JPH04356993A - プリント基板の製造方法 - Google Patents

プリント基板の製造方法

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JPH04356993A
JPH04356993A JP3123970A JP12397091A JPH04356993A JP H04356993 A JPH04356993 A JP H04356993A JP 3123970 A JP3123970 A JP 3123970A JP 12397091 A JP12397091 A JP 12397091A JP H04356993 A JPH04356993 A JP H04356993A
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printed circuit
circuit board
copper foil
plating layer
laser
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Kunio Arai
荒 井  邦 夫
Yasuhiko Kanetani
金 谷  保 彦
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、プリント基板の製造方
法に係り、特に炭酸ガスレーザでプリント基板に直接穴
明けするのに好適なプリント基板の製造方法に関するも
のである。
【0002】
【従来の技術】炭酸ガスレーザで発振されたレーザ光を
プリント基板に照射すると、そのレーザ光は、プリント
基板の表面の銅箔で反射され、加工できない。このため
、レーザでプリント基板の穴明け加工を行う場合には、
予めエッチングやドリル加工によって、穴加工位置の銅
箔を除去したのち、レーザ光を照射している。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記のように、レーザ
照射位置の銅箔を予め除去する製造方法では、プリント
基板に形成された同一の基準穴を用いて、プリント基板
を位置決めして加工しても、各機械の精度やくせによっ
て銅箔に形成された穴とレーザ照射位置にずれが生じる
【0004】プリント基板に形成する穴の径が大きい場
合には、銅箔に形成された穴とレーザ照射位置が多少ず
れていても、プリント基板の特性に影響を与えることは
ないが、穴の径が0.1mmから0.3mmの小径穴に
なると、基板に形成される穴が変形し、内装と外装の接
続が不十分になるなど、プリント基板の特性に悪影響が
でるようになる。
【0005】本発明の目的は、上記の事情に鑑み、レー
ザ加工のみで、銅箔および基板に穴明けを行うようにし
たプリント基板の製造方法を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明においては、プリント基板の表面に凹凸の多
いメッキ層を形成し、さらにその表面を合成樹脂で被覆
した。
【0007】
【作用】そして、照射されたレーザ光のエネルギーの吸
収効率を向上させると共に、メッキ層の凸部を溶融させ
ることにより、メッキ層および銅箔の溶融を促進させ、
レーザによる穴明けを可能にした。
【0008】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図1ないし図8に
基づいて説明する。まず、図1および図2に示すように
、合成樹脂製の基板1の表面に、厚さが数μmから7μ
mの銅箔2が貼設されたプリント基板Pの表面に、厚さ
が数μmから10μmの凹凸の多いメッキ層3を形成す
る。
【0009】ついで、図3に示すように、メッキ層3の
表面に、たとえば、ワニス、エポキシ系もしくはゴム系
の合成樹脂を塗布して、被覆層4を形成する。
【0010】そして、図4に示すように、炭酸ガスレー
ザから発振されたレーザ光5を照射して、一方の被覆層
4、メッキ層3、銅箔2および基板1を貫通し、他方の
銅箔2に達する穴6を形成する。
【0011】このようにして、所要の穴明けが終ると、
図5に示すように、穴6内の残留物と被覆層4を除去す
るため洗浄される。
【0012】ついで、図6に示すように、メッキ層3の
表面および穴6内にメッキ層7を形成し、基板1の両面
に貼設された銅箔2を電気的に接続する。
【0013】そして、図7に示すように、エッチングを
行って、回路パターン8を形成したのち、図8に示すよ
うに、レジスト被膜9を形成する。
【0014】上述のように、銅箔2と基板1をレーザ光
により同時に加工することにより、それぞれを別工程で
加工するような位置ずれの心配は全くなくなり、小径穴
も確実に明けることができる。
【0015】
【発明の効果】以上述べた如く、本発明によれば、プリ
ント基板の銅箔の上に、凹凸のあるメッキ層を形成し、
さらにその上を合成樹脂で被覆して加工するようにした
ので、従来のように、予め銅箔を除去することなく、レ
ーザ加工のみでプリント基板の加工を行うことができる
【図面の簡単な説明】
【図1】プリント基板にメッキ層を形成した状態を示す
工程図。
【図2】図1のA部の拡大図。
【図3】被覆層を形成した状態を示す工程図。
【図4】穴明け状態を示す工程図。
【図5】洗浄状態を示す工程図。
【図6】メッキ層の形成状態を示す工程図。
【図7】回路パターンの形成状態を示す工程図。
【図8】レジスト被膜の形成状態を示す工程図。
【符号の説明】
1    基板 2    銅箔 3    被覆層 5    レーザ光

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  合成樹脂製の基板の表面に、厚さが3
    μmから7μmの銅箔苦を貼設して成るプリント基板の
    表面に、厚さが数μmから10μmの凹凸の多いメッキ
    層を形成し、このメッキ層の表面にレーザ光のエネルギ
    ーを吸収させる合成樹脂で被覆したのち、レーザ光を照
    射して、プリント基板に穴明けを行うことを特徴とする
    プリント基板の製造方法。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000183501A (ja) * 1998-12-17 2000-06-30 Alps Electric Co Ltd 成形品への導電性パターンの形成方法
WO2001078473A1 (fr) * 2000-04-05 2001-10-18 Nikko Materials Company, Limited Tôle laminée cuivrée
JP2002299794A (ja) * 2001-04-03 2002-10-11 Ibiden Co Ltd ビアホールの形成方法およびビアホールを有する積層配線板

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