JPH0437034A - バンプ形成方法 - Google Patents

バンプ形成方法

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JPH0437034A
JPH0437034A JP2143154A JP14315490A JPH0437034A JP H0437034 A JPH0437034 A JP H0437034A JP 2143154 A JP2143154 A JP 2143154A JP 14315490 A JP14315490 A JP 14315490A JP H0437034 A JPH0437034 A JP H0437034A
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    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/10Bump connectors ; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/11Manufacturing methods
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
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  • Power Engineering (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はバンプ形成方法に関し、詳しくは、ワイヤボン
ディング手段により、バンプ高のばらつきなく、また作
業性よくバンプを形成するための方法に関する。
(従来の技術) ワイヤボンディング手段により、チップにバンプを形成
してフリップチップを製造することが知られている。ワ
イヤボンディング手段は、キャピラリに挿通されたワイ
ヤの下端部にトーチ電極を接近させてボールを形成し、
次いでこのボールをキャピラリの下端部によりチップの
電極に押し付けてボンディングし、次いでクランパーに
よりワイヤをクランプして、ワイヤを引き上げることに
より、ボールとワイヤの接合部からワイヤを切断するも
のである。
(発明が解決しようとする課題) ところが上記従来のワイヤポンディング手段は、ワイヤ
を引き上げて切断する場合のワイヤの切断箇所が安定せ
ず、ワイヤの切れ残りが長短様々にバンプから残存突出
し、このためバンプ高がばらつきやすい問題があった。
(課題を解決するための手段) 本発明は、 (a)キャピラリに挿通されたワイヤの下端部にトーチ
電極を接近させて、この下端部にボールを形成する工程
と、 (b)上記ボールを上記キャピラリの下端部によりチッ
プの電極に押し付けて、この電極にボンディングする工
程と、 (c)キャピラリを横方向に動かすことにより、上記ボ
ールとワイヤの接合部にダメージを与える工程と、 (d)クランパーによりワイヤをクランプして、ワイヤ
を引き上げることにより、上記ダメージが与えられた接
合部からワイヤを切断する工程と、 からバンブ形成方法を構成している。
(作用) 上記構成によれば、ボールを電極にボンディングした後
、ボールとワイヤの接合部にダメージを与えたうえで、
ワイヤを引き上げるようにしているので、この接合部か
ら確実にワイヤを切断することができる。
(実施例) 次に、図面を参照しながら本発明の詳細な説明する。
第1図は(a)〜(f)はバンプの形成工程を示すもの
である。同図(a)において、1はキャピラリであり、
ホーン2の先端部に保持されている。3はワイヤであっ
て、キャピラリ】に挿通されており、その下端部はキャ
ピラリ1の下端部から導出している。4はワイヤ3をク
ランプするクランパー 5はトーチ電極、6は千ノブ、
7は電極である。このチップ6は、ダイシングにより分
割される前のウェハー13中のチップである。
次にバンブ形成方法を説明する。
第1図(a)に示すように、キャピラリ1の下端部から
導出されたワイヤ3の下端部にトーチ電極5を接近させ
、このトーチ電極5に高電圧を印加することにより、ト
ーチ電極5とワイヤ3の下端部の間に電気スパークを発
生させ、ボール8を形成する。
次いで同図(b)に示すように、トーチ電極5を側方に
退去させるとともに、キャピラリ1を下砕させ、ボール
Bを電極7に着地させる。
次いでキャピラリ1の下端部によりボール8を電極7に
押し付け、ホーン2を超音波振動させながら、ボール8
をボンディングする(同図(C))。
次いでキャピラリ1をわずかに上昇させたうえで、キャ
ピラリ1を横方向に動かすことにより、ボール8とワイ
ヤ3の接合部aにダメージを与える(同図(d)参照)
。次いで同図(e)に示すようにキャピラリ1を上昇さ
せ、クランパー4によりワイヤ3をクランプして、ワイ
ヤ3を引き上げる。するとダメージが与えられた上記接
合部aから、ワイヤ3は切断し、バンプ8′が形成され
る(同図(f))。
このように本方法によれば、ワイヤ3をボール8との接
合部aから確実に切断することができ、したがって切断
箇所は一定し、バンプ高にばらつきのないバンプ8゛を
形成することができる。なお本実施例では、キャピラリ
1をわずかに上昇させた後、キャピラリ1を横方向に動
かして、接合部aにダメージを与えるようにしているが
、キャピラリ1を上昇させることなく、第1図(C)に
示す状態で、キャピラリ1を横方向に動かすことにより
、接合部aにダメージを与えてもよい。
ところで、ワイヤが金ワイヤの場合、上記のようにワイ
ヤ3はボール8との接合部aから切断され、切れ残りは
残らない。ところが半田ワイヤの場合、第2図に示すよ
うに、切れ残り3′(一般にテールと呼ばれる)が生じ
やすい。しかしながら上記のようにキャピラリ1を横方
向に動かせば、切断位置は安定し、テール長lは略一定
に保たれる。そこでこのバンブ8を加熱して切れ残り3
′を溶融させれば、バンブ高りが安定したバンブ8゛を
得ることができる(同図鎖線参照)。
上記のようなバンブ形成は、ダイシングによりチップに
分割される前のウェハーの状態で行うものであるが、次
により有利なバンブ形成方法を説明する。
第3図において、10はボンディングツール本体であり
、その前面から上記ホーン2が突出している。11はカ
メラ、工2は鏡筒である。
このカメラ11は本体10に取り付けられており、キャ
ピラリ1とカメラ11は一体的に移動する。13はウェ
ハーである。
第4図はウェハー13の平面図である。破線すは後工程
におけるダイシングの切断線、6162.63・・・は
ダイシングにより分割されるチップである。
バンプ8′を形成するにあたっては、これに先立って、
チップ61の電極7a〜7jをカメラ11により先行観
察する。このカメラIIによる観察の第1の目的は、チ
ップの有無やチップ形状の良否の判断のためである。ま
た第2の目的は、ボール8を着地させる電極7の位置の
検出のためである。このチップ有無や良否の判断は、所
定位置に電極7やチップ上の回路の特徴部があるか否か
を確認することにより行う。
具体的には、例えばチップ6の4隅に、特徴部である電
極7a、7d、7f、7iが存在するた否かを検出する
ことにより行う。Aはカメラ11の視野である。
チ、7プ6にバンブ8゛を形成するにあたっては、カメ
ラ11を矢印N方向に走らせて、まず最上列の第1番目
のチップ61をカメラ11の視野Aに入れてチップ61
の存在を確認、シ、このチップ61を観察する。このチ
ップ61は、その上部は欠損していることから、電極7
fは存在するが、電極7a、7d、?iは存在せず、カ
メラ11により観察できない。したがってこのチップ6
1は、形状不良と判断され、ボール8によるバンブ8゛
の形成は行わない。同様にして、チップ62〜64も、
4隅に電極7a7d、7f、7Kを具備していないこと
から不良と判断され、バンブ形成は行われない。なおチ
ップ63の右隣にはチップは存在せず、カメラ11によ
りチップを検出できないことから、最上列のチップは品
切れになったものと判断され、カメラ11は次列のチッ
プ64上へ移動する。
次いでカメラ11はチップ65を観察する。
このチップ65は4隅に電極7a、7d、7f。
71を正しく有していることから、その形状は良と判断
される。またこれと同時に、各電極7a、7d、7f、
7iの位置を検出し、各電極7a〜7j上にバンブ8゛
を形成してい(。なおりメラ11は、すべての電極7a
〜7jを観察してもよく、あるいは本実施例のように、
選択されたいくつかの電極7a、7d、7f、71のみ
を観察してもよい。
このように、カメラ11をキャピラリ1と一体移動可能
に設け、カメラ11がキャピラリ1に先行して移動しな
がら、バンプ形成に先立って、チップ形状の良否や電極
7a〜7jの位置を先行観察するようにすれば、形状不
良のチップにバンプ8゛を形成する無駄がなくなる。ま
たチップ形状の良否と、ボール8を着地させる電極73
〜7jの位置の確認を同時に行えるので、きわめて作業
性よく且つ精度よくウェハー13上の電極にバンプ8゛
を次々に連続形成していくことができる。
またウェハー13の製造後に行われる製品検査において
、不良チップにバッドマークが付される場合がある。し
たがって上記カメラ11によりこのバンドマークが検出
されたならば、チップ形状の良否や電極を確認すること
な(、バンブ8′の形成を中止してもよい。更には、ウ
ェハー13は破線矢印すに示すようにダイシングされて
、一般に1000個若しくは数1000個以上の各チッ
プ6に細かく分割されるが、分割後に上記作業を行うと
、電極7a〜7jの位置ずれが生じていることから、カ
メラ1]による観察やバンブ形成作業が面倒となる。し
たがって上記のような作業は、ダイシング前の一体的な
ウェハーの状態で行うことが望ましい。
(発明の効果) 以上説明したように本発明は、 (a)キャピラリに挿通されたワイヤの下端部にトーチ
電極を接近させて、この下端部にボールを形成する工程
と、 (b)上記ボールを上記キャピラリの下端部によリチッ
プの電極に押し付けて、この電極にボンディングする工
程と、 (c)キャピラリを横方向に動かすことにより、上記ボ
ールとワイヤの接合部にダメージを与える工程と、 (d)クランパーによりワイヤをクランプして、ワイヤ
を引き上げることにより、上記ダメージが与えられた接
合部からワイヤを切断する工程と、 からバンブ形成方法を構成しているので、ワイヤを確実
にボールとの接合部から切断し、バンプ高のばらつきの
ないバンプをフォーミングよく形成することができる。
またダイシングにより分割される前のウェハーの状態に
おいて、カメラにより先行観察することにより、チップ
形状の良否や電極の位置を検出して、無駄なバンブ形成
を解消し、多数の電極に作業性よくバンブを連続形成す
ることができる。
【図面の簡単な説明】 図は本発明の実施例を示すものであって、第1図はバン
プ形成工程の斜視図、第2図は半田バンプの側面図、第
3図はボンディングツールの斜視図、第4図はウェハー
の平面図である。 1・・・キャピラリ 3・・・ワイヤ 4・・・クランパー 6・・・チップ 7・・・電極 8・・・ボール 8 ・・・バンブ 11・・・カメラ 13・・・ウェハー 第2図 第3図

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)(a)キャピラリに挿通されたワイヤの下端部に
    トーチ電極を接近させて、この下端部にボールを形成す
    る工程と、 (b)上記ボールを上記キャピラリの下端部によりチッ
    プの電極に押し付けて、この電極にボンディングする工
    程と、 (c)キャピラリを横方向に動かすことにより、上記ボ
    ールとワイヤの接合部にダメージを与える工程と、 (d)クランパーによりワイヤをクランプして、ワイヤ
    を引き上げることにより、上記ダメージが与えられた接
    合部からワイヤを切断する工程と、 から成ることを特徴とするバンプ形成方法。
  2. (2)キャピラリに挿通されたワイヤの下端部にトーチ
    電極を接近させて、この下端部にボールを形成した後、
    このボールをキャピラリの下端部によりウェハーの電極
    に押し付けてボンディングし、次いでこのワイヤを引き
    上げて切断するようにしたバンプ形成方法において、 バンプを形成するに先立って、キャピラリに一体的に設
    けられたカメラにより、ウェハーの電極を先行観察して
    、チップの良否と、電極の位置とを検出し、チップが良
    と判断されたチップについて、バンプを形成するように
    したことを特徴とするバンプ形成方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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US8792319B2 (en) 2012-05-29 2014-07-29 Pioneer Corporation Recording medium

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US7052984B2 (en) 2000-11-21 2006-05-30 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Bump formation method and bump forming apparatus for semiconductor wafer
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