JPH0441091A - レーザーによるプリント板の加工方法 - Google Patents
レーザーによるプリント板の加工方法Info
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- JPH0441091A JPH0441091A JP2146435A JP14643590A JPH0441091A JP H0441091 A JPH0441091 A JP H0441091A JP 2146435 A JP2146435 A JP 2146435A JP 14643590 A JP14643590 A JP 14643590A JP H0441091 A JPH0441091 A JP H0441091A
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Landscapes
- Laser Beam Processing (AREA)
- Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の属する分野]
本発明はレーザによるプリント板の加工方法に関し、特
にプリント回路基板(プリント板と称する。)の穿孔加
工をレーザのパルス制御によって行なう技術に関する。
にプリント回路基板(プリント板と称する。)の穿孔加
工をレーザのパルス制御によって行なう技術に関する。
[発明の従来技術]
本発明者等は先にプリント板の貫通孔の加工のために異
種の波長のレーザーをプリント板の加工面に照射して孔
加工する技術を特願平1−3462号として提案した。
種の波長のレーザーをプリント板の加工面に照射して孔
加工する技術を特願平1−3462号として提案した。
又、特開昭62−289390号公開公報には異なる波
長の2レーザーヒームを使用し、これらのビームを同一
の場所に照射して加工を行なうレーザー加工機か示され
ている。
長の2レーザーヒームを使用し、これらのビームを同一
の場所に照射して加工を行なうレーザー加工機か示され
ている。
更に、特開昭62−254117号公開公報にはそれぞ
れ独立するレーザー装置から発振される異なる種類のレ
ーザー光を混合照射する装置か示されている。
れ独立するレーザー装置から発振される異なる種類のレ
ーザー光を混合照射する装置か示されている。
[発明の課題]
従来、微小な貫通孔の加工には微小径例えば0.2〜0
.3φ程度のトリルによる孔明加工か行なわれている。
.3φ程度のトリルによる孔明加工か行なわれている。
このドリルの孔明加工による場合には孔明の数の少ない
ときにはそれ相当の加工精度を得られるか、連続加工す
るとトリルの加工中の発熱により切削性能の低下及びド
リルの損傷を生し、加工時間が長くなり、又、孔の断面
の表面粗さも低下する。又、トリル加工の場合直径0.
1φ程度のトリルは折損しやすい。
ときにはそれ相当の加工精度を得られるか、連続加工す
るとトリルの加工中の発熱により切削性能の低下及びド
リルの損傷を生し、加工時間が長くなり、又、孔の断面
の表面粗さも低下する。又、トリル加工の場合直径0.
1φ程度のトリルは折損しやすい。
更に、前述のトリル加工の場合には加工断面の表面粗さ
は非常に粗くなり、孔明後に表裏面の銅箔パターンの導
通りためにメツキ処理しても断面に充分なメツキ膜の被
膜を得ることかてきない。
は非常に粗くなり、孔明後に表裏面の銅箔パターンの導
通りためにメツキ処理しても断面に充分なメツキ膜の被
膜を得ることかてきない。
本発明の課題はプリント板等の加工物に微細な、例えば
直径か1100p以下の微細な孔の断面表面を所定の表
面粗さ精度を得ることにある。
直径か1100p以下の微細な孔の断面表面を所定の表
面粗さ精度を得ることにある。
特に本発明はプリント板の表裏面の銅箔パターンを貫通
した電気的導通孔を得るために貫通孔を加工した後に孔
断面をメツキ処理する場合に適正なメツキ処理を可能と
する孔の加工方法を提案する。
した電気的導通孔を得るために貫通孔を加工した後に孔
断面をメツキ処理する場合に適正なメツキ処理を可能と
する孔の加工方法を提案する。
更に本発明は本発明者か先に提案したレーザービームを
パルス化してプリント板の穿孔加工を行なう技#i(特
願平]−160281、平成1年6月22日出願)の改
良に関する。上記発明は、レーザーをプリント板等の加
工物の加工面に照射して孔を加工する方法において、炭
酸ガス(CO2)レーザー等のレーザービームをパルス
化し、前記パルスの発振の初期発振を高出力発振とし、
中間発振を低出力発振又は漸増出力発振としたことを特
徴とするレーザーによる加工方法である。
パルス化してプリント板の穿孔加工を行なう技#i(特
願平]−160281、平成1年6月22日出願)の改
良に関する。上記発明は、レーザーをプリント板等の加
工物の加工面に照射して孔を加工する方法において、炭
酸ガス(CO2)レーザー等のレーザービームをパルス
化し、前記パルスの発振の初期発振を高出力発振とし、
中間発振を低出力発振又は漸増出力発振としたことを特
徴とするレーザーによる加工方法である。
本発明は上記加工方法におけるレーザーパルスの発振の
出力の大きさ、時間等の加工に要する因子をプリント板
の構成の情報例えば材質、各層の厚さ寸法に基づいて制
御するようにL/たものである。
出力の大きさ、時間等の加工に要する因子をプリント板
の構成の情報例えば材質、各層の厚さ寸法に基づいて制
御するようにL/たものである。
[課題解決のための手段及び作用]
本発明は前述のプリント板の構成情報に基づいてレーザ
ーのパルスによる穿孔加工するために、樹脂材料から作
られた基板層の表面及び裏面に電気回路を形成するため
の銅箔からなる第1層及び第2層を有するプリント板を
レーザー加工する方法において、前記基板層の材質毎の
加工速度及び前記基板層の厚さ寸法に応じた加工時間と
、前記第1層及び第2層の厚さ寸法に応じた加工速度並
びに加工時間を予め計測しておき、レーザービームをパ
ルス化して該パルスの発振を前記プリント板の各層の状
況に応じて出力制御するようにしたことを特徴とするレ
ーザーによるプリント板の加工方法を提案する。
ーのパルスによる穿孔加工するために、樹脂材料から作
られた基板層の表面及び裏面に電気回路を形成するため
の銅箔からなる第1層及び第2層を有するプリント板を
レーザー加工する方法において、前記基板層の材質毎の
加工速度及び前記基板層の厚さ寸法に応じた加工時間と
、前記第1層及び第2層の厚さ寸法に応じた加工速度並
びに加工時間を予め計測しておき、レーザービームをパ
ルス化して該パルスの発振を前記プリント板の各層の状
況に応じて出力制御するようにしたことを特徴とするレ
ーザーによるプリント板の加工方法を提案する。
本発明に依れば、プリント板の樹脂部の加工に要する時
間及びパルス照射にともなう発熱の冷却所要時間や銅箔
部の加工のための所要エネルギーに基づいてパルス出力
及び発振時間を制御する。
間及びパルス照射にともなう発熱の冷却所要時間や銅箔
部の加工のための所要エネルギーに基づいてパルス出力
及び発振時間を制御する。
第1図A−B及び第2図は本発明の第1の実施例を示し
、第1図は本発明方法を実行する装置の構成を示す図、
第2図は本実施例のレーザー出力のパルス波形図、第3
図は加工状態を示す図である。図において符号lは加工
1べきフリント板、2は前記プリント板1を保持し所定
の平面に対しX軸・Y軸方向に前記プリント板1を移動
可能なX−Yチーフルステージ、4は前記X−Yテーブ
ルステージを移動する千−タ等の移動手段を示す。
、第1図は本発明方法を実行する装置の構成を示す図、
第2図は本実施例のレーザー出力のパルス波形図、第3
図は加工状態を示す図である。図において符号lは加工
1べきフリント板、2は前記プリント板1を保持し所定
の平面に対しX軸・Y軸方向に前記プリント板1を移動
可能なX−Yチーフルステージ、4は前記X−Yテーブ
ルステージを移動する千−タ等の移動手段を示す。
6は炭酸ガスレーザー等の長波長域の第1のレーザービ
ームを出力する第1のレーザー出力手段、8は前記第1
のレーザービームの光束を制御する光学系、lOは光学
系8を通ったレーザービームを前記プリント板lの加工
面に光路変更するための反射ミラーである。12は前記
第1のレーザー出力手段6を駆動励起するための励起パ
ルスを出力する制御手段である。
ームを出力する第1のレーザー出力手段、8は前記第1
のレーザービームの光束を制御する光学系、lOは光学
系8を通ったレーザービームを前記プリント板lの加工
面に光路変更するための反射ミラーである。12は前記
第1のレーザー出力手段6を駆動励起するための励起パ
ルスを出力する制御手段である。
制御手段には第1図Bに示す後述プリント板の情報を記
憶する記憶手段M1 ・M2・・・Mnと、該記憶手段
からの情報に基づいて必要な情報を演算する演算手段C
a、 ・Ca2・・・Canと、該演算手段の演算結
果を記憶する記憶手段M、−1・M、−2・・・M、、
、、、と、及び加工手順をブロクラム化した加工制御手
段12Aから成る。
憶する記憶手段M1 ・M2・・・Mnと、該記憶手段
からの情報に基づいて必要な情報を演算する演算手段C
a、 ・Ca2・・・Canと、該演算手段の演算結
果を記憶する記憶手段M、−1・M、−2・・・M、、
、、、と、及び加工手順をブロクラム化した加工制御手
段12Aから成る。
入力部14は第1図Bに示すプリント板の情報を符号化
して前記記憶手段M、・M2・・・Mnに入力する手段
を示す。本実施例は一種類又は複数種のプリント板の穿
孔加工を行なう例を示すものてあり、第1図Bにおいて
、第1番目の種類のプリント板(この種類をP、と示す
。)P□の樹脂材料て出来ている基板部の材質を符号化
、例えば信号変換手段S1を介してビット信号によって
入力しその情報Pla−1はメモリM、に記憶する。基
板部の樹脂の厚さ寸法もビット信号化してPla−2の
信号としてメモリM1に記憶する。
して前記記憶手段M、・M2・・・Mnに入力する手段
を示す。本実施例は一種類又は複数種のプリント板の穿
孔加工を行なう例を示すものてあり、第1図Bにおいて
、第1番目の種類のプリント板(この種類をP、と示す
。)P□の樹脂材料て出来ている基板部の材質を符号化
、例えば信号変換手段S1を介してビット信号によって
入力しその情報Pla−1はメモリM、に記憶する。基
板部の樹脂の厚さ寸法もビット信号化してPla−2の
信号としてメモリM1に記憶する。
プリント板P1の表面及び裏面の厚さ寸法の情報もビッ
ト信号化にpH・PI□としてそれぞれ記憶手段M、に
入力する。
ト信号化にpH・PI□としてそれぞれ記憶手段M、に
入力する。
プリント板P1の前記基板層の材質・厚さはプリント板
の設計の際に決められる情報てあり、各材質によって又
組成の成分によってレーザービーム加工の加工速度が異
なるので材質・組成に応じた情報が必要となる。。
の設計の際に決められる情報てあり、各材質によって又
組成の成分によってレーザービーム加工の加工速度が異
なるので材質・組成に応じた情報が必要となる。。
基板層の表面及び裏面の銅箔部は同一材の銅と仮定して
おり、使用するレーザーの銅に対する加工速度は銅箔部
の厚さ寸法によって決められるものてあり、そのため第
1層・第2層の厚さ寸法の情報P、1・PI3か要求さ
れる。演算手段Catはプリント板P1の前記入力情報
P11・Pla−1・・・と使用するレーザーの種類か
決められてプリント板P1の第1層を穿孔するために要
するエネルギーの計算か行なわれてパルス出力値と出力
時間(加工所要時間)の計算か行なわれそれぞれの情報
が記憶手段M +−+に入力される。
おり、使用するレーザーの銅に対する加工速度は銅箔部
の厚さ寸法によって決められるものてあり、そのため第
1層・第2層の厚さ寸法の情報P、1・PI3か要求さ
れる。演算手段Catはプリント板P1の前記入力情報
P11・Pla−1・・・と使用するレーザーの種類か
決められてプリント板P1の第1層を穿孔するために要
するエネルギーの計算か行なわれてパルス出力値と出力
時間(加工所要時間)の計算か行なわれそれぞれの情報
が記憶手段M +−+に入力される。
演算手段Ca+は更に基板層の樹脂材料の情報Pla−
1と樹脂部の厚さ寸法の情報Pla−2に基づいて使用
されるレーザーのパルス出力値と出力時間(加工所要時
間)の計算か行なわれそれぞれの情報か記憶手段M、−
3に入力される。
1と樹脂部の厚さ寸法の情報Pla−2に基づいて使用
されるレーザーのパルス出力値と出力時間(加工所要時
間)の計算か行なわれそれぞれの情報か記憶手段M、−
3に入力される。
更に演算手段Catにおいてはプリント板の裏面の第2
の銅箔部のパルス出力値と出力時間の計算も前記第1層
の場合と同様に計算し、その計算結果は記憶手段M、−
1に入力される。
の銅箔部のパルス出力値と出力時間の計算も前記第1層
の場合と同様に計算し、その計算結果は記憶手段M、−
1に入力される。
複数種のプリント板例えば、基板層を形成する樹脂材料
かポリイミド系樹脂材料から作られる場合(プリント板
P1)や、該ポリイミド系樹脂材料に基板強化のための
合成材例えばフライバー繊維を混入した複合樹脂材料の
場合(フリント板P2)を加工する場合には各プリント
板P1 ・P2・・・の各情報を入力部を介して各記憶
手段M1 ・M2・・・Mnに入力し、各演算手段Ca
、 ・Ca2・・・Canて前記の必要な情報を計算し
記憶手段に入力する。
かポリイミド系樹脂材料から作られる場合(プリント板
P1)や、該ポリイミド系樹脂材料に基板強化のための
合成材例えばフライバー繊維を混入した複合樹脂材料の
場合(フリント板P2)を加工する場合には各プリント
板P1 ・P2・・・の各情報を入力部を介して各記憶
手段M1 ・M2・・・Mnに入力し、各演算手段Ca
、 ・Ca2・・・Canて前記の必要な情報を計算し
記憶手段に入力する。
次に第1図A−B乃至第3図を参照して本発明の加工状
態を説明する。
態を説明する。
加工制御部は加工すべきプリント板の選択にともなって
記憶手段M、−1の記憶情報が読み込まれる。これによ
って加工するプリント板(p+ )の記憶手段MI−1
の情報に基づいて加工が開始される。
記憶手段M、−1の記憶情報が読み込まれる。これによ
って加工するプリント板(p+ )の記憶手段MI−1
の情報に基づいて加工が開始される。
加工制御部には不図示の加工開始の起動信号の発生に同
期して時間を計数するカウンタcIか内蔵されており起
動信号の発生時点がら基準パルスt。、 t + 、
t 2 、・・・1nか出力して計時する。
期して時間を計数するカウンタcIか内蔵されており起
動信号の発生時点がら基準パルスt。、 t + 、
t 2 、・・・1nか出力して計時する。
記憶手段M、−3からはまず第1層の加工に要する出力
値と加工所要時間が加工制御部に入力し、加工制御部は
レーザー出力手段6を作動させて前記演算手段Calに
よって計算された出力P、を時間Tまたけ加工面に照射
する。第1層の加工のためのパルスP1は大きな出力で
ある。励起用パルスP、を出力する。この大きい励起用
パルスP、はプリント板表面の銅箔部分の穿孔用パルス
である。励起用パルスP1は単数、複数適宜決定する。
値と加工所要時間が加工制御部に入力し、加工制御部は
レーザー出力手段6を作動させて前記演算手段Calに
よって計算された出力P、を時間Tまたけ加工面に照射
する。第1層の加工のためのパルスP1は大きな出力で
ある。励起用パルスP、を出力する。この大きい励起用
パルスP、はプリント板表面の銅箔部分の穿孔用パルス
である。励起用パルスP1は単数、複数適宜決定する。
大きい出力の後に第2図に示すように出力の低い複数の
パルスP2〜P6を出力する。22〜P6の低出力波形
パルスはプリント板表面の銅箔部を貫通した後に銅箔部
の下側の樹脂材料の部分の加工のための励起用パルスで
ある。
パルスP2〜P6を出力する。22〜P6の低出力波形
パルスはプリント板表面の銅箔部を貫通した後に銅箔部
の下側の樹脂材料の部分の加工のための励起用パルスで
ある。
第1層の加工のための出力P1が終った後、カウンタパ
ルスの所定パルスカウント後樹脂部の加工のためのレー
ザーパルスP2・R3・・・R5かそれぞれレーザ出力
手段6の励起時間T2・T3・・・T5づつそれぞれ出
力値P2・R3・R4・R5を段階的に変えつつ制御さ
れる。
ルスの所定パルスカウント後樹脂部の加工のためのレー
ザーパルスP2・R3・・・R5かそれぞれレーザ出力
手段6の励起時間T2・T3・・・T5づつそれぞれ出
力値P2・R3・R4・R5を段階的に変えつつ制御さ
れる。
尚、レーザ出力手段によるレーザ照射を出力値P2・R
3・・・R5と連続的に間隔を設けないて行なうと発熱
のために樹脂部の設定孔径以上の孔径になったり表面部
から裏面部に均一の径となりにくくなる。そのためにレ
ーザ照射は出力値P2・R3・・・の大きさに対応じた
冷却時間を設定しである。実験に依ると1パルス当り1
0■J(ミリジュール)のレーザビームを1001(z
の発振周期て照射したところ 第1−第2の銅箔層について 8.2X10−6■13
ポリマーについて 3.01(l 履ff
13ガラス材について 1.lX10−2■
13のそれぞれの除去量があった。
3・・・R5と連続的に間隔を設けないて行なうと発熱
のために樹脂部の設定孔径以上の孔径になったり表面部
から裏面部に均一の径となりにくくなる。そのためにレ
ーザ照射は出力値P2・R3・・・の大きさに対応じた
冷却時間を設定しである。実験に依ると1パルス当り1
0■J(ミリジュール)のレーザビームを1001(z
の発振周期て照射したところ 第1−第2の銅箔層について 8.2X10−6■13
ポリマーについて 3.01(l 履ff
13ガラス材について 1.lX10−2■
13のそれぞれの除去量があった。
又、絶縁基板層をガラスファイバー混入のエポキシ材て
作り厚さ0.8■の場合10mJ/pulseのレーザ
ビームを10pulse照射すると貫通孔を得られた。
作り厚さ0.8■の場合10mJ/pulseのレーザ
ビームを10pulse照射すると貫通孔を得られた。
第2図の例においてR2・R3・R4・・・・pHの1
0パルス数て貫通に要するレーザエネルギを10mJ/
pulseX l0pulseて行ない各パルス間の冷
却時間T2’ −T、’ −T、’ −・・を約100
m 5ecand設定して行なった。
0パルス数て貫通に要するレーザエネルギを10mJ/
pulseX l0pulseて行ない各パルス間の冷
却時間T2’ −T、’ −T、’ −・・を約100
m 5ecand設定して行なった。
尚、第2図に示すように樹脂部加工のための励起用パル
スP2〜P6はパルス出力を漸増するとともに、パルス
巾を漸減傾向にしている。
スP2〜P6はパルス出力を漸増するとともに、パルス
巾を漸減傾向にしている。
樹脂部加工用の低出力励起用パルス22〜P6によって
樹脂部を貫通するパルス数の出力の後に、初期発振パル
スP1と同程度の大きい出力の励起用パルスP7・R6
・・・を出力する。
樹脂部を貫通するパルス数の出力の後に、初期発振パル
スP1と同程度の大きい出力の励起用パルスP7・R6
・・・を出力する。
この出力パルスは裏面の銅箔部分の加工のための励起用
パルスである。fslのレーザ出力手段6を励起すると
、該レーザ出力手段6からは第2図に示したパルス波形
に対応じた周期と出力のレーザビームか出力し、該レー
ザービームは反射ミラーによってテーブル上のプリント
板lに照射される。
パルスである。fslのレーザ出力手段6を励起すると
、該レーザ出力手段6からは第2図に示したパルス波形
に対応じた周期と出力のレーザビームか出力し、該レー
ザービームは反射ミラーによってテーブル上のプリント
板lに照射される。
プリント板上に照射したレーザービームは前記第3図に
示すように、まず初期発振の大出力レーザーど−ムR8
によってプリント板表面の銅箔部1aの穿孔加工か行な
われ、銅箔部1aの貫通後、樹脂部1bの穿孔加工か中
間発振による低出力レーザービームR2・R3によって
行なわれる。更に樹脂部の貫通後に大出力の励起用パル
スP7 ・R6による高出力のレーザーど−ムRイによ
って裏面の銅箔部1cの穿孔加工か行なわれる。
示すように、まず初期発振の大出力レーザーど−ムR8
によってプリント板表面の銅箔部1aの穿孔加工か行な
われ、銅箔部1aの貫通後、樹脂部1bの穿孔加工か中
間発振による低出力レーザービームR2・R3によって
行なわれる。更に樹脂部の貫通後に大出力の励起用パル
スP7 ・R6による高出力のレーザーど−ムRイによ
って裏面の銅箔部1cの穿孔加工か行なわれる。
本実施例における初期発振と周期発振の高出力レーザー
ビームR1・R1は表面と裏面の銅箔部の穿孔加工のた
めの高出力を必要とし、中間発振の低出力レーザービー
ムR2・R3は樹脂部の穿孔加工のために用いる。又、
中間発振の低出力レーザーど−ムR2・R3の励起用パ
ルスP2〜P6はその初期は低出力てかつ発振時間T2
・T3は長く順次出力を漸増するとともに発振時間T
4・Tsを短くする。これは例えば樹脂部の穿孔の浅い
時点はデユーティ比を大きくしてビームの照射時間を長
くする。樹脂部の穿孔の深さかある程度進むと穿孔した
樹脂の周壁部分の蓄熱により孔の内径か太くなる恐れか
生しる。これを防ぐために樹脂部の穿孔かある程度進ん
だ後はビーム出力を増加するかわりにビーム照射時間T
4 ・T5を短くしてビームピーク値を大きくする。
ビームR1・R1は表面と裏面の銅箔部の穿孔加工のた
めの高出力を必要とし、中間発振の低出力レーザービー
ムR2・R3は樹脂部の穿孔加工のために用いる。又、
中間発振の低出力レーザーど−ムR2・R3の励起用パ
ルスP2〜P6はその初期は低出力てかつ発振時間T2
・T3は長く順次出力を漸増するとともに発振時間T
4・Tsを短くする。これは例えば樹脂部の穿孔の浅い
時点はデユーティ比を大きくしてビームの照射時間を長
くする。樹脂部の穿孔の深さかある程度進むと穿孔した
樹脂の周壁部分の蓄熱により孔の内径か太くなる恐れか
生しる。これを防ぐために樹脂部の穿孔かある程度進ん
だ後はビーム出力を増加するかわりにビーム照射時間T
4 ・T5を短くしてビームピーク値を大きくする。
加工制御部12Aは次に別の種類のプリント板Pnを加
工する場合には記憶手段M1〜。に入力されている前述
の加工に必要な情報を読み出して、レーザー出力手段6
を制御してレーザー出力値、出力時間を決めることによ
り加工することかてきる。
工する場合には記憶手段M1〜。に入力されている前述
の加工に必要な情報を読み出して、レーザー出力手段6
を制御してレーザー出力値、出力時間を決めることによ
り加工することかてきる。
[発明の効果]
以上のように本発明は樹脂材料から作られた基板層の表
面及び裏面に電気回路を形成するための銅箔からなる第
1層及び第2層を有するフリント板をレーザー加工する
方法において、前記基板層の材質毎の加工速度及び前記
基板層の厚さ寸法に応じた加工時間と、前記第1層及び
第2層の厚さ寸法に応じた加工速度並びに加工時間と予
め計測しておき、レーザービームをパルス化して該パル
スの発振を前記プリント板の各層の状況に応じて出力制
御するようにしたことを特徴とするレーザーによるプリ
ント板の加工方法を提案することによりプリント板の高
精度な加工を行なうことかてきた。
面及び裏面に電気回路を形成するための銅箔からなる第
1層及び第2層を有するフリント板をレーザー加工する
方法において、前記基板層の材質毎の加工速度及び前記
基板層の厚さ寸法に応じた加工時間と、前記第1層及び
第2層の厚さ寸法に応じた加工速度並びに加工時間と予
め計測しておき、レーザービームをパルス化して該パル
スの発振を前記プリント板の各層の状況に応じて出力制
御するようにしたことを特徴とするレーザーによるプリ
ント板の加工方法を提案することによりプリント板の高
精度な加工を行なうことかてきた。
第1図Aは本発明の詳細な説明する構成図。
第1図Bは第1図Aの入力部の説明図。
第2図はレーザービーム出力手段を励起する励起用パル
スの波形図。 第3図はレーザーによる加工状態の説明図。 1・・・被加工物(プリント板) 2・・・X−Yステージ 12・・・パルス発生手段 14・・・パルス処理手段
スの波形図。 第3図はレーザーによる加工状態の説明図。 1・・・被加工物(プリント板) 2・・・X−Yステージ 12・・・パルス発生手段 14・・・パルス処理手段
Claims (1)
- (1)樹脂材料から作られた基板層の表面及び裏面に電
気回路を形成するための銅箔から なる第1層及び第2層を有するプリント板 をレーザー加工する方法において、 前記基板層の材質毎の加工速度及び前記基 板層の厚さ寸法に応じた加工時間と、 前記第1層及び第2層の厚さ寸法に応じた 加工速度並びに加工時間を予め計測してお き、 レーザービームをパルス化して該パルスの 発振を前記プリント板の各層の状況に応じ て出力制御するようにしたことを特徴とす るレーザーによるプリント板の加工方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2146435A JPH0441091A (ja) | 1990-06-04 | 1990-06-04 | レーザーによるプリント板の加工方法 |
US07/541,374 US5073687A (en) | 1989-06-22 | 1990-06-21 | Method and apparatus for working print board by laser |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2146435A JPH0441091A (ja) | 1990-06-04 | 1990-06-04 | レーザーによるプリント板の加工方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0441091A true JPH0441091A (ja) | 1992-02-12 |
Family
ID=15407603
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2146435A Pending JPH0441091A (ja) | 1989-06-22 | 1990-06-04 | レーザーによるプリント板の加工方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0441091A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006245438A (ja) * | 2005-03-04 | 2006-09-14 | Hitachi Via Mechanics Ltd | プリント基板の穴明け方法およびプリント基板の穴明け装置 |
-
1990
- 1990-06-04 JP JP2146435A patent/JPH0441091A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006245438A (ja) * | 2005-03-04 | 2006-09-14 | Hitachi Via Mechanics Ltd | プリント基板の穴明け方法およびプリント基板の穴明け装置 |
JP4559260B2 (ja) * | 2005-03-04 | 2010-10-06 | 日立ビアメカニクス株式会社 | プリント基板の穴明け方法 |
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