JPH043952A - 表面解析方法および表面解析装置 - Google Patents
表面解析方法および表面解析装置Info
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- JPH043952A JPH043952A JP2106185A JP10618590A JPH043952A JP H043952 A JPH043952 A JP H043952A JP 2106185 A JP2106185 A JP 2106185A JP 10618590 A JP10618590 A JP 10618590A JP H043952 A JPH043952 A JP H043952A
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- 238000005211 surface analysis Methods 0.000 title claims abstract description 23
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 14
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 claims abstract description 14
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 18
- 238000001459 lithography Methods 0.000 abstract description 3
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 230000005641 tunneling Effects 0.000 description 2
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
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- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は半導体装置等の解析に用いる表面解析方法及び
表面解析装置に関するものであも従来の技術 従来の荷電ビームを用いた表面解析方法。（特に顕微装
置）においては 荷電ビ、−ム電流値の変動がそのまま
検出信号強度に反映される方法がとられている。また
前記荷電ビーム電流値の変動を抑制する手段を講じたも
のとして番ヨ 荷電ビーム電流値の変動を荷電ビーム
引き出し電極に印可する引き出し電圧にフィードバック
する方式がとられている。
表面解析装置に関するものであも従来の技術 従来の荷電ビームを用いた表面解析方法。（特に顕微装
置）においては 荷電ビ、−ム電流値の変動がそのまま
検出信号強度に反映される方法がとられている。また
前記荷電ビーム電流値の変動を抑制する手段を講じたも
のとして番ヨ 荷電ビーム電流値の変動を荷電ビーム
引き出し電極に印可する引き出し電圧にフィードバック
する方式がとられている。
発明が解決しようとする課題
従来の荷電ビームを用いた表面解析装置でζよ荷電ビー
ム電流値の変動がそのまま検出信号強度に雑音となって
反映されるた数 検出信号の信号対雑音比は低く、前記
検出信号を基に作られた画像は不鮮明であも また 荷
電ビーム電流値の変動を抑制するために 荷電ビーム電
流値の変動を荷電ビーム引き出し電極に印可する引き出
し電圧にフィードバックする方式では 前記引き出し電
圧の変動が前記荷電ビームの焦点を絞る収束条件に影響
を与え荷電ビーム径を変動させるために前記画像の解像
度が劣化する。
ム電流値の変動がそのまま検出信号強度に雑音となって
反映されるた数 検出信号の信号対雑音比は低く、前記
検出信号を基に作られた画像は不鮮明であも また 荷
電ビーム電流値の変動を抑制するために 荷電ビーム電
流値の変動を荷電ビーム引き出し電極に印可する引き出
し電圧にフィードバックする方式では 前記引き出し電
圧の変動が前記荷電ビームの焦点を絞る収束条件に影響
を与え荷電ビーム径を変動させるために前記画像の解像
度が劣化する。
本発明（よ かかる点に鑑みてなされたもので、高信号
対雑音比で鮮明で高解像度の表面解析方法及び表面解析
装置を提供することを目的とする。
対雑音比で鮮明で高解像度の表面解析方法及び表面解析
装置を提供することを目的とする。
課題を解決するための手段
本発明（よ 荷電ビームを用いた表面解析装置において
、検出信号強度を入射一次荷電ビーム電流値で規格化し
前記検出信号への前記入射一次荷電ビーム電流値の変
動の影響を相殺することにより、前記検出信号の信号対
雑音比を向上させ、画像の鮮明度及び解像度を向上させ
ることを特徴とする表面解析方法及び表面解析装置であ
る。
、検出信号強度を入射一次荷電ビーム電流値で規格化し
前記検出信号への前記入射一次荷電ビーム電流値の変
動の影響を相殺することにより、前記検出信号の信号対
雑音比を向上させ、画像の鮮明度及び解像度を向上させ
ることを特徴とする表面解析方法及び表面解析装置であ
る。
作用
本発明は上述の構成により、荷電ビームを用いた表面解
析装置の検出信号強度への入射荷電ビーム電流値の変動
の影響が相殺され 前記検出信号の信号対雑音比が向上
し 前記検出信号を基に作られた画像は鮮明となる。ま
た 荷電ビーム電流値の変動を抑制するためは 荷電ビ
ーム引き出し電極に印可する引き出し電圧を変動させる
などして、荷電ビーム径を変動させることがないた敢前
記画像の解像度の劣化は抑制される。
析装置の検出信号強度への入射荷電ビーム電流値の変動
の影響が相殺され 前記検出信号の信号対雑音比が向上
し 前記検出信号を基に作られた画像は鮮明となる。ま
た 荷電ビーム電流値の変動を抑制するためは 荷電ビ
ーム引き出し電極に印可する引き出し電圧を変動させる
などして、荷電ビーム径を変動させることがないた敢前
記画像の解像度の劣化は抑制される。
実施例
第１図は表面解析装置として集束イオンビーム装置に適
用した場合の本発明の一実施例を示す。
用した場合の本発明の一実施例を示す。
同図において、イオン銃１より放出される入射イオンビ
ーム２の電流値は電流計５で時々刻々測定されＩｂとし
て出力される。入射イオンビーム２を試料３に照射する
ことにより、放出される検出信号４は信号検出器６で測
定されＩｓとして出力される。このＩＳは前記入射イオ
ンビーム２の電流値出力Ｉｂとともに演算器７に入力さ
れリアルタイムで割り算の商Ｉｓ／Ｉｂを出力８として
取り出して規格化を行（＼ 描画装置９に入力し描画す
る。
ーム２の電流値は電流計５で時々刻々測定されＩｂとし
て出力される。入射イオンビーム２を試料３に照射する
ことにより、放出される検出信号４は信号検出器６で測
定されＩｓとして出力される。このＩＳは前記入射イオ
ンビーム２の電流値出力Ｉｂとともに演算器７に入力さ
れリアルタイムで割り算の商Ｉｓ／Ｉｂを出力８として
取り出して規格化を行（＼ 描画装置９に入力し描画す
る。
第２図ａ、 ｂ及びｃ Ｉ＆ それぞれＩｂ、 Ｉ
ｓ、Ｉ ｓ ／ Ｉ ｂの測定例を示す。第２図におい
て、縦軸はそれぞれの強度を、横軸は測定場所を示し第
２図す及びＣはそれぞれ本発明による入射イオンビーム
の変動の補正を行う前と後の集束イオンビーム装置の検
出信号強度を示す。第２図から分かるように検出信号Ｉ
ｓに含まれる入射イオンビーム電流値Ｉｂの変動による
雑音はＩ ｓ ／ Ｉ ｂでは除かれている。
ｓ、Ｉ ｓ ／ Ｉ ｂの測定例を示す。第２図におい
て、縦軸はそれぞれの強度を、横軸は測定場所を示し第
２図す及びＣはそれぞれ本発明による入射イオンビーム
の変動の補正を行う前と後の集束イオンビーム装置の検
出信号強度を示す。第２図から分かるように検出信号Ｉ
ｓに含まれる入射イオンビーム電流値Ｉｂの変動による
雑音はＩ ｓ ／ Ｉ ｂでは除かれている。
な抵 本実施例では表面解析装置として集束イオンビー
ム装置について説明した力交 荷電ビームとして電子ビ
ームを用いた表面解析方法。（走査型顕微装置）東 荷
電ビームとして走査型トンネル顕微鏡におけるトンネル
電流の高周波成分を用いた走査型トンネル表面解析方法
。（顕微装置）に適用しても同様の効果が得られること
は言うまでもない。
ム装置について説明した力交 荷電ビームとして電子ビ
ームを用いた表面解析方法。（走査型顕微装置）東 荷
電ビームとして走査型トンネル顕微鏡におけるトンネル
電流の高周波成分を用いた走査型トンネル表面解析方法
。（顕微装置）に適用しても同様の効果が得られること
は言うまでもない。
発明の効果
本発明によれば 入射一次荷電ビーム電流強度が検出信
号強度に直接反映される表面解析装置において、検出信
号強度を入射一次荷電ビーム電流値で規格化し 上記検
出信号への上記入射一次荷電ビーム電流値の変動の影響
を相殺することにより、上記検出信号の信号対雑音比を
向上させ、画像の鮮明度及び解像度を向上させることが
できも本方法は簡便なものであるから多くの装置に適用
が可能である。
号強度に直接反映される表面解析装置において、検出信
号強度を入射一次荷電ビーム電流値で規格化し 上記検
出信号への上記入射一次荷電ビーム電流値の変動の影響
を相殺することにより、上記検出信号の信号対雑音比を
向上させ、画像の鮮明度及び解像度を向上させることが
できも本方法は簡便なものであるから多くの装置に適用
が可能である。
第１図は本発明の一実施例における集束イオンビーム装
置の構成医 第２図は同方法による測定結果を示す特性
図である。 １・・・イオン紘 ２・・・入射イオンビーな３・・・
試料、 ４・・・検出信号 ５・・・電流計 ６・・・
信号検出器 ７・・・演算器 ８・・・出力 ９・・・
描画装置 代理人の氏名 弁理士 粟野重孝 はか１名第 図 一一一−−□−□−中・シｐり定Ｂ〒１間□僧り電−亭
へｎ −瞥滞り定吋閤
置の構成医 第２図は同方法による測定結果を示す特性
図である。 １・・・イオン紘 ２・・・入射イオンビーな３・・・
試料、 ４・・・検出信号 ５・・・電流計 ６・・・
信号検出器 ７・・・演算器 ８・・・出力 ９・・・
描画装置 代理人の氏名 弁理士 粟野重孝 はか１名第 図 一一一−−□−□−中・シｐり定Ｂ〒１間□僧り電−亭
へｎ −瞥滞り定吋閤
Claims (4)
- （１）荷電ビームを用いた表面解析装置において、検出
信号強度を入射一次荷電ビーム電流値で規格化し、前記
検出信号への前記入射一次荷電ビーム電流値の変動の影
響を相殺することにより、前記検出信号の信号対雑音比
を向上させ、画像の鮮明度及び解像度を向上させること
を特徴とする表面解析方法。 - （２）特許請求の範囲第１項記載の荷電ビームとして集
束イオンビームを用いることを特徴とする表面解析方法
。 - （３）荷電ビームを用いた表面解析装置において、検出
信号強度を入射一次荷電ビーム電流値で規格化し、前記
検出信号への前記入射一次荷電ビーム電流値の変動の影
響を相殺することにより、前記検出信号の信号対雑音比
を向上させ、画像の鮮明度及び解像度を向上してなる表
面解析装置。 - （４）特許請求の範囲第３項記載の荷電ビームとして集
束イオンビームを用いることを特徴とする表面解析装置
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2106185A JPH043952A (ja) | 1990-04-20 | 1990-04-20 | 表面解析方法および表面解析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2106185A JPH043952A (ja) | 1990-04-20 | 1990-04-20 | 表面解析方法および表面解析装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH043952A true JPH043952A (ja) | 1992-01-08 |
Family
ID=14427154
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2106185A Pending JPH043952A (ja) | 1990-04-20 | 1990-04-20 | 表面解析方法および表面解析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH043952A (ja) |
Cited By (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5672514A (en) * | 1995-02-01 | 1997-09-30 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Chemiluminescent detecting method and apparatus |
| US5900640A (en) * | 1996-06-18 | 1999-05-04 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Image reading apparatus |
| US5946413A (en) * | 1995-01-10 | 1999-08-31 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Image analyzing apparatus for producing a profile of image data |
| US6023071A (en) * | 1996-06-18 | 2000-02-08 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Image reading apparatus |
| US6064755A (en) * | 1996-07-05 | 2000-05-16 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Image analyzing apparatus for producing density profile data of an image |
| US6130440A (en) * | 1997-01-30 | 2000-10-10 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Image reading apparatus |
| US6144758A (en) * | 1995-01-09 | 2000-11-07 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Biochemical image analyzing apparatus |
| US6229910B1 (en) | 1997-02-06 | 2001-05-08 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Image analyzing apparatus |
| US6236058B1 (en) | 1998-03-17 | 2001-05-22 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Image recording and reading system |
| US6572095B1 (en) | 1999-09-03 | 2003-06-03 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method of and system for conveying sheet to be scanned |
| US6693269B2 (en) | 2000-08-07 | 2004-02-17 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Image reader with DC-coupled integration circuit |
| US6707058B2 (en) | 2000-12-20 | 2004-03-16 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Radiation image read-out method and apparatus |
| US6759673B2 (en) | 2001-06-06 | 2004-07-06 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Radiation image readout method and apparatus |
| US6822242B2 (en) | 2000-11-20 | 2004-11-23 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Image data producing method and apparatus |
| US6936829B2 (en) | 2002-04-19 | 2005-08-30 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Image read-out method and apparatus |
| US7100831B2 (en) | 2002-04-23 | 2006-09-05 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method and apparatus for processing read-out images |
| US7348587B2 (en) | 2001-06-28 | 2008-03-25 | Fujifilm Corporation | Method for producing biochemical analysis data and apparatus used therefor |
| US7531057B2 (en) | 2002-01-31 | 2009-05-12 | Fujifilm Corporation | Method for producing biochemical analysis unit |
| US8274061B2 (en) | 2000-12-25 | 2012-09-25 | Fujifilm Corporation | Scanner and method for setting voltage value of photomultiplier |
-
1990
- 1990-04-20 JP JP2106185A patent/JPH043952A/ja active Pending
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