JPH04364742A - 半導体装置の構造及び半導体装置の製造方法 - Google Patents

半導体装置の構造及び半導体装置の製造方法

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JPH04364742A
JPH04364742A JP3139327A JP13932791A JPH04364742A JP H04364742 A JPH04364742 A JP H04364742A JP 3139327 A JP3139327 A JP 3139327A JP 13932791 A JP13932791 A JP 13932791A JP H04364742 A JPH04364742 A JP H04364742A
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heating
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体素子を配線基板
上に実装した半導体装置の場合の実装構造及びその製造
方法に関する。
【0002】
【従来の技術】近年液晶表示体や、ICメモリーカード
等、一定面積の配線基板内に、複数の半導体素子を高密
度に、かつ薄く実装する需要が高まっている。
【0003】これらの要望に応えるべき実装方法として
、図4に示すごとく半導体素子1の能動面2を、配線基
板3上に配設した配線パターン4の導電粒子5を含む接
着剤6を塗布した接続部7と対向して配置した後、配線
基板3の固定用接着剤塗布部8に固定用接着剤9を塗布
し、半導体素子1の電極10と接続部7を整合して接着
剤6及び、固定用接着剤9を硬化させ半導体素子1の電
極10と、配線基板3に配置した配線パターン4の接続
部7とを導電粒子5により電気的に導通をとり接続する
方法が知られている。
【0004】この方式において、導電粒子5を含む接着
剤6の配置方法としては、図5に示めす断面図のごとく
マスク保持枠11に張られ、かつ配線基板3に配置した
配線パターン4の接続部7に合わせた開口部12を有す
る印刷マスク13を用いて、印刷マスク13の開口部1
2と、配線基板3の接続部7を整合した後、スキージ1
4により導電粒子5を含む接着剤6を配線基板3に配置
した配線パターン4の接続部7に印刷することからなる
スクリーン印刷方式や、導電粒子を含む接着剤を転写印
刷した後にYAGレーザーの照射や、赤外線ビーム加熱
等を用いて不用部分の導電粒子を除去する方法が用いら
れている。
【0005】このような配線基板3と半導体素子1との
接続は、図6に示す断面図のごとく配線基板3の固定用
接着剤塗布部8に、固定用接着剤9をポッティングある
いは転写印刷等の配置手段により塗布した後、半導体素
子1の電極10と、配線基板3の接続部7を整合して載
置した後、図示しない上下機構を有する加熱工具15に
より半導体素子裏面16より加熱、押圧することにより
、固定用接着剤9を硬化して、半導体素子1の配線基板
3への電気的な接続を可能としていた。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかし前述の従来技術
では半導体素子の電極と、配線パターンとの接続の場合
、加熱工具の加熱分布が不均一のため部分的な固定用接
着剤の硬化不良を起こしての電気的接続不良を起こし易
いという問題点を有する。
【0007】また、接続した半導体素子が不良品の場合
や、接続不良等の場合、再び半導体素子を、配線基板よ
り剥離して良品の半導体素子と交換しなければならない
。半導体素子を交換する場合には、再び半導体素子裏面
より再加熱を行い配線基板と、半導体素子とを剥離し、
その後基板に残る固定用接着剤を、溶剤等により取り除
かなければならないという問題点をも有する。そこで本
発明はこのような問題点を解決するために為されたもの
であり、その目的は基板上に接続した半導体素子を接続
する場合に、熱安定性の良い加熱が可能となり、また加
熱設計の可能な加熱手段と、剥離する場合、剥離しやす
い構造を有する半導体装置の実装構造及び実装方法を提
供するところにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明の半導体装置の構
造は、半導体素子の電極と、配線基板上の半導体素子の
電極と対向した配線パターンの接続部とを、接続して固
定用接着剤により固定するために、半導体素子の能動面
と対向した回路基板上に、配線基板の配線パターンと接
しない配線部を配置し、該配線部の外部接続端子部に、
電流を印可することにより、配線部を電気抵抗加熱して
固定用接着剤を硬化させ、また印可する電流量を増加す
ることにより半導体素子と、配線基板とを固定している
接着剤を剥離させることを特徴とする。
【0009】
【作用】本発明の構成によれば、半導体素子の能動面と
対向した配線基板上に、配線基板の配線パターンと接し
ない配線部を配置し、該配線部の外部接続端子に電流を
印可することによって配線部を電気抵抗加熱することが
できる。配線部の配線は、通常ニッケル、クロム、ある
いはその合金等で作られて、金や銅等による配線と比較
して電気抵抗の高い金属配線を用いる。この配線部に電
流を印可して電気抵抗加熱を行うことにより、固定用の
接着剤層を直接加熱することが可能となる。また、接続
した半導体素子の機能不良や接続不良が発生した場合に
は、印可電流を増加することにより、加熱温度を上昇さ
せて配線基板上に接続した半導体素子の剥離を行うこと
が可能となる。
【0010】
【実施例】図1は本発明の一実施例における配線基板の
正面図であり、3は配線基板、4は配線パターン、7は
半導体素子1の電極10と対向して配置された配線パタ
ーン4の接続部である。17は配線部であり、配線パタ
ーン4と接しないように半導体素子1の配置範囲18に
配設した加熱部分20を有する。配線部17の外部接続
端子19は、半導体素子1の配置範囲18の外部に延長
して配置した。
【0011】配線基板3にはガラス製の液晶表示体を用
い、ガラスの配線基板3上に透明導電膜(ITO)へニ
ッケルメッキを施した配線パターン4を配置した。
【0012】配線部17は、同じく透明導電膜(ITO
)上へニッケルメッキを施して形成し、加熱部分20の
配線は、約40μmの配線幅で、配線ピッチは約100
μmとした。  このような配線基板3を用いた半導体
装置の構造を図2の断面図により説明する。1は半導体
素子、10は半導体素子の電極、4は配線パターン、7
は半導体素子1の電極10と対向して形成された配線パ
ターン4の接続部であり、17は配線部、5は導電粒子
、6は接着剤である。配線基板3上に配置された配線パ
ターン4と、半導体素子1の電極10は、導電粒子5に
より、電気的に導通がとられており、配線基板3と、半
導体素子1は、固定用接着剤9により固定されている。
【0013】図3の断面図により、本発明の半導体装置
の製造方法を説明する。配線基板3の接続部上に導電粒
子5を配置し、配線部17上に固定用接着剤9を塗布し
た後、接続部と、半導体素子1の電極を整合する。半導
体素子裏面16より押圧子21により接続に必要な圧力
を確保した後、配線部17の外部接続端子19に加熱電
源端子22を接続する。図示しない加熱電源より加熱電
源端子22、および外部接続端子19を介して配線部1
7の加熱部分20の配線に電流を流すことにより、加熱
部分20を加熱することができる。
【0014】以上により配線部17の加熱部分20を約
150℃に加熱することにより、固定用接着剤9を硬化
して半導体素子1の電極と、配線パターンとの導電粒子
5による接続を終了する。この後、電気特性試験を行っ
た結果、半導体素子1の機能不良や、接続不良等の不具
合が発生した場合には、再び、配線部17の外部接続端
子部19と、加熱電源端子22とを接続して、図示しな
い加熱電源より加熱電源端子22及び外部接続端子19
を介して加熱部分20の配線に、接続時より高い温度と
なるように電流を流すことで、固定用接着剤9による半
導体素子1と、配線基板3との接着部分を剥離すること
ができる。
【0015】以上説明した実施例においては、半導体素
子の電極と配線基板の電気的な接続に導電粒子を用い、
配線基板にはガラス基板を用いて説明したが、半導体素
子の電極としてバンプと呼ばれる突起電極を用いたり、
また配線基板として、アルミナセラミック基板等のセラ
ミック基板や、ガラスエポキシ積層基板等を用いても固
定用接着剤の硬化のために、配線基板上に配置した配線
部の加熱部分を電気抵抗加熱により昇温する半導体装置
の構造は本発明に含まれる。
【0016】
【発明の効果】以上述べたごとく本発明によれば、半導
体素子の電極と、半導体素子の電極と対向する位置に配
線パターンを有する配線基板からなり、半導体素子の電
極と、配線パターンとを接続することからなる半導体装
置の構造において、配線基板の、半導体素子の能動面と
対向する位置に、配線パターンと接しない配線部を配置
し、配線部より延長した配線部の外部接続端子は、半導
体素子の配置範囲の外部に有することにより、外部接続
端子を通して電流を印可して、配線部を電気抵抗加熱す
ることができる。
【0017】これにより、加熱工具による半導体素子裏
面よりの加熱接続に比較して、配線部の配線密度及び配
線形状を配線基板の放熱状態に合わせて変化させて配置
することにより、接続部の均一な加熱が可能となる。
【0018】また本発明によれば、配線基板上に配置し
た配線部を電気抵抗加熱することにより、固定用接着剤
の硬化時間を、従来方法に比較して短時間にすることが
可能となり、その硬化温度も従来方法に比較して低温度
で硬化することが可能となる。  あわせて半導体素子
の交換等の理由により半導体素子を配線基板より剥離す
る場合には印可電流を増加することで、加熱温度を上昇
させて、接続してある接着剤を剥離させることが可能と
なるという、効果をも有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による配線基板の正面図。
【図2】本発明の半導体装置の構造の断面図。
【図3】本発明による半導体装置の製造方法を説明する
断面図。
【図4】従来の半導体装置を示す断面図。
【図5】導電粒子の配置方法を示す断面図。
【図6】従来の半導体装置の製造方法を説明する断面図
【符号の説明】
1  半導体素子 2  能動面 3  配線基板 4  配線パターン 5  導電粒子 6  接着剤 7  接続部 8  固定用接着剤塗布部 9  固定用接着剤 10  電極 11  マスク保持枠 12  開口部 13  印刷マスク 14  スキージ 15  加熱工具 16  半導体素子裏面 17  配線部 18  配置範囲 19  外部接続端子 20  加熱部分 21  押圧子 22  加熱電源端子

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  半導体素子と、前記半導体素子の電極
    と対向する位置に、配線パターンを有する配線基板から
    なり、前記半導体素子の電極と、配線パターンとを電気
    的に接続して、前記半導体素子と、配線基板の固定に接
    着剤を用いる半導体装置の構造に於て、該配線基板の、
    半導体素子の能動面と対向する位置に、前記配線パター
    ンと接しない配線部を配置し、該配線部の外部接続端子
    は、前記半導体素子の配置範囲の外部に有することを特
    徴とする半導体装置の構造。
  2. 【請求項2】  半導体素子と、前記半導体素子の電極
    と対向する位置に、配線パターンを有する配線基板から
    なり、前記半導体素子の電極と、配線パターンとを電気
    的に接続して、前記半導体素子と、配線基板の固定に接
    着剤を用いた構造の半導体装置において、配線基板の、
    半導体素子の能動面と対向する位置に、前記配線パター
    ンと接しない配線部を配置し、該配線部の外部接続端子
    は、前記半導体素子の配置範囲の外部に有することを特
    徴とする半導体装置の製造方法。
JP3139327A 1991-06-12 1991-06-12 半導体装置の構造及び半導体装置の製造方法 Pending JPH04364742A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1085568A1 (en) * 1999-09-17 2001-03-21 STMicroelectronics S.r.l. Method for the electrical and mechanical interconnection of microelectronic components

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1085568A1 (en) * 1999-09-17 2001-03-21 STMicroelectronics S.r.l. Method for the electrical and mechanical interconnection of microelectronic components
US6423938B1 (en) 1999-09-17 2002-07-23 Stmicroelectronics S.R.L. Method for the electrical and/or mechanical interconnection of components of a microelectronic system

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