した例においては、触
媒作用の大きいチタン板に白金、イリジウム系を
コーテイングしたものを使用し、塩素イオンの酸
化反応が進行し易くなるようにして殺菌に有効な
遊離塩素が効率よく発生するようにした。カソード１４は、耐食性を考慮してチタンを用
いているが、ステンレスでも構わない。本発明の製造装置を構成している各要素は次の
ように接続されている。まず、アノード１３とカソード１４及び直流電
源装置１７は、電気的に接続されている。電解槽のアノード室及びカソード室と原水導入
管３とは、アノード側被電解水導入管８及びカソ
ード側被電解水導入管９並びに被電解水導入管５
を介して接続される。被電解水導入管５の流路へ
は塩化ナトリウム水溶液を供給するため、塩化ナ
トリウム水溶液貯蔵タンク１０が塩化ナトリウム
水溶液添加ポンプ１１を介して接続される。前記
アノード室及びカソード室にはそれぞれアノード
側生成水導出管１８及びカソード側生成水導出管
１９が接続される。さらに、混合希釈部２６へは
アノード側生成水導出管１８と希釈用原水導管２
４及び／またはカソード側生成水混合管２３が接
続される。希釈用水導管２４の一方は原水分岐部
４に接続される。また、希釈用原水導管２４、カソード側生成水
混合管２３、カソード側生成水排水管２２の各流
路には、それぞれの適宜位置に流量調節弁２５，
２１，２０が設けられている。第４図〜第６図は、第１図〜第３図の装置に殺
菌水の残留塩素濃度及びPHの自動制御回路を設け
た装置を示す。すなわち、混合希釈部２６に接続される殺菌水
吐出管２７の流路に、残留塩素濃度測定装置３０
及びPH測定装置３３を配設する。そして、希釈用原水のみで希釈する場合は、第
４図に示すように、残留塩素濃度測定装置３０、
コントローラー３１、調節計３２と直流電源装置
１７間及びPH測定装置３３、コントローラー３
４、調節計３５と希釈用原水流量調節弁２５間を
それぞれ電気的に接続して構成する。希釈用原水及びカソード側生成水の両者で希釈
する場合は、第５図に示すように、残留塩素濃度
測定装置３０、コントローラー３１、調節計３２
と直流電源装置１７間、PH測定装置３３、コント
ローラー３４、調節計３５と希釈用原水流量調節
弁２５間、PH測定装置３３、コントローラー３
４、調節計３５とカソード側生成水流量調節弁２
１間及びPH測定装置３３、コントローラー３４、
調節計３５とカソード側生成水排水流量調節弁２
０間をそれぞれ電気的に接続して構成する。また、カソード側生成水のみで希釈する場合
は、第６図に示すように、残留塩素濃度測定装置
３０、コントローラー３１、調節計３２と直流電
源装置１７間、PH測定装置３３、コントローラー
３４、調節計３５とカソード側生成水流量調節弁
２１間及びPH測定装置３３、コントローラー３
４、調節計３５とカソード側生成水排水流量調節
弁２０間をそれぞれ電気的に接続して構成する。すなわち、前記残留塩素濃度測定装置３０及び
PH測定装置３３からの信号を、あらかじめ設定し
ておいた値と比較し、電解電流並びに希釈用原水
流量及び／またはカソード側生成水混合流量と排
水流量とを制御し、常に殺菌水の残留塩素濃度及
びPHを設定範囲内に保持するようにした構成であ
る。このように、殺菌水の残留塩素濃度及びPHを測
定しフイードバツクして自動制御することにより
原水の供給圧力、PH、電気伝導率等の変化に対し
ても殺菌水の性状を安定に保つことができる。第７図〜第９図は、自動制御のブロツク図を示
す。第７図は第４図に、第８図は第５図に、第９
図は第６図にそれぞれ示した装置に対応する。こ
こで示した殺菌水の残留塩素濃度の制御方法は、
電解電流を制御する方法であり、精度がよくかつ
システム化も容易な方法である。図示しないが、
これ以外にも塩化ナトリウム水溶液濃度、被電解
水量等の電解条件や希釈用原水流量を制御する方
法がある。ただし、それらの方法は、図示した方
法よりも構成が複雑になる。なお、ここでは、塩
化ナトリウム水溶液濃度、被電解水量は一定とし
ている。殺菌水の残留塩素濃度を自動制御する電気回路
は、残留塩素濃度測定装置３０、電気信号を変換
するコントローラー３１、調節計３２及び直流電
源装置１７から構成される。一方、殺菌水のPHを
自動制御する電気回路は、PH測定装置３３、電気
信号を変換するコントローラー３４、調節計３５
並びに希釈用水量調節弁２５及び／またはカソー
ド側生成水流量調節弁２１とカソード側生成水排
水流量調節弁２０から構成される。また、装置の故障等で殺菌水の残留塩素濃度や
PHが設定範囲を大幅に逸脱したときは、例えば警
報等で知らせるようにしてもよい。原水の時間的な供給圧力変動に伴う被電解電流
の変動、あるいは季節的な原水のPH及び電気伝導
率の変動といつた外乱が多い場合は、自動制御回
路を設けた装置を使用することが好ましい。殺菌水中の残留塩素濃度は、残留塩素濃度測定
装置３０によつて連続的に測定される。濃度信号
はコントローラー３１を経由し調節計３２にフイ
ードバツクされる。調節計３２では基準となる残
留塩素濃度設定値とフイードバツク信号とを比較
し、偏差に応じて直流電源装置１７へ制御信号を
送り電解電流を制御する。この演算に用いる残留
塩素濃度とOX比電流の関係は、第１１図及び第
１３図から得られる。殺菌水中のPHは、PH測定装置３３により連続的
に測定される。PH信号はコントローラー３４を経
由し調節計３５にフイードバツクされる。調節計
３５では基準となるPH設定値とコントローラー３
４で変換されたフイードバツク信号とを比較し偏
差に応じて希釈用原水流量調節弁２５及び／また
はカソード側生成水流量調節弁２１とカソード側
生成水排水流量調節弁２０へ制御信号を送り混合
希釈水量を制御する。この演算に用いるPHとOX
比電流の関係は第１２図及び第１４図から得られ
る。（作用）本発明の装置によれば、塩化ナトリウム水溶液
を有隔膜電解することにより殺菌水を製造するこ
とができるが、電解槽における反応は以下のとお
りである。被電解水は、直流電流により電解される。アノ
ード側では塩素イオンが次の反応により次亜塩素
酸となり、カソード側ではナトリウムイオンと水
の反応で苛性ソーダと水素ガスが生じる。また、
この反応で、アノード側は酸性になりカソード側
はアルカリ性になる。アノード側： 2Cl^-→Cl₂＋2e^- Cl₂＋H₂Ｏ→H⁺＋Cl^-＋HClO カソード側： 2Na⁺＋2H₂Ｏ＋2e^- →2NaOH＋H₂↑ なお、次亜塩素酸（HClO）の存在比は前述し
た如くPHによつて変化する。また、アノード側生成水の残留塩素濃度及びPH
は被電解水量と電解電流により（以下、「OX比
電流」という）変化し、OX比電流を大きくすれ
ば残留塩素濃度は大きくなり、PHは低くなる。
OX比電流を小さくすれば残留塩素濃度は小さく
なり、PHは中性に近づく（第１１図、第１２図参
照）。ここで、OX比電流は次式により算出され
る。 OX比電流（クーロン／ｌ）＝電解電流(A)×60（sec／min）／アノード側被電
解水量（／min）ただし、OX比電流量を過大にするとジユール
熱による水温上昇が大きく危険である。アノード側で生成した残留塩素濃度の高い水
は、原水分岐部で分岐された希釈用原水及び／ま
たはカソード側生成水と合流し混合希釈されて、
残留塩素濃度及びPHが設定範囲内に制御され殺菌
水として装置より吐出される。カソード側生成水
は、混合しない場合あるいは混合量が少なく余つ
た場合には、カソード側生成排水流量調節弁を経
由し装置外に排出される。以下、本発明の作用を第１図〜第３図に基づき
さらに詳細に説明する。まず、塩化ナトリウム水溶液は、例えば５〜10
％濃度とし、貯蔵タンク１０から添加ポンプ１１
により被電解水導入管５に所定の濃度になるよう
に添加される。被電解水は、アノード側被電解水導入管８、カ
ソード側被電解水導入管９を経由し電解槽２に供
給され、直流電源装置１７により印加電解され
る。そして、それぞれ酸性水及びアルカリ水とな
り、アノード側生成水導出管１８、カソード側生
成水導出管１９から排出される。被電解水量の調
節は、調節弁６，７で行ない、電解電流は直流電
源装置１７によつて調整する。この直流電源装置
１７は、原水の電気伝導率等の変化に対応できる
ように定電制御装置を有しており、設定した電解
電流に保持することができる。原水分岐部４で分かれた希釈用原水は、塩化ナ
トリウム水溶液を添加せず、かつ電解槽２を通過
させずに希釈用原水導管２４を経由させ、混合希
釈部２６でアノード側で生成した残留塩素濃度の
高い水を混合希釈する。希釈用原水の流量は、流量調節弁２５により、
殺菌水が所定の残留塩素濃度及びPHの範囲になる
ように調整する。また、第２図及び第３図に示す
ようにカソード側生成水により混合する場合は、
カソード側生成水流量調節弁２１及びカソード側
生成水排水流量調節弁２０を調節して混合希釈部
２６で合流させればPHの調整を行うことができ
る。その結果、残留塩素濃度とPHが所定の範囲内に
調整された殺菌水が製造され、殺菌水吐出管２７
から排出される。（実施例）以下、第１表に示す仕様を有する本発明の製造
装置により製造された殺菌水の例を説明する。

【表】実施例１電気伝導率138μS／cm，PH7.6、残留塩素濃度
0.1ppmの原水に５％濃度の塩化ナトリウム水溶
液を、アノード側被電解水量１／min、カソー
ド側被電解水量１／minの計２／minに50
c.c.／min添加し、塩化ナトリウム濃度を1250ppm
とした。これにより被電解水の電気伝導率は約
2200μS／cmまで上昇した。この被電解水を電圧7V、電解電流6Aで電解す
ると、アノード側生成水はPH2.7、残留塩素濃度
70ppm、カソード側生成水はPH11.4、残留塩素濃
度0.3ppmであつた。このアノード側生成水１に、希釈水として原
水を４混合したところ、PH6.1、残留塩素濃度
15ppmの殺菌水５が得られた。実施例２実施例１で得られたアノード側生成水１に、
希釈水として原水を４及びカソード側生成水を
0.3混合したところ、PH7.0、残留塩素濃度
15ppmの殺菌水5.3が得られた。実施例３実施例１で得られたアノード側生成水１に、
希釈水としてカソード側生成水を0.6混合した
ところ、PH6.9、残留塩素濃度50ppmの殺菌水1.6
が得られた。実施例４電気伝導率139μS／cm、PH7.4、残留塩素濃度
0.1ppmの原水に５％濃度の塩化ナトリウム水溶
液を、アノード側被電解水量１／min、カソー
ド側被電解水量１／minの計２／minに50
c.c.／min添加し、塩化ナトリウム濃度を1250ppm
とした。これにより被電解水の電気伝導率は約
2200μS／cmまで上昇した。この被電解水を電圧12V、電解電流11Aで電解
するとアノード側生成水は、PH2.8、残留塩素濃
度160ppm、カソード側生成水はPH11.5、残留塩
素濃度0.3ppmであつた。このアノード側生成水１に、希釈水として原
水を３混合したところ、PH5.8、残留塩素濃度
40ppmの殺菌水４が得られた。実施例５実施例４で得られたアノード側生成水１に、
希釈水として原水を３及びカソード側生成水を
0.3混合したところ、PH6.6、残留塩素濃度
40ppmの殺菌水4.3が得られた。実施例６実施例４で得られたアノード側生成水１に、
希釈水としてカソード側生成水を0.6混合した
ところ、PH6.8、残留塩素濃度100ppmの殺菌水
1.6が得られた。なお、第２表及び第３表にこれらの殺菌水を使
つた殺菌試験結果を示す。

【表】

【表】（発明の効果）本発明の装置によれば、塩化ナトリウム水溶液
を有隔膜電解し、アノード側に残留塩素濃度の高
い水を生成させ、それを希釈用原水及び／または
カソード側生成水で混合希釈することにより、残
留塩素濃度及びPHを所定の範囲にコントロールし
た殺菌水を連続的に製造できる。殺菌効果の大き
い次亜塩素酸の存在比の高いPH４〜６で使用でき
るため次亜塩素酸希釈水溶液よりも低い残留塩素
濃度でも従来と同等の殺菌効果を発揮できる。また、簡単な操作で殺菌水の製造ができるので
安全性及び操作性の点で優れており、しかも使用
場所で必要量だけ殺菌水を連続的に供給すること
ができるという点でも非常に優れている。したが
つて、調理環境衛生用、手洗い用、食品材料用、
おしぼり用等の殺菌水を始め、食品加工流通分
野、飲用水、プール用水、医療分野等、広範囲の
分野に適用可能な殺菌水を低コストで供給可能で
ある。さらに、殺菌水の残留塩素濃度及びPHを自動制
御する回路を設ければ、原水の供給圧力、PH、電
気伝導率等の変化にかかわらず安定した殺菌水を
供給することが可能で、殺菌効果をより高めるこ
とができる。また、各流量調整、電流調整等の調
整監視作業が不要となり省力化できる。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第３図は本発明の殺菌水製造装置の概
略系統図であり、第４図〜第９図は自動制御回路
を設けた殺菌水製造装置の概略系統図及び電気回
路ブロツク図であり、第１０図は遊離塩素濃度存
在比とPHの関係を表わす図であり、第１１図は
OX比電流と残留塩素濃度の関係の一例を表わす
図であり、第１２図はOX比電流とPHの関係の一
例を表わす図であり、第１３図は希釈倍率と残留
塩素濃度の関係の一例を表わす図であり、第１４
図は希釈倍率とPHの関係の一例を表わす図であ
る。１……殺菌水製造装置、２……電解槽、３……
原水導入管、４……原水分岐部、５……被電解水
導入管、６……アノード側電解水流量調節弁、７
……カソード側電解水流量調節弁、８……アノー
ド側被電解水導入管、９……カソード側被電解水
導入管、１０……塩化ナトリウム水溶液貯蔵タン
ク、１１……塩化ナトリウム水溶液添加ポンプ、
１２ａ，１２ｂ……電解槽ケーシング、１３……
アノード、１４……カソード、１５ａ，１５ｂ…
…スペーサー、１６……隔膜、１７……直流電解
装置、１８……アノード側生成水導出管、１９…
…カソード側生成水導出管、２０……カソード側
生成水排水流量調節弁、２１……カソード側生成
水流量調節弁、２２……カソード側生成水排水
管、２３……カソード側生成水混合管、２４……
希釈用原水導管、２５……希釈用原水流量調節
弁、２６……混合希釈部、２７……殺菌水吐出
管、３０……残留塩素濃度測定装置、３１……コ
ントローラー、３２……調節計、３３……PH測定
装置、３４……コントローラー、３５……調節
計。

Claims

【特許請求の範囲】１電解用直流電源装置；アノードとカソード及び両電極の間に隔膜を有
し、アノード室とカソード室とに分離された電解
槽；原水導入管から供給される原水と、塩化ナトリ
ウム水溶液添加手段から供給される塩化ナトリウ
ム水溶液とを混合して成る被電解水を、該アノー
ド室とカソード室に供給する導入管；該アノード室とカソード室のそれぞれから生成
水を取り出す導出管；該アノード室から取り出された生成水と、該原
水導入管の中途で分岐させた希釈用原水導管から
供給される原水とを混合希釈する手段；を有することを特徴とする殺菌水製造装置。２請求項１記載の殺菌水製造装置において、該
アノード室から取り出された生成水と、該原水導
入管の中途で分岐させた希釈用原水導管から供給
される原水とを混合希釈する手段に代えて、該ア
ノード室から取り出された生成水と、該原水導入
管の中途で分岐させた希釈用原水導管から供給さ
れる原水及びカソード室から取り出された生成水
とを混合希釈する手段を有する殺菌水製造装置。３請求項１記載の殺菌水製造装置において、該
アノード室から取り出された生成水と、該原水導
入管の中途で分岐させた希釈用原水導管から供給
される原水とを混合希釈する手段に代えて、該ア
ノード室から取り出された生成水と、カソード室
から取り出された生成水とを混合希釈する手段を
有する殺菌水製造装置。４請求項１記載の殺菌水製造装置において、希
釈用原水導管の流路に流量調節弁を設け、かつ、
混合希釈部の後に接続される殺菌水吐出管の流路
に殺菌水の残留塩素濃度を測定する装置とPHを測
定する装置を配設し、該残留塩素濃度測定装置と
直流電源装置間及び該PH測定装置と希釈用原水流
量調節弁間をそれぞれ電気的に接続し、該残留塩
素濃度測定装置及び該PH測定装置からの信号をあ
らかじめ設定しておいた値と比較して、電解電流
及び希釈用原水流量を制御し、常に殺菌水の残留
塩素濃度及びPHを設定範囲内に保持する自動制御
回路を設けたことを特徴とする殺菌水製造装置。５請求項２記載の殺菌水製造装置において、希
釈用原水導管の流路とカソード側生成水導出管の
流路にそれぞれ希釈用原水流量調節弁及びカソー
ド側生成水流量調節弁とカソード側生成水排水流
量調節弁を設け、かつ、混合希釈部の後に接続さ
れる殺菌水吐出管の流路に殺菌水の残留塩素濃度
を測定する装置とPHを測定する装置を配設し、該
残留塩素濃度測定装置と直流電源装置間、該PH測
定装置と希釈用原水流量調節弁間、該PH測定装置
とカソード側生成水流量調節弁間及び該PH測定装
置とカソード側生成水排水流量調節弁間をそれぞ
れ電気的に接続し、該残留塩素濃度測定装置及び
該PH測定装置からの信号をあらかじめ設定してお
いた値と比較して、電解電流、希釈用原水流量、
カソード側生成水混合流量及びカソード側生成水
排水流量を制御し、常に殺菌水の残留塩素濃度及
びPHを設定範囲内に保持する自動制御回路を設け
たことを特徴とする殺菌水製造装置。６請求項３記載の殺菌水製造装置において、カ
ソード側生成水導出管の流路にカソード側生成水
流量調節弁及びカソード側生成水排水流量調節弁
を設け、かつ、混合希釈部の後に接続される殺菌
水吐出管の流路に殺菌水の残留塩素濃度を測定す
る装置とPHを測定する装置を配設し、該残留塩素
濃度測定装置と直流電源装置間、PH測定装置とカ
ソード側生成水流量調節弁間及びPH測定装置とカ
ソード側生成水排水流量調節弁間をそれぞれ電気
的に接続し、該残留塩素濃度測定装置及び該PH測
定装置からの信号をあらかじめ設定しておいた値
と比較して、電解電流、カソード側生成水混合流
量及びカソード側生成水排水流量を制御し、常に
殺菌水の残留塩素濃度及びPHを設定範囲内に保持
する自動制御回路を設けたことを特徴とする殺菌
水製造装置。７塩化ナトリウム水溶液と原水導入管から供給
される原水とを混合して成る被電解水を、アノー
ド室とカソード室とを有する電解槽に供給して電
解し、ついで、該アノード室から取り出された生
成水を、該原水導入管の中途で分岐させた希釈用
原水導管から供給される原水で混合希釈すること
を特徴とする殺菌水の製造方法。８請求項７記載の殺菌水の製造方法において、
希釈用原水導管から供給される原水で混合希釈す
る構成に代えて、希釈用原水導管から供給される
原水及びカソード室から取り出された生成水で混
合希釈する構成を有する殺菌水の製造方法。９請求項７記載の殺菌水の製造方法において、
希釈用原水導管から供給される原水で混合希釈す
る構成に代えて、カソード室から取り出された生
成水で混合希釈する構成を有する殺菌水の製造方
法。